JPS6019791A - フルオロビニルチオオキサセフアロスポリン類 - Google Patents

フルオロビニルチオオキサセフアロスポリン類

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JPS6019791A
JPS6019791A JP58128116A JP12811683A JPS6019791A JP S6019791 A JPS6019791 A JP S6019791A JP 58128116 A JP58128116 A JP 58128116A JP 12811683 A JP12811683 A JP 12811683A JP S6019791 A JPS6019791 A JP S6019791A
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康宏 西谷
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務 青木
Toshiro Konoike
鴻池 敏郎
Tadatoshi Kubota
忠俊 久保田
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    • C07D505/00Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はフルオロビニルチオオキサセファロスポリン
誘導体、とくに抗菌剤々どとして有用な下記化学構造式
で表わされる7β−(カルボキサミドフルオロビニルチ
オアセトアミド)−3−(1−置換メチル−I H−テ
トラゾール−5−イル)チオメチル−1−デチアー1−
オキサー3−セフェム−4−カルボン酸の誘導体(I)
に関する=(式中、B・1は水素まだはアルキル基を、
1t2t6(保j1φされていても」口いlニドロギ・
ジメチル、カルバモイル−f /i−kJアルキルカル
バモイル基ヲ、n3げ水素原子、軽金属原子7またはカ
ルボキシ保護基を、 それぞれ示す。) 」二式(1)中、■(,1て表わされるアルキル基お。
1;びr(?で表わされるアルキルカルバモイル法にお
けるアルキル基としてに、低級アルギル、とくに炭素数
1〜3のアルキル I(、′で表わさり,る)1(2にiキ1れていること
もある保護基としでに1、、当分野で常用のもの、たと
えばアラルキル;炭酸アシル、アルカノイル、アラルカ
ッイル、アロイルなどのアシレート形成基;メトキシメ
チル、テトラヒドロピラニルなどのアセタール形成基な
どを例示できる。特に分子中の他の部分に悪影響なくχ
1脱できるととが知られている部分構造を有するス(が
好ましい。
カルボキン誘・浮体 1(1で表されるカルボ、1−/保護基どしては、ペニ
シリン、セファロスポリンの化学の分野で、分子中の他
の部分に不都合な変化を起こすことなく着脱可能のもの
として知られている保護基、たとえばアラルキルエステ
ル(ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、メ
トキンベンジル、工トキ7ベンジル、ニトロベンジル、
アミノベンシル、ジフェニルメチル、フタリジル、フェ
ナシルなどのエステル)、!F”を換アルギルエステル
(トリクロロエチル、j−ブチル、アリルナトのエステ
ル)、アリールエステル(ペンタクロロフェニル、イン
ダニルなどのエステル)、N−ヒドロキシアミン化合物
のエステル(アセトンオキシム、アセトフエノンオキシ
ノ、、アセトアルドキシム、N−ヒト【Jギンこはく酸
イミド、N−ヒドロキシフタルイミドなどとのエステル
)、炭酸またはカルボン酸との酸無水物などがを構成す
る保蒋基がある。置換アミド、置換ヒドラジドなどで反
応性の高いアミドも均等なカルボキシ保護基として、こ
れに含めるものとする。この保護基部分は前記のような
各種置換分を有していてもよい。
これらは、最終目的物においては脱離してしまうので、
保護の目的を達するものであれば、その構造C1必ず[
、もΦす2な音味をもたないことか多く、広範囲な均籠
基との交換かり能である。
とくに有用なカルボキシ保護基に1医薬用(C適するも
のとして当業者に,1:〈知られている誘導体で、主と
して軽金属塩と薬理学的活V1′.エステルがある。
(薬理学画情1/1エステル) 薬理学的活性エステルに1主に経口捷たは非経口投与に
おいて強い抗菌性を示すエステル、とくに置換アルギル
エステル(アルカノイルオキシアルキルエステル、アル
コギルホルミルオキシアルキルエステル、メI・ギルメ
