JPS6019791A - フルオロビニルチオオキサセフアロスポリン類 - Google Patents
フルオロビニルチオオキサセフアロスポリン類Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
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- C07F9/5352—Phosphoranes containing the structure P=C-
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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- C07D241/00—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings
- C07D241/02—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings
- C07D241/06—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings having one or two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D241/08—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings having one or two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with oxygen atoms directly attached to ring carbon atoms
-
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- C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明はフルオロビニルチオオキサセファロスポリン
誘導体、とくに抗菌剤々どとして有用な下記化学構造式
で表わされる7β−(カルボキサミドフルオロビニルチ
オアセトアミド)−3−(1−置換メチル−I H−テ
トラゾール−5−イル)チオメチル−1−デチアー1−
オキサー3−セフェム−4−カルボン酸の誘導体(I)
に関する=(式中、B・1は水素まだはアルキル基を、
1t2t6(保j1φされていても」口いlニドロギ・
ジメチル、カルバモイル−f /i−kJアルキルカル
バモイル基ヲ、n3げ水素原子、軽金属原子7またはカ
ルボキシ保護基を、 それぞれ示す。) 」二式(1)中、■(,1て表わされるアルキル基お。
誘導体、とくに抗菌剤々どとして有用な下記化学構造式
で表わされる7β−(カルボキサミドフルオロビニルチ
オアセトアミド)−3−(1−置換メチル−I H−テ
トラゾール−5−イル)チオメチル−1−デチアー1−
オキサー3−セフェム−4−カルボン酸の誘導体(I)
に関する=(式中、B・1は水素まだはアルキル基を、
1t2t6(保j1φされていても」口いlニドロギ・
ジメチル、カルバモイル−f /i−kJアルキルカル
バモイル基ヲ、n3げ水素原子、軽金属原子7またはカ
ルボキシ保護基を、 それぞれ示す。) 」二式(1)中、■(,1て表わされるアルキル基お。
1;びr(?で表わされるアルキルカルバモイル法にお
けるアルキル基としてに、低級アルギル、とくに炭素数
1〜3のアルキル I(、′で表わさり,る)1(2にiキ1れていること
もある保護基としでに1、、当分野で常用のもの、たと
えばアラルキル;炭酸アシル、アルカノイル、アラルカ
ッイル、アロイルなどのアシレート形成基;メトキシメ
チル、テトラヒドロピラニルなどのアセタール形成基な
どを例示できる。特に分子中の他の部分に悪影響なくχ
1脱できるととが知られている部分構造を有するス(が
好ましい。
けるアルキル基としてに、低級アルギル、とくに炭素数
1〜3のアルキル I(、′で表わさり,る)1(2にiキ1れていること
もある保護基としでに1、、当分野で常用のもの、たと
えばアラルキル;炭酸アシル、アルカノイル、アラルカ