チルエステル、テトラヒドロヒラニルエステル、2−オ
キソ−1 、 3−ジオキソレニルメチルエステルなど
)、置換アラルキルエステル(フェナシルエステル、フ
タリジルエステルナト)、置換アリールエステル(フェ
ニルエステル、ギシリルエステル、インダニルエステル
など)がよく知られており、化合物(T)にも利用でき
る。
軽金属塩としてに1、好捷しくに周期律表第■〜Ill
属、第2〜4周期に属する、生理学的に受容しつるイオ
ンとなりうる軽金属原子の塩、とくにリチウム、ナトリ
ウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニ
ウムなどの塩を例示できる。
アルキル・アシル、アリールの説明 前記各基の定義中、アルキル部分は直鎖、分枝寸だは環
状のアルギル基である。アシル部分は、直鎖、分枝捷た
は環状のアルカノイル、アルケノイル、カルボアルコキ
シ、カルバモイル、スルホ、アルキルスルホニル、スル
ファモイル、アリール部分が窒素、酸素、硫黄などのへ
テロ原子を有する異項環であってもよい単環または双環
のアロイル、アラルカッイル、アリールアルケノイル、
カルボアラルコキシ、アリールスルホニルなどのアシル
基である。
アリール部分は、単環または双環の、5員環または6員
環アリール基であって、骨格に窒素、酸素、硫黄などの
へテロ原子を有する異項環であってもよい。
ここに、異項環基の代表例としては、ピロリル、フリル
、チェニ刀ハ ビラソ゛リル、イノキノリル、オギザゾ
リル、チアゾリル、トリアゾリル、オキザジアゾリル、
チアジゾリル、テトラゾリル、オ△ ギザトリアゾリル、チアトリーアゾリル、ピリジル、ピ
ロニル、チオピ■−1ニル、ピリミジル、ピラジニル、
ピリダジニル、トリアジニル、インドリル、ペンツ゛ノ
リル、ベンツ゛ナエール、テトラン゛口ビリダジニル、
プリニル、−キノリル、イノキノリル、ピリドピリジル
、ベノゾピロニルなどがある。
化合物(()す;1好気I11.ま/(−VJ嫌気1ノ
ー、のグラム陽性菌(ブドウ球菌なと)、グラノ・陰性
菌(大腸菌など)にたいしで抗菌作用肴:示[−1感受
性細菌の殺菌、静菌用に細閑感fia JllのP防、
治療のだめの医薬、動物薬、(=シて、1/こ消ii7
剤、防腐剤、保存剤などとしても不1月1でへる。
化合物(1)υ−1安定で、ちり、副作JTIが少なく
、さら((他剤面+ +’L菌にもイfl:IJJ々抗
菌作用や吸収、分布、代謝、111411などの薬理学
的![”?li−の点ですぐれている。とくに、グラム
陽1〆1閏に対する抗菌力、低毒性、高血中濃IWなど
については將しい長所を示す。
]入貼として利用するときは、要すれは常用の添加剤を
加えて製剤化し、これを化合物(1)として外用でkl
: I O/19〜1〜9、静)派注射でUo、2〜5
.!?、経「1投−りでは1〜2μの日用量で外用、局
所、経I」、注射など常法により投Ijすれば、感受性
細菌感染症を予防寸だは治療することができる。
このような製剤としては、アンプル剤、バイヤル剤、粉
剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、錠剤、ドライシ
ロップ剤、けんだく剤、液剤、乳剤、軟こう剤などとし
て、注射剤、内服剤、吸入剤、湿布剤、点眼剤、点鼻剤
、点耳剤、口腔剤、平削、スプレー剤々とを例示でき、
それぞれ内用、外用寸たは局所投匈用などに利用できる
化合物(I)のうち、カルボン酸と軽金属塩は静脈注射
、点滴、筋肉注射、皮内注射、皮下注射用などに、要す
れば安定化剤や溶解補助剤とともに、アンプル剤、バイ
ヤル剤などの注射剤として利用できる。薬理学的活性エ
ステルは粉剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、ドラ
イシロップ剤、液剤、錠剤、けX7だく剤などとして内
服用に、また、液剤、乳剤、軟こう剤、平削、スプレー
剤などとして外用ないし局所投りにも利用できる。
化合物(1)&j:、−4/ζ、その定義内外の他の抗
菌化合物の合成原料−や細菌の感受性検定試験用拐料な
どとして利用するとともてきる。
化合物(■)は、以下に記載する方法で製造することが
できる。
1)塩の製造 1−デチアー1−オキザセフエム環の4位置換基がカル
ボキシである化合物(1)に塩基を作用させるか、交換
分解t、I:、Vこ。1:す他種カルボン酸の軽金属塩
を作用させると軽金属塩である化合物(I)を製造でき
る。操作法はこの分野で用いられている方法を適用でき
る。たとえば、遊離酸を炭酸水素軽金属塩で中和する方
法、アルコール、ケトン、エステルなどの極(ag有機