ッイル、アロイルなどのアシレート形成基;メトキシメ
チル、テトラヒドロピラニルなどのアセタール形成基な
どを例示できる。特に分子中の他の部分に悪影響なくχ
1脱できるととが知られている部分構造を有するス(が
好ましい。
カルボキン誘・浮体
1(1で表されるカルボ、1−/保護基どしては、ペニ
シリン、セファロスポリンの化学の分野で、分子中の他
の部分に不都合な変化を起こすことなく着脱可能のもの
として知られている保護基、たとえばアラルキルエステ
ル(ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、メ
トキンベンジル、工トキ7ベンジル、ニトロベンジル、
アミノベンシル、ジフェニルメチル、フタリジル、フェ
ナシルなどのエステル)、!F”を換アルギルエステル
(トリクロロエチル、j−ブチル、アリルナトのエステ
ル)、アリールエステル(ペンタクロロフェニル、イン
ダニルなどのエステル)、N−ヒドロキシアミン化合物
のエステル(アセトンオキシム、アセトフエノンオキシ
ノ、、アセトアルドキシム、N−ヒト【Jギンこはく酸
イミド、N−ヒドロキシフタルイミドなどとのエステル
)、炭酸またはカルボン酸との酸無水物などがを構成す
る保蒋基がある。置換アミド、置換ヒドラジドなどで反
応性の高いアミドも均等なカルボキシ保護基として、こ
れに含めるものとする。この保護基部分は前記のような
各種置換分を有していてもよい。
シリン、セファロスポリンの化学の分野で、分子中の他
の部分に不都合な変化を起こすことなく着脱可能のもの
として知られている保護基、たとえばアラルキルエステ
ル(ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、メ
トキンベンジル、工トキ7ベンジル、ニトロベンジル、
アミノベンシル、ジフェニルメチル、フタリジル、フェ
ナシルなどのエステル)、!F”を換アルギルエステル
(トリクロロエチル、j−ブチル、アリルナトのエステ
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ダニルなどのエステル)、N−ヒドロキシアミン化合物
のエステル(アセトンオキシム、アセトフエノンオキシ
ノ、、アセトアルドキシム、N−ヒト【Jギンこはく酸
イミド、N−ヒドロキシフタルイミドなどとのエステル
)、炭酸またはカルボン酸との酸無水物などがを構成す
る保蒋基がある。置換アミド、置換ヒドラジドなどで反
応性の高いアミドも均等なカルボキシ保護基として、こ
れに含めるものとする。この保護基部分は前記のような
各種置換分を有していてもよい。
これらは、最終目的物においては脱離してしまうので、
保護の目的を達するものであれば、その構造C1必ず[
、もΦす2な音味をもたないことか多く、広範囲な均籠
基との交換かり能である。
保護の目的を達するものであれば、その構造C1必ず[
、もΦす2な音味をもたないことか多く、広範囲な均籠
基との交換かり能である。
とくに有用なカルボキシ保護基に1医薬用(C適するも
のとして当業者に,1:〈知られている誘導体で、主と
して軽金属塩と薬理学的活V1′.エステルがある。
のとして当業者に,1:〈知られている誘導体で、主と
して軽金属塩と薬理学的活V1′.エステルがある。
(薬理学画情1/1エステル)
薬理学的活性エステルに1主に経口捷たは非経口投与に
おいて強い抗菌性を示すエステル、とくに置換アルギル
エステル(アルカノイルオキシアルキルエステル、アル
コギルホルミルオキシアルキルエステル、メI・ギルメ
チルエステル、テトラヒドロヒラニルエステル、2−オ
キソ−1 、 3−ジオキソレニルメチルエステルなど
)、置換アラルキルエステル(フェナシルエステル、フ
タリジルエステルナト)、置換アリールエステル(フェ
ニルエステル、ギシリルエステル、インダニルエステル
など)がよく知られており、化合物(T)にも利用でき
る。
おいて強い抗菌性を示すエステル、とくに置換アルギル
エステル(アルカノイルオキシアルキルエステル、アル
コギルホルミルオキシアルキルエステル、メI・ギルメ
チルエステル、テトラヒドロヒラニルエステル、2−オ
キソ−1 、 3−ジオキソレニルメチルエステルなど
)、置換アラルキルエステル(フェナシルエステル、フ
タリジルエステルナト)、置換アリールエステル(フェ
ニルエステル、ギシリルエステル、インダニルエステル
など)がよく知られており、化合物(T)にも利用でき
る。
軽金属塩としてに1、好捷しくに周期律表第■〜Ill
属、第2〜4周期に属する、生理学的に受容しつるイオ
ンとなりうる軽金属原子の塩、とくにリチウム、ナトリ
ウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニ
ウムなどの塩を例示できる。
属、第2〜4周期に属する、生理学的に受容しつるイオ
ンとなりうる軽金属原子の塩、とくにリチウム、ナトリ
ウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニ
ウムなどの塩を例示できる。
アルキル・アシル、アリールの説明
前記各基の定義中、アルキル部分は直鎖、分枝寸だは環
状のアルギル基である。アシル部分は、直鎖、分枝捷た
は環状のアルカノイル、アルケノイル、カルボアルコキ
シ、カルバモイル、スルホ、アルキルスルホニル、スル
ファモイル、アリール部分が窒素、酸素、硫黄などのへ
テロ原子を有する異項環であってもよい単環または双環
のアロイル、アラルカッイル、アリールアルケノイル、
カルボアラルコキシ、アリールスルホニルなどのアシル
基である。
状のアルギル基である。アシル部分は、直鎖、分枝捷た
は環状のアルカノイル、アルケノイル、カルボアルコキ
シ、カルバモイル、スルホ、アルキルスルホニル、スル
ファモイル、アリール部分が窒素、酸素、硫黄などのへ
テロ原子を有する異項環であってもよい単環または双環
のアロイル、アラルカッイル、アリールアルケノイル、
カルボアラルコキシ、アリールスルホニルなどのアシル
基である。
アリール部分は、単環または双環の、5員環または6員
環アリール基であって、骨格に窒素、酸素、硫黄などの
へテロ原子を有する異項環であってもよい。
環アリール基であって、骨格に窒素、酸素、硫黄などの
へテロ原子を有する異項環であってもよい。
ここに、異項環基の代表例としては、ピロリル、フリル
、チェニ刀ハ ビラソ゛リル、イノキノリル、オギザゾ
リル、チアゾリル、トリアゾリル、オキザジアゾリル、
チアジゾリル、テトラゾリル、オ△ ギザトリアゾリル、チアトリーアゾリル、ピリジル、ピ
ロニル、チオピ■−1ニル、ピリミジル、ピラジニル、
ピリダジニル、トリアジニル、インドリル、ペンツ゛ノ
リル、ベンツ゛ナエール、テトラン゛口ビリダジニル、
プリニル、−キノリル、イノキノリル、ピリドピリジル
、ベノゾピロニルなどがある。
、チェニ刀ハ ビラソ゛リル、イノキノリル、オギザゾ
リル、チアゾリル、トリアゾリル、オキザジアゾリル、
チアジゾリル、テトラゾリル、オ△ ギザトリアゾリル、チアトリーアゾリル、ピリジル、ピ
ロニル、チオピ■−1ニル、ピリミジル、ピラジニル、
ピリダジニル、トリアジニル、インドリル、ペンツ゛ノ
リル、ベンツ゛ナエール、テトラン゛口ビリダジニル、
プリニル、−キノリル、イノキノリル、ピリドピリジル
、ベノゾピロニルなどがある。
化合物(()す;1好気I11.ま/(−VJ嫌気1ノ
ー、のグラム陽性菌(ブドウ球菌なと)、グラノ・陰性
菌(大腸菌など)にたいしで抗菌作用肴:示[−1感受
性細菌の殺菌、静菌用に細閑感fia JllのP防、
治療のだめの医薬、動物薬、(=シて、1/こ消ii7
剤、防腐剤、保存剤などとしても不1月1でへる。
ー、のグラム陽性菌(ブドウ球菌なと)、グラノ・陰性
菌(大腸菌など)にたいしで抗菌作用肴:示[−1感受
性細菌の殺菌、静菌用に細閑感fia JllのP防、
治療のだめの医薬、動物薬、(=シて、1/こ消ii7
剤、防腐剤、保存剤などとしても不1月1でへる。
化合物(1)υ−1安定で、ちり、副作JTIが少なく
、さら((他剤面+ +’L菌にもイfl:IJJ々抗
菌作用や吸収、分布、代謝、111411などの薬理学
的![”?li−の点ですぐれている。とくに、グラム
陽1〆1閏に対する抗菌力、低毒性、高血中濃IWなど
については將しい長所を示す。
、さら((他剤面+ +’L菌にもイfl:IJJ々抗
菌作用や吸収、分布、代謝、111411などの薬理学
的![”?li−の点ですぐれている。とくに、グラム
陽1〆1閏に対する抗菌力、低毒性、高血中濃IWなど