溶媒中、低級カルボン酸アルカリ金属塩を作用させたの
ち、難溶性溶媒を加えて目的とする塩を析出させる方法
などが好捷しい。
反応は通常50°Cは下で行なうと1〜10分間で終了
するが、副反応がなければさらに長時間放置することも
できる。
とのようにして製造した塩は、結晶、粉末などの固体と
して分離し、要すれば添加剤を加えたのち、常法により
製剤化するか、凍結乾燥法などに」:リバイヤル剤どし
て抗菌製剤として利用できる。
2)カルボキシ保護基の脱離 カルボキン保護基をもつ化合物(I)は、当技術分野で
常用の脱保護反応に付して遊離カルボキシ化合物(r)
とすることができる。この脱保護反応には、たとえば下
記のような、この分野で常用の操作法を適用することが
できる。
a)反応性の高いエステル、アミド、無水物などの形の
カルボキシ保護基は酸、塩基、緩衝液、イオン交換樹脂
などと水性溶液中で接触させれば脱保護できる。反応性
が低いときにも、公知の方法によって反応性を高めれば
、容易に脱保護することができる場合もある。代表例に
は、たとえばトリクロルエチルエステルに金属と酸、p
−ニトロベンジルエステルに接触還元やジチオン酸塩、
フェナシルエステルに光照射などの活性化方法がある0 1〕)アラルキルエステルは内命、パラジウム、ニッケ
ルなど触媒の存在下に水素を常法により作用させて接触
還元すれば脱保護できる。
C)アラルキルエステル、シクロプロピルメチルエステ
ル、スルホニルエチルエステルなトハ加溶媒分解反応な
どVこ1、って脱保護できる。この反応では鉱酸、ルイ
ス酸(14X化アルミニウム、塩化スズ、四塩化チタン
など)、スルホン酸(メタンスルホン酸、I・リフルオ
ロメタンスルホン酸など)、強酸性カルボン酸(トリフ
ルオロ酢酸など)などを要すわ、げカチオン捕捉剤の存
在下に作用させる。
d)フェナシルエステル、アルケニルエステル、ヒドロ
キシアラルキルエステルなどは、塩基や核剤などの作用
で、−土だ、光化学的活性なフェナシルエステル々とは
光照射により脱保護できる。
e)2−アルケニルエステルにアルカン酸アルカリ金属
とパラジウト一トリフェニルホスフインを作用させれば
アルカリ金属塩を製造できる。
f)その他、均等なカルボキシ保護基脱離法を用いるこ
とができる。
3)3位置換基の導入 化合物(r)の3位が脱離基置換メチル基である原i:
;+化合物に対応する異項環チオールまたはそれらの反
応性誘導体を作用させれば目的とする化合物(1)を製
造することができる。ここに、脱離基としてはハロゲン
、スルホニルオキシ、アルカノイルオキ/、ジハロアセ
トキシ、トリハロアセトキンなどの活性脱離基がよい。
前記チオールの反応性誘導体としては、アルカリ金属塩
、アンモニウム塩、カルボン酸エステルなどが好寸しい
。反応は無水溶媒中でも、含水溶媒中でも0°C〜60
°Cで十分進行する。この反応は脱水剤、塩化ホスホリ
ル化合物などにより、促進される。
4)アミド化 下記アミン(II)吐たけその反応性誘導体にカルボン
酸(III) tだはその反応性誘導体を作用させれば
、目的とする化合物(■)またはその誘導体を製造でき
る。
(1) アミン(II)の反応1/1゛誘導体としては7位のア
ミン基が、シリル基(+−リメチルシリル、メトキシジ
メチルシリル、1シーブチルジメチルシリルなど)、ス
タニル基(トリメナルスタニルなど)、アルキレン基(
アルデヒド、アセトン、アセチルアセトン、アセト酢酸
エステル、アセトアセトニトリル、アセトアセトアニリ
ド、シクロペンタンジオン、アセチルブチロラフ!・ン
などと結合した形のエナミン基を形成する基)、アルキ
リデン基(1−)・ロアルキリデン、1−・・ロアラル
ギリデン、1−アルコキシアルキリデン、1−アルコキ
シアラルキリテン、1−アルコキシ−1−フェノキシア
ルキリデン、アルキリデン、アラルキリデンなど)、酸
(鉱酸、カルボン酸、スルホン酸などとの塩の形で)、
外れ易いアシル基(アルカノイルなど)、その他の基で
活性化されたものと、分子中の他の官能基を前記のよう
に保護したものなどを例示できるO カルボン酸(11)の反応性誘導体は酸無水物、酸ハロ
ゲン化物、活性エステル、活性アミド、アジドなど常用
のアシル化用誘導体である。
イげi ハ シシクロへキシルカーポジイミドなど)、カルボニル化
合物(カルボニルジイミダゾールなど)、インキサシリ
ニウム塩、アンルアミノ化合物(2−−1)キシ−1−
エトキシカルボニル−1,2−ジヒドロキノリンなど)
、アミド化酵素、その他〕の存在下、好ましくは活性水