については將しい長所を示す。
]入貼として利用するときは、要すれは常用の添加剤を
加えて製剤化し、これを化合物(1)として外用でkl
: I O/19〜1〜9、静)派注射でUo、2〜5
.!?、経「1投−りでは1〜2μの日用量で外用、局
所、経I」、注射など常法により投Ijすれば、感受性
細菌感染症を予防寸だは治療することができる。
加えて製剤化し、これを化合物(1)として外用でkl
: I O/19〜1〜9、静)派注射でUo、2〜5
.!?、経「1投−りでは1〜2μの日用量で外用、局
所、経I」、注射など常法により投Ijすれば、感受性
細菌感染症を予防寸だは治療することができる。
このような製剤としては、アンプル剤、バイヤル剤、粉
剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、錠剤、ドライシ
ロップ剤、けんだく剤、液剤、乳剤、軟こう剤などとし
て、注射剤、内服剤、吸入剤、湿布剤、点眼剤、点鼻剤
、点耳剤、口腔剤、平削、スプレー剤々とを例示でき、
それぞれ内用、外用寸たは局所投匈用などに利用できる
。
剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、錠剤、ドライシ
ロップ剤、けんだく剤、液剤、乳剤、軟こう剤などとし
て、注射剤、内服剤、吸入剤、湿布剤、点眼剤、点鼻剤
、点耳剤、口腔剤、平削、スプレー剤々とを例示でき、
それぞれ内用、外用寸たは局所投匈用などに利用できる
。
化合物(I)のうち、カルボン酸と軽金属塩は静脈注射
、点滴、筋肉注射、皮内注射、皮下注射用などに、要す
れば安定化剤や溶解補助剤とともに、アンプル剤、バイ
ヤル剤などの注射剤として利用できる。薬理学的活性エ
ステルは粉剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、ドラ
イシロップ剤、液剤、錠剤、けX7だく剤などとして内
服用に、また、液剤、乳剤、軟こう剤、平削、スプレー
剤などとして外用ないし局所投りにも利用できる。
、点滴、筋肉注射、皮内注射、皮下注射用などに、要す
れば安定化剤や溶解補助剤とともに、アンプル剤、バイ
ヤル剤などの注射剤として利用できる。薬理学的活性エ
ステルは粉剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、ドラ
イシロップ剤、液剤、錠剤、けX7だく剤などとして内
服用に、また、液剤、乳剤、軟こう剤、平削、スプレー
剤などとして外用ないし局所投りにも利用できる。
化合物(1)&j:、−4/ζ、その定義内外の他の抗
菌化合物の合成原料−や細菌の感受性検定試験用拐料な
どとして利用するとともてきる。
菌化合物の合成原料−や細菌の感受性検定試験用拐料な
どとして利用するとともてきる。
化合物(■)は、以下に記載する方法で製造することが
できる。
できる。
1)塩の製造
1−デチアー1−オキザセフエム環の4位置換基がカル
ボキシである化合物(1)に塩基を作用させるか、交換
分解t、I:、Vこ。1:す他種カルボン酸の軽金属塩
を作用させると軽金属塩である化合物(I)を製造でき
る。操作法はこの分野で用いられている方法を適用でき
る。たとえば、遊離酸を炭酸水素軽金属塩で中和する方
法、アルコール、ケトン、エステルなどの極(ag有機
溶媒中、低級カルボン酸アルカリ金属塩を作用させたの
ち、難溶性溶媒を加えて目的とする塩を析出させる方法
などが好捷しい。
ボキシである化合物(1)に塩基を作用させるか、交換
分解t、I:、Vこ。1:す他種カルボン酸の軽金属塩
を作用させると軽金属塩である化合物(I)を製造でき
る。操作法はこの分野で用いられている方法を適用でき
る。たとえば、遊離酸を炭酸水素軽金属塩で中和する方
法、アルコール、ケトン、エステルなどの極(ag有機
溶媒中、低級カルボン酸アルカリ金属塩を作用させたの
ち、難溶性溶媒を加えて目的とする塩を析出させる方法
などが好捷しい。
反応は通常50°Cは下で行なうと1〜10分間で終了
するが、副反応がなければさらに長時間放置することも
できる。
するが、副反応がなければさらに長時間放置することも
できる。
とのようにして製造した塩は、結晶、粉末などの固体と
して分離し、要すれば添加剤を加えたのち、常法により
製剤化するか、凍結乾燥法などに」:リバイヤル剤どし
て抗菌製剤として利用できる。
して分離し、要すれば添加剤を加えたのち、常法により
製剤化するか、凍結乾燥法などに」:リバイヤル剤どし
て抗菌製剤として利用できる。
2)カルボキシ保護基の脱離
カルボキン保護基をもつ化合物(I)は、当技術分野で
常用の脱保護反応に付して遊離カルボキシ化合物(r)
とすることができる。この脱保護反応には、たとえば下
記のような、この分野で常用の操作法を適用することが
できる。
常用の脱保護反応に付して遊離カルボキシ化合物(r)
とすることができる。この脱保護反応には、たとえば下
記のような、この分野で常用の操作法を適用することが
できる。
a)反応性の高いエステル、アミド、無水物などの形の
カルボキシ保護基は酸、塩基、緩衝液、イオン交換樹脂
などと水性溶液中で接触させれば脱保護できる。反応性
が低いときにも、公知の方法によって反応性を高めれば
、容易に脱保護することができる場合もある。代表例に
は、たとえばトリクロルエチルエステルに金属と酸、p
−ニトロベンジルエステルに接触還元やジチオン酸塩、
フェナシルエステルに光照射などの活性化方法がある0 1〕)アラルキルエステルは内命、パラジウム、ニッケ
ルなど触媒の存在下に水素を常法により作用させて接触
還元すれば脱保護できる。
カルボキシ保護基は酸、塩基、緩衝液、イオン交換樹脂
などと水性溶液中で接触させれば脱保護できる。反応性
が低いときにも、公知の方法によって反応性を高めれば
、容易に脱保護することができる場合もある。代表例に
は、たとえばトリクロルエチルエステルに金属と酸、p
−ニトロベンジルエステルに接触還元やジチオン酸塩、
フェナシルエステルに光照射などの活性化方法がある0 1〕)アラルキルエステルは内命、パラジウム、ニッケ
ルなど触媒の存在下に水素を常法により作用させて接触
還元すれば脱保護できる。
C)アラルキルエステル、シクロプロピルメチルエステ
ル、スルホニルエチルエステルなトハ加溶媒分解反応な
どVこ1、って脱保護できる。この反応では鉱酸、ルイ
ス酸(14X化アルミニウム、塩化スズ、四塩化チタン
など)、スルホン酸(メタンスルホン酸、I・リフルオ
ロメタンスルホン酸など)、強酸性カルボン酸(トリフ
ルオロ酢酸など)などを要すわ、げカチオン捕捉剤の存
在下に作用させる。
ル、スルホニルエチルエステルなトハ加溶媒分解反応な
どVこ1、って脱保護できる。この反応では鉱酸、ルイ
ス酸(14X化アルミニウム、塩化スズ、四塩化チタン
など)、スルホン酸(メタンスルホン酸、I・リフルオ
ロメタンスルホン酸など)、強酸性カルボン酸(トリフ
ルオロ酢酸など)などを要すわ、げカチオン捕捉剤の存
在下に作用させる。
d)フェナシルエステル、アルケニルエステル、ヒドロ
キシアラルキルエステルなどは、塩基や核剤などの作用
で、−土だ、光化学的活性なフェナシルエステル々とは
光照射により脱保護できる。
キシアラルキルエステルなどは、塩基や核剤などの作用
で、−土だ、光化学的活性なフェナシルエステル々とは
光照射により脱保護できる。
e)2−アルケニルエステルにアルカン酸アルカリ金属
とパラジウト一トリフェニルホスフインを作用させれば
アルカリ金属塩を製造できる。
とパラジウト一トリフェニルホスフインを作用させれば
アルカリ金属塩を製造できる。
f)その他、均等なカルボキシ保護基脱離法を用いるこ
とができる。
とができる。
3)3位置換基の導入
化合物(r)の3位が脱離基置換メチル基である原i:
;+化合物に対応する異項環チオールまたはそれらの反
応性誘導体を作用させれば目的とする化合物(1)を製
造することができる。ここに、脱離基としてはハロゲン
、スルホニルオキシ、アルカノイルオキ/、ジハロアセ
トキシ、トリハロアセトキンなどの活性脱離基がよい。
;+化合物に対応する異項環チオールまたはそれらの反
応性誘導体を作用させれば目的とする化合物(1)を製
造することができる。ここに、脱離基としてはハロゲン
、スルホニルオキシ、アルカノイルオキ/、ジハロアセ
トキシ、トリハロアセトキンなどの活性脱離基がよい。
前記チオールの反応性誘導体としては、アルカリ金属塩
、アンモニウム塩、カルボン酸エステルなどが好寸しい