素のない溶媒(ハロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテ
ル、アミド溶媒などとその混合物)中、好ましくはアミ
ン(ロ)に対してカルボン酸(In) 1〜2モルと縮
合剤1〜2モルを作用させる。
11)酸無水物 これに(r:i )yルボン酸(■)
の対称無水物、混合酸無水物〔鉱酸(りん酸、硫酸、炭
酸半エステルなど)、有機酸(アルカン酸、アラルカン
酸、スルホン酸など)との混合無水物など〕、分子内無
水物(ケテン、イソシアネートなど)、酸・・ロゲン化
物(・・ロゲン化水素との混合無水物)などを含む。
好1しくに酸無水物1〜2モルを、1〜0モルの酸捕捉
剤〔無機IJ、i 基(アルカリ金属、アルカリ土類金
属々どの酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩など〕、
有(幾塩基(第三級アミン、芳香族塩基など)、オキシ
ラン(アルギレンオキシド、アラルキl/ンオキ/ドな
ど)、ピリジウム塩(三鷹△ 化トリビリジニウノ・トリアジンなど)、吸着剤(セラ
イトなど)、その他〕の存在下、好寸しくに活性水素不
含の溶媒(・・ロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテル
、アミド溶媒など捷たはその混合物)中1だ汀ショツテ
ン バウマン反応条件下、水I11.溶媒中、アミン(
n) tたはその反応性誘導体と反応させる。
■)酸ハロゲン化物 これ(1カルボン酸(III)の
ハロゲン化水素酸との混合酸無水物であって、前項に準
じて酸捕捉剤1〜10モルの存在下、溶媒(と(K、ハ
ロゲン化水素、ニトリル、エーテル、エステル、ケトン
、ジアルキルアミド、水系溶媒など、寸たはその混合物
)中1だはショツテン・バウマン反応条件下水性溶媒中
、アミン(■罰たはその反応性誘導体1モルに対して酸
・・ロゲン化物、好ましくは1ないし2モルを作用させ
る。
Iv)活性エステル とれにはカルボン酸(Ill)の
エノールエステル(ヒニルエステル、インプロペニルエ
ステルなト)、アリールエステル(フェニルエステル、
ハロフェニルエステル、ニトロフェニルエステルなど)
、異項環エステル(ピリジルエステル、ベンゾトリアゾ
リルエステルなど)、N−ヒドロキシ化合物とのエステ
ル、ジアシルヒドロキシルアミンとのエステル(N−ヒ
ドロキシフタルイミド、N−ヒドロキシフタルイミドな
どとのエステル)、チオールエステル(アラルキルチオ
ールエステル、テトラゾリルチオールエステル々と)そ
の他の公知の活性化エステル基によるアンル化剤を含む
5、これらの活性エステルは、例えば、後記の、〕:う
な方法で反応させる。また、低級アルキルエステルのよ
うな酵素化学的活性エステルは、水性溶媒中アミド化酵
素の存在下に常法により反応さぜる。
■)活セ]ニアミド これにはカルボン酸(rn)の芳
香族アミド(イミダゾール、トリアゾール、2−エトキ
シ−1,2−ジヒドロギノリンなどとのアミド)、ジア
シルアニリンなどが含まれる。これも、たとえば後記の
ような条件下に反応させる。
vl) ホルムイミノ化合物 たとえばカルボン酸(r
ll)のN、N−ジメチルホルムイミノエステルハライ
ドなどである。
前記したIV)〜vt)の反応においては、好1しくは
活性水素不含の溶媒(・・ロゲン化炭化水素、エーテル
、ケトン、二]・リル、エステル、アミド系溶媒など1
プこはその混合物)中、アミン(n)またはその反応1
1・誘導体1モルに対してカル7Ii :/酸(III
)の反応性誘導体1〜2モル当量を一20°C−/IO
°Cで1時間〜5時間作用させる。
5)メトキシ化 化合物(T)の7位にメトキシ基のない化合物にN−ハ
ロゲン化剤、脱ハロゲン化水素剤とメタノールとを順次
作用させれば、対応する化合物(+)を製造できる。こ
の際7位水素の立体配位には係わりなく7β−アミド−
7a−メトキシ体が生成する。
操作方法には例えば次のようなものがある。
a)アルキルヒポクロリド(t−ブチルヒポクロリドな
ど)とアルカリ金属メトキシド(リチウムメチレート、
ナトリウムメチレートなど)とをメタノール中で作用さ
せる。
1))ハロゲン分子と塩基(リチウムメトキシド、ナト
リウムメトキシド、マグネシウムメトキシドなど金属ア
ルコキシド、DBU、トリエチルアミン、ピコリンなど
)とをメタノール中で作用させる。
C)次亜ハロゲン酸塩、次亜ハロゲン酸エステル、N−
ハロアミド、N−ハロイミドなどのN−ハロゲン化剤と
アルノノリ金属アルコキシド、アリールアルカリ金属な
どの脱ハロゲン化水素剤を作用させたのち、メタノール