。反応は無水溶媒中でも、含水溶媒中でも0°C〜60
°Cで十分進行する。この反応は脱水剤、塩化ホスホリ
ル化合物などにより、促進される。
、アンモニウム塩、カルボン酸エステルなどが好寸しい
。反応は無水溶媒中でも、含水溶媒中でも0°C〜60
°Cで十分進行する。この反応は脱水剤、塩化ホスホリ
ル化合物などにより、促進される。
4)アミド化
下記アミン(II)吐たけその反応性誘導体にカルボン
酸(III) tだはその反応性誘導体を作用させれば
、目的とする化合物(■)またはその誘導体を製造でき
る。
酸(III) tだはその反応性誘導体を作用させれば
、目的とする化合物(■)またはその誘導体を製造でき
る。
(1)
アミン(II)の反応1/1゛誘導体としては7位のア
ミン基が、シリル基(+−リメチルシリル、メトキシジ
メチルシリル、1シーブチルジメチルシリルなど)、ス
タニル基(トリメナルスタニルなど)、アルキレン基(
アルデヒド、アセトン、アセチルアセトン、アセト酢酸
エステル、アセトアセトニトリル、アセトアセトアニリ
ド、シクロペンタンジオン、アセチルブチロラフ!・ン
などと結合した形のエナミン基を形成する基)、アルキ
リデン基(1−)・ロアルキリデン、1−・・ロアラル
ギリデン、1−アルコキシアルキリデン、1−アルコキ
シアラルキリテン、1−アルコキシ−1−フェノキシア
ルキリデン、アルキリデン、アラルキリデンなど)、酸
(鉱酸、カルボン酸、スルホン酸などとの塩の形で)、
外れ易いアシル基(アルカノイルなど)、その他の基で
活性化されたものと、分子中の他の官能基を前記のよう
に保護したものなどを例示できるO カルボン酸(11)の反応性誘導体は酸無水物、酸ハロ
ゲン化物、活性エステル、活性アミド、アジドなど常用
のアシル化用誘導体である。
ミン基が、シリル基(+−リメチルシリル、メトキシジ
メチルシリル、1シーブチルジメチルシリルなど)、ス
タニル基(トリメナルスタニルなど)、アルキレン基(
アルデヒド、アセトン、アセチルアセトン、アセト酢酸
エステル、アセトアセトニトリル、アセトアセトアニリ
ド、シクロペンタンジオン、アセチルブチロラフ!・ン
などと結合した形のエナミン基を形成する基)、アルキ
リデン基(1−)・ロアルキリデン、1−・・ロアラル
ギリデン、1−アルコキシアルキリデン、1−アルコキ
シアラルキリテン、1−アルコキシ−1−フェノキシア
ルキリデン、アルキリデン、アラルキリデンなど)、酸
(鉱酸、カルボン酸、スルホン酸などとの塩の形で)、
外れ易いアシル基(アルカノイルなど)、その他の基で
活性化されたものと、分子中の他の官能基を前記のよう
に保護したものなどを例示できるO カルボン酸(11)の反応性誘導体は酸無水物、酸ハロ
ゲン化物、活性エステル、活性アミド、アジドなど常用
のアシル化用誘導体である。
イげi
ハ
シシクロへキシルカーポジイミドなど)、カルボニル化
合物(カルボニルジイミダゾールなど)、インキサシリ
ニウム塩、アンルアミノ化合物(2−−1)キシ−1−
エトキシカルボニル−1,2−ジヒドロキノリンなど)
、アミド化酵素、その他〕の存在下、好ましくは活性水
素のない溶媒(ハロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテ
ル、アミド溶媒などとその混合物)中、好ましくはアミ
ン(ロ)に対してカルボン酸(In) 1〜2モルと縮
合剤1〜2モルを作用させる。
合物(カルボニルジイミダゾールなど)、インキサシリ
ニウム塩、アンルアミノ化合物(2−−1)キシ−1−
エトキシカルボニル−1,2−ジヒドロキノリンなど)
、アミド化酵素、その他〕の存在下、好ましくは活性水
素のない溶媒(ハロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテ
ル、アミド溶媒などとその混合物)中、好ましくはアミ
ン(ロ)に対してカルボン酸(In) 1〜2モルと縮
合剤1〜2モルを作用させる。
11)酸無水物 これに(r:i )yルボン酸(■)
の対称無水物、混合酸無水物〔鉱酸(りん酸、硫酸、炭
酸半エステルなど)、有機酸(アルカン酸、アラルカン
酸、スルホン酸など)との混合無水物など〕、分子内無
水物(ケテン、イソシアネートなど)、酸・・ロゲン化
物(・・ロゲン化水素との混合無水物)などを含む。
の対称無水物、混合酸無水物〔鉱酸(りん酸、硫酸、炭
酸半エステルなど)、有機酸(アルカン酸、アラルカン
酸、スルホン酸など)との混合無水物など〕、分子内無
水物(ケテン、イソシアネートなど)、酸・・ロゲン化
物(・・ロゲン化水素との混合無水物)などを含む。
好1しくに酸無水物1〜2モルを、1〜0モルの酸捕捉
剤〔無機IJ、i 基(アルカリ金属、アルカリ土類金
属々どの酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩など〕、
有(幾塩基(第三級アミン、芳香族塩基など)、オキシ
ラン(アルギレンオキシド、アラルキl/ンオキ/ドな
ど)、ピリジウム塩(三鷹△ 化トリビリジニウノ・トリアジンなど)、吸着剤(セラ
イトなど)、その他〕の存在下、好寸しくに活性水素不
含の溶媒(・・ロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテル
、アミド溶媒など捷たはその混合物)中1だ汀ショツテ
ン バウマン反応条件下、水I11.溶媒中、アミン(
n) tたはその反応性誘導体と反応させる。
剤〔無機IJ、i 基(アルカリ金属、アルカリ土類金
属々どの酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩など〕、
有(幾塩基(第三級アミン、芳香族塩基など)、オキシ
ラン(アルギレンオキシド、アラルキl/ンオキ/ドな
ど)、ピリジウム塩(三鷹△ 化トリビリジニウノ・トリアジンなど)、吸着剤(セラ
イトなど)、その他〕の存在下、好寸しくに活性水素不
含の溶媒(・・ロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテル
、アミド溶媒など捷たはその混合物)中1だ汀ショツテ
ン バウマン反応条件下、水I11.溶媒中、アミン(
n) tたはその反応性誘導体と反応させる。
■)酸ハロゲン化物 これ(1カルボン酸(III)の
ハロゲン化水素酸との混合酸無水物であって、前項に準
じて酸捕捉剤1〜10モルの存在下、溶媒(と(K、ハ
ロゲン化水素、ニトリル、エーテル、エステル、ケトン
、ジアルキルアミド、水系溶媒など、寸たはその混合物
)中1だはショツテン・バウマン反応条件下水性溶媒中
、アミン(■罰たはその反応性誘導体1モルに対して酸
・・ロゲン化物、好ましくは1ないし2モルを作用させ
る。
ハロゲン化水素酸との混合酸無水物であって、前項に準
じて酸捕捉剤1〜10モルの存在下、溶媒(と(K、ハ
ロゲン化水素、ニトリル、エーテル、エステル、ケトン
、ジアルキルアミド、水系溶媒など、寸たはその混合物
)中1だはショツテン・バウマン反応条件下水性溶媒中
、アミン(■罰たはその反応性誘導体1モルに対して酸
・・ロゲン化物、好ましくは1ないし2モルを作用させ
る。
Iv)活性エステル とれにはカルボン酸(Ill)の
エノールエステル(ヒニルエステル、インプロペニルエ
ステルなト)、アリールエステル(フェニルエステル、
ハロフェニルエステル、ニトロフェニルエステルなど)
、異項環エステル(ピリジルエステル、ベンゾトリアゾ
リルエステルなど)、N−ヒドロキシ化合物とのエステ
ル、ジアシルヒドロキシルアミンとのエステル(N−ヒ
ドロキシフタルイミド、N−ヒドロキシフタルイミドな
どとのエステル)、チオールエステル(アラルキルチオ
ールエステル、テトラゾリルチオールエステル々と)そ
の他の公知の活性化エステル基によるアンル化剤を含む
5、これらの活性エステルは、例えば、後記の、〕:う
な方法で反応させる。また、低級アルキルエステルのよ
うな酵素化学的活性エステルは、水性溶媒中アミド化酵
素の存在下に常法により反応さぜる。
エノールエステル(ヒニルエステル、インプロペニルエ
ステルなト)、アリールエステル(フェニルエステル、
ハロフェニルエステル、ニトロフェニルエステルなど)
、異項環エステル(ピリジルエステル、ベンゾトリアゾ
リルエステルなど)、N−ヒドロキシ化合物とのエステ
ル、ジアシルヒドロキシルアミンとのエステル(N−ヒ
ドロキシフタルイミド、N−ヒドロキシフタルイミドな
どとのエステル)、チオールエステル(アラルキルチオ
ールエステル、テトラゾリルチオールエステル々と)そ