を作用させる。
d)その他尚技術分野で用いられている方法。
6)カルボギン基その他の反応1〈14官能基の保護前
記各製造法において、捷だ、化合物(I)に化学。
反応を施こして、他の化合物(1)などに変化させると
きなどに、目的とする基以外の反応性官能基を保護して
おく必要がある場合がある。この場合、その反応性官能
基の種類に応じてこの分野でしく用いられている方法を
応用して保護することができる。このような方法に各種
数置に詳述されている。
前記各項における反応性基の保護のだめの保護基および
その導入、脱離法については、例えばJ。
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s Aca、demicPreee、 N、Y、 (1
972)などの数置ないし各種特許文献などに詳記され
ている方法を利用することもできる。
たとえば、ヒドロキシ基にはアシル化、エーテル化など
、アミン基にはアシル化、エナミン化、シリル化など、
カルボキシ基にはエステル化、アミド化、酸無水物化な
どを常法により施こすことができる。また、薬理学的性
質を改変して所望の11質を与えるために、薬理学的活
性エステルとする場合も、この項の反応に含めるものと
する。この場合、カルボン酸(1)に塩基を作用させて
塩とし、これに所望エステル基のハライドを作用させて
目的とする化合物(【)を合成することもできる3、7
)反応条件 前記合成方法(]) −(6)は通常−30°C〜10
0°C1とくに一20°C〜50℃の温度で10分間〜
10時間かけて反応させることが多い。これらは溶媒中
、要すれば無水条件下に実施する。その他の常法は、い
ずれも適用できる。
反応用溶媒としては、炭化水素(ペンタン、ヘキサン、
オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、など)、ハ
ロゲン化炭化水素(ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロ
ベンゼンナト)、エーテル(ジエチルエーテル、メチル
ベンゾチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
など)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキザノンなど)、エステル(酢酸エチル、酢酸イソ
ブチル、安息香酸メチルなど)、ニトロ炭化水素にトロ
メタン、ニトロベンゼンナト)、ニトリル(アセトニト
リル、ベンゾニトリルなど)、アミド(ホルムアミド、
アセトアミド、ジメチルホルノ・アミド、ジメチルアセ
トアミド、ヘキザメチルホスホロトリアミドなど)、ス
ルホキシド(ジメチルスルホキシドなど)、カルボン酸
(ギ酸、酢酸、プロピオン酸など)、有機塩基(ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピリコン、コ
リジン、キノリンなど)、アルコール(メタン(21) −ル、エタノール、フロパノール、ヘキサノール、オク
タツール、ベンジルアルコールなト)、水、その他の系
列に属する工業用溶媒またはその混合物を例示できる。
。 8)後処理 目的とする生成物に1反応液から未反応原料、副ハ 用の後処理法を組合せて処理すれば単離することができ
る。
9)実施例 」ユ下に実施例を示して本発明の詳細な説明する。
生成物の物理定数は、表に捷とめて記載した。
表中、JR・ば、dl値を、NMT(・はδ値を、・■
値は結合定数をTTZ値で示す。
実施例中、量を表わす部は原木」β−ラクタム1重量部
に対する重■の割合を、モル当量数は原料β−ラクタム
1モルに対するモル数を示す。
実施例中の後処理Qては、通常は反応液に、必要に応じ
て水、酸、ジクロロメタンなどの溶媒を加(771 え、分液したのち、有機層を水洗、乾燥、減圧濃縮して
(i7られる残留物を、心安なら/す力ゲルクロマI・
グラノィーで精製したのち、結晶化、沈殿、口過などで
採1■する方法などを組合わせて用いる。生成物の物理
定数の測定値は別途合成品の値と一致する。
使用1また略+Jに1.1ソ、ドの通りである。
T’ h−フェニル M El−メタンスルホ−ニル MO−メチル El,=エチル 実施例1(すi・リウム塩、製剤、用法)カルボン酸(
1) 1 9を0.5%炭酸水素ナトリウム水57nl
にとかし、塩酸でpl+ 7とし、酢酸エチルで洗い、
脱塩したのち、107耐バイアルに入れ、常法により凍
結乾燥すノ1,げ、対応するすトリウム塩(2)の粉末
を得る。
無菌条件下に製造した上記ナトIJウム塩1g全注射用
蒸留水49に.とかし、ブドー球菌81;a.phy]
.OCOCC11E] aureu.8感染庁の患者に
一日二回づ゛つ静脈注射すれば、この感染症を治療する
ことができる。
このナトリウム塩(2)をとり、日本化学療法学会所定
の方法に準じ最小発育阻止濃度を測定すれば、溶血性連
鎖球菌Streptococcu.s pyogene
s C 203に対し0. ] pg.An6以下、大
腸菌Escherj.chja co旦、TO−2 K
対して0. 1 /IgA”l以下の価を示す。
実施例2(脱エステル化) r+.1= −C1120,H,Of−] ]j,ーp
,−4 1−I B −CITPh 21)p−メトキ
シベンジルエステル“またはジフェニルメチルエステル
(+) 1部をジ,り自ロメタン03〜3部、トリフル
オロ酢酸03〜3部およびアニソール05〜5部に溶か
し、−10〜40℃で10分〜3時間かきまぜる。反応
液を減圧下に濃縮して溶媒と試薬を留去し、残留物をベ
ンゼンで洗えば対応する遊離酸(2)を70〜90係の
収率で製造できる。
2)前記出発物質(1)1部をジクロロメタン5〜9部
とアニソール2〜8部の混液にとかし、−10〜10°
Cで塩化アルミニウムまたは四塩化チタニウム2〜4モ
ル当眼ヲ加えたのち、1〜3時間かきま田る。反応液全
桁塩酸と水で洗い、乾燥したのち濃縮すれば、対応する
遊離酸(2)を80〜95係の収率で製造できる。
実施例3(メトギン化) 7α−アミド−3−置換メチル−1−オキサ−△ 3−セフェム−4−カルボン酸誘導体(1) 1部をジ
クロロメタン10部にとかし、第三級ブチルヒポクロリ
ド1.1モル当量を加えて一20°Cに3時間数ffす
る。これて12モル当量のりチウムメトキシドをメタノ
ールにとかして加え、30分間反応させる。反応液を酢
酸酸性とし、ジクロロメタンで希釈する。これを水洗、
乾燥し、減圧濃縮すれば対応する7β−アミド−7a−
メトキシ−3−置換メチル−1−デチアー1ーオキサー
3−七フエノ・−4−カルボン酸誘導体(2)を40−
85%の収率で製造できる。
実施例4(アミド化) ト式のアシル1に反応により、対応する7β−アミン化
合物(2)1モルIC1例えば次の方法によって、78
位側鎖にz1応するカルボン酸(3)捷たはその反応性
誘導体を反応さぜればアミド(1)を合成できる。
1)ジクロロメタン10フロ、2−エトキシ−1−エト
キシ力ルボニルー1,2−ジヒドロキシリン1.1モル
、N、N−ジシクロへキンルカーボジイミド11モル、
ピリジン15モルとカルボン酸(3)11モルの混合物
中O″C〜C〜室温6時間かき1ぜる。
2)酢酸エチル10倍容中、ジン−ピリジルジスルフィ
ド11モル、トリフェニルホスフィン11モル、カルボ
ン酸(3) 1.1モルの混合物中、10〜50°Cで
2〜6時間かき捷ぜる。
3)ジクフロン223倍容、カルボン酸(3) 1.、
1モル、1,3.5−トリピリジニウムトリアジン・ト
リクロリド4モルの混合物中、−10〜10°Cで1〜
5時間かき1ぜる。
/I) 四1湛化炭素30倍容、N−メチルモルホリン
15モル、トリスジエチルアミンホスフィ711モル、
カルボン酸(3) 1.1モルの混合物中、−20〜1
0°Cに1〜5時間放置する。
5)クロロホルム10フロとジメフロシエタン10倍容
、ピリジン15モルおよびカルボン酸(3)とインブト
キシぎ酸との混合無水物の混合物を一5〜10°Cで3
0分〜6時間攪拌する。
6)酢酸エチル10倍容、1.2−ジクロロエタン10
フロ、N−メチルモルホリン15モル、カルボン酸(3
)の対称無水物1.1モルの混合物中10分〜2時間加
熱還流する。
7)ジクロロメタン10フロ、ピリジン15モルとカル
ボン酸(3)とメタンスルホン酸の混合無水物11モル
の混合物中0°Cから室温に眉温しんから1〜3時間か
き1ぜる。
8)酢酸エチル10倍容、りん酸ジエチルとカルボン酸
(3)との混合酸無水物1,5モルおよびピリジン15
モルの混合物中、0〜10″Cで1〜5時間かきまぜる
・ 9) l!ili酸エチル7倍容、ジフロロメタン10
フロ、ピリジン1モルおよびカルボン酸(3)とりん酸
ジクロリドとの混合酸無水物11モルの混合物中、0°
C〜室温で1〜3時間かき捷ぜる。
10)ルチジン15モル、ジクロロメタン10−5りん
酸のジエチルアミンのモノクロリドとカルボン酸(3)
との混合無水物11〜2モルの混合物中、0〜30゛C
で1〜4時間かきまぜる。
11)ジク日日タ225倍容、トリフルオロ酢酸無水物
15モル、ピリジン3モルおよびカルボン酸(3)1.
5モルの混合物中、0°C〜室温で1〜5時間かきまぜ
る。
12)ジクロロメタン10フロ、りん酸ジエチルのJL
化物12モル、N−メチルモルポリン25モルおよびカ
ルボン酸(3) 1.2モルの混合物中、0 ’0〜室
温で1〜3時間がき寸ぜる。
13)化合物(2)の1−デチアー1−オキザセフエム
環の4位置換基がカルボギシ基の場合、これを炭酸水素
ナトリウム25モルを含む水10倍日計とかし、カルボ
ン酸(3)の塩化物11モルを満願し・−5°C〜室温
で30分〜2時間反応させる。
14)化合物(2)の1−デチアー1−オキサセフェム
環の4位置換基がカルボキシの場合に、これに塩化トリ
メチルシリルとトリエチルアミンを12 ゛モルづつ作
用させて0−シリル化し、ピリジン4モル当量とカルボ
ン酸(3)の塩化物11モルを一30℃で加え、30分
〜2時間反応させたのち、シリルエステルを酸で加水分
解する。
15)ピコリン4モルとカルボン酸(3)の塩化物1゜
2モルをジクロロメタン20フロにとがした溶液中、0
°C〜−30°Cで30分〜2時間がきまぜる。
16)ジメチルホルムアミド2フロと酢酸エチル10倍
容との溶液中、トリエチルアミン1.1モルとカルボン
酸(3)の1′I、;i化物11モルの混合物をO′C
〜−20“0で30分〜3時間かき」ぜる。
17)ジク「Jロメタン:30倍容重塩化シアヌル11
モル、ピリジン1モル、カルボン酸(3)11モルの混
合物中−30〜+ O”(:で30分〜2時間かき1ぜ
る。
18)ジク四日タタフ3倍容、オキシ塩化りん11モノ
ペ ピリジン15モル、カルボン酸(3) 1.1モル
の混合物中、−10〜10°Cで20分〜2時間かき斗
ぜる。
19)塩化トリメチルシリルと酸捕捉剤を作用させて、
N−トリノチルンリル体とし、この1モルに対j、てオ
キシ塩化1]ん15とカルボン酸(3) 1.2モルお
、L、びピリジン4モルをジクロロメタン5倍重計中O
″C〜室温で30分〜2時間作用させ−る。
20)ジクロロメタン8容重、塩化チオニル15モル、
ピリジン25モル、カルボン酸(3) 1.1モルの混
合物中、−30〜0°Cで1〜5時間かき捷ぜる。
2+) /ロロホルム3容重、トルエン1倍容、カルボ
ン酸(3) 1.1モル、ヒコリン2モル、塩化オキザ
リル1モルの混合物中、−50〜10°Cで10分〜2
時間かきまぜる。
22)ジクロロメタン20容重、ピリジン3モル、カル
ボン酸(3)の1−オキシベンゾトリアゾールエステル
3モル、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド3モ
ルの混合物中、10〜50°Cで5〜30時間かき捷ぜ
る。
23)ジクロロメタン20容重、1−ヒドロキシペンツ
トリアゾール21モル、N、N−ジシクロへキシルカー
ポジイミド25モルとカルボン酸(3)2モルの混合物
中、室温で1〜15時間かき捷ぜる。
24)ジオキザン10容重、カルボン酸(3)のフタシ
フイミド2モル、N、N−ジシクロへキシルカーポジ・
rミド2モルの混合物中、10〜50°Cで2〜8時間
かきまぜる。
25)メチルイソブチルケトン10倍容、カルボン酸(
3)のザクシン46115モルとN、N−ジシクロへキ
シルカーポジイミド15モルの混合液中、0〜40°C
で2〜9時間かき寸ぜる。
26)カルボニルジイミダゾール11モル、テトラヒド
ロフラン10容重、ジメチルアセトアミド5容重、カル
ボン酸(3) 1.1モルの混合物中、0゛″C〜室温
で1〜5時間かき1、ぜる。
27)ジメチルホルムアミド5容重中、カルボン酸(3
)とジメチルホルトアミドのビルスマイヤー試薬11モ
ルとジメチルアニリン13モルの混合物中、室温で1〜
5時間かき寸ぜる。
28)ジクロロメタン10容重、ジメチルホルム・アミ
ド5容重、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド1
.1モル、ピコリン1.2モル、カルボン酸(3) 1
.1モルの混合物中、2時間〜24時間加熱する。
なお上記記載中、容積は原料アミン(2)のグラム数に
対するイ数の割合を示すものとする。
実施例5(3位−異項環チオ基の導入)1)3−クロロ
メチル化合物(1)1部、異項環チオール・ナトリウム
塩12当量と臭化テトラブチルアンモニウム触媒量ヲジ
クロロメタン10〜20部にとかし、室温下30分〜3
時間かき捷ぜる。
有機層を水洗、乾燥したのち、減圧濃縮すれば対応する
異項環チオ化合物(2)を得る。収率、80〜90%。
2)3−クロロメチル化合物(1)1部と異項環チオー
ル・ナトリウム塩12当量をN、N−ジメチルホルムア
ミド3〜5部にとかし、30分〜3時間かきまぜる。反
応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水
洗、乾燥したのち減圧濃縮すれば、対応する異項環チオ
化合物(2)を得る。収率°80〜90%。
実施例6(薬理学的活性エステル) R3−−C1l、0ct)(:(Cl131゜1) カ
ルボン酸カリウノ・塩(+) 1ミリモルをN、N−ジ
メチルホルノ・アミド2〜5重量部にとかし、水冷下に
ピバリン酸ヨードメチルエステル1〜2当量を加えて1
5分〜2時間かき1ぜる。反応液を酢酸エチルでうすめ
、氷水と炭酸水素すトリウム水で洗い、乾燥したのち、
減圧濃縮する。残留物を酢酸エチルから再結晶す1′L
はカルボン酸のピバロイルオキシメチルエステル(2)
を得る。
2)前記1)のカリウム塩(1)の代りにナトリウム塩
を用い、同一条件下に反応させれば同一の生成物を製造
するととができる。
3)前記1)のピバロイルオキシメチルエステル(2)
250mg、コーンスターチ150〜とステアリン酸マ
グネシウム5mgを常法により混合、顆粒化(35) し、ゼラチンカプセルに充填する。
このカプセル1−3個を1日3回、感受性ブドー球菌感
染症の患者に経口投与すれば、この病気を治療できる。
以下に原料物質の製造例を示す。
製造例 (1)(2) (3) (4,) (5) 1)I)MF30闘中の化合物(])3.50.!7に
室温でMsCl、1.、55−を加え、20分間攪拌す
る。反応終了後水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽
(36) 出液を水洗した後、溶媒を留ツマし、残留物を8102
クロマトグラフイーで精製し、油状の化合物(2)22
1、qを得る。
IRl(C+−+ c ]、1 )ν: 1730、1
68QczONMI’!、(r月)Cl、) δ 1.
3 :3 (t 、、T = 71tz 。
3■I)、3.23(s 、3H)、4.32 (q、
 、 J=71(Z、21+)、7.40 (d 、 
;I= 1311z、ITT)、。
2) 1)M F 1.0m/!に化合物(2) 2.
0 gを入れ、これにピリジン1.5ml!とメルカプ
ト酢酸メチル13m1を加えて室glで一夜1問拌する
。反応混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を5102クロマトグラフィーで精製すると化合物
(3) L 38gが得られる。
N M TL (CDo]、) δ 1.32 (t 
、 、T = 7r−Iz。
3 T−T )、3.52 (e 、 2r−r)、:
3.77 (s 、 3FT)、4.27 (Q 、 
’−7[1z、2T()、6.93 (a。
J = 321rz 、 ] ITT)3)アセ]・ン
7CCに化合物(3)1.38gを入れて一15°Cに
6却し、XN −NaO[r 6meを加えて−15〜
−5°0で40分間攪拌する。反応混合物を水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出して中性物質を除去する。水層を塩
酸酸性とし、酢酸エチルで2回抽出する。抽出液を水洗
]7て溶媒を留去すると化合物(、q)0.92gが得
られる。
N M R(CDCl5)δ: 1.33 (t 、 
、T=7I(z。
3 rr )、3.62(s、2H)、4.30(q、
、J=7T(z、2H,)、6.98 (6−、J =
 32H−z、 l H)、10.45 (brs、 
l I−T )。
71)化合物(4) 0.540k 28 % N■+
OK 水2rneに溶Wrシ、室温で一夜放置する。約
1fneに減圧丁で濃縮し、濃塩酸で酸性にし、析出す
る化合物(5)の結晶を戸数する。収量0.44g、m
p204〜6°C TR(ヌジョール):3430.3210.1710.
1660,1640.16]、0,1.580− N M R(d6 DMSO) δ :3.72(s、
21T)、6、90 (d、、J = 36 R2、I
 H)、 7.40〜8.10(m、21■)a 同様の方法で、対応するKl = CH3の化合物αI
I)t合成できる。1 以上述べへ力tJ、:で製コ告される原料物質お、Lび
目的化合物ε、物理定数と共にそJLそれ表1および表
2に示す、。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)下記化学構造式で表わされる7β−(カルボキサ
    ミドフルオロビニルチオアセトアミド)−3−(1−置
    換メチル−1日−テトラゾール−5−イル)チオメチル
    −1−デチアー1−オギサー3−セフェム−4−カルボ
    ン酸とその誘導体。 (式中、R,’ 1l−I水素またはアルキル基を、n
    ?は保護されていてもよいヒドロキシメチル、カルバモ
    イル捷だげアルキルカルバモイル基ヲ、n3は水素原子
    、軽金属原子またにカルボキシ保護基を、 それぞれ示す。) (2、特許請求の範囲(1)の化合物を有効成分とする
    抗菌剤。 (3)特許請求の範囲(1)の化合物に感受性のある細
    菌を殺菌まだは静菌する方法に用いる特許請求の範囲(
    1)の化合物の用途。 (4)特許請求の範囲(1)の化合物をアミド化、テト
    ラゾリルチオ化、メトキシ化、核合成、エステル化、脱
    保護または造塩によって製造する方法。
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