の他の公知の活性化エステル基によるアンル化剤を含む
5、これらの活性エステルは、例えば、後記の、〕:う
な方法で反応させる。また、低級アルキルエステルのよ
うな酵素化学的活性エステルは、水性溶媒中アミド化酵
素の存在下に常法により反応さぜる。
■)活セ]ニアミド これにはカルボン酸(rn)の芳
香族アミド(イミダゾール、トリアゾール、2−エトキ
シ−1,2−ジヒドロギノリンなどとのアミド)、ジア
シルアニリンなどが含まれる。これも、たとえば後記の
ような条件下に反応させる。
香族アミド(イミダゾール、トリアゾール、2−エトキ
シ−1,2−ジヒドロギノリンなどとのアミド)、ジア
シルアニリンなどが含まれる。これも、たとえば後記の
ような条件下に反応させる。
vl) ホルムイミノ化合物 たとえばカルボン酸(r
ll)のN、N−ジメチルホルムイミノエステルハライ
ドなどである。
ll)のN、N−ジメチルホルムイミノエステルハライ
ドなどである。
前記したIV)〜vt)の反応においては、好1しくは
活性水素不含の溶媒(・・ロゲン化炭化水素、エーテル
、ケトン、二]・リル、エステル、アミド系溶媒など1
プこはその混合物)中、アミン(n)またはその反応1
1・誘導体1モルに対してカル7Ii :/酸(III
)の反応性誘導体1〜2モル当量を一20°C−/IO
°Cで1時間〜5時間作用させる。
活性水素不含の溶媒(・・ロゲン化炭化水素、エーテル
、ケトン、二]・リル、エステル、アミド系溶媒など1
プこはその混合物)中、アミン(n)またはその反応1
1・誘導体1モルに対してカル7Ii :/酸(III
)の反応性誘導体1〜2モル当量を一20°C−/IO
°Cで1時間〜5時間作用させる。
5)メトキシ化
化合物(T)の7位にメトキシ基のない化合物にN−ハ
ロゲン化剤、脱ハロゲン化水素剤とメタノールとを順次
作用させれば、対応する化合物(+)を製造できる。こ
の際7位水素の立体配位には係わりなく7β−アミド−
7a−メトキシ体が生成する。
ロゲン化剤、脱ハロゲン化水素剤とメタノールとを順次
作用させれば、対応する化合物(+)を製造できる。こ
の際7位水素の立体配位には係わりなく7β−アミド−
7a−メトキシ体が生成する。
操作方法には例えば次のようなものがある。
a)アルキルヒポクロリド(t−ブチルヒポクロリドな
ど)とアルカリ金属メトキシド(リチウムメチレート、
ナトリウムメチレートなど)とをメタノール中で作用さ
せる。
ど)とアルカリ金属メトキシド(リチウムメチレート、
ナトリウムメチレートなど)とをメタノール中で作用さ
せる。
1))ハロゲン分子と塩基(リチウムメトキシド、ナト
リウムメトキシド、マグネシウムメトキシドなど金属ア
ルコキシド、DBU、トリエチルアミン、ピコリンなど
)とをメタノール中で作用させる。
リウムメトキシド、マグネシウムメトキシドなど金属ア
ルコキシド、DBU、トリエチルアミン、ピコリンなど
)とをメタノール中で作用させる。
C)次亜ハロゲン酸塩、次亜ハロゲン酸エステル、N−
ハロアミド、N−ハロイミドなどのN−ハロゲン化剤と
アルノノリ金属アルコキシド、アリールアルカリ金属な
どの脱ハロゲン化水素剤を作用させたのち、メタノール
を作用させる。
ハロアミド、N−ハロイミドなどのN−ハロゲン化剤と
アルノノリ金属アルコキシド、アリールアルカリ金属な
どの脱ハロゲン化水素剤を作用させたのち、メタノール
を作用させる。
d)その他尚技術分野で用いられている方法。
6)カルボギン基その他の反応1〈14官能基の保護前
記各製造法において、捷だ、化合物(I)に化学。
記各製造法において、捷だ、化合物(I)に化学。
反応を施こして、他の化合物(1)などに変化させると
きなどに、目的とする基以外の反応性官能基を保護して
おく必要がある場合がある。この場合、その反応性官能
基の種類に応じてこの分野でしく用いられている方法を
応用して保護することができる。このような方法に各種
数置に詳述されている。
きなどに、目的とする基以外の反応性官能基を保護して
おく必要がある場合がある。この場合、その反応性官能
基の種類に応じてこの分野でしく用いられている方法を
応用して保護することができる。このような方法に各種
数置に詳述されている。
前記各項における反応性基の保護のだめの保護基および
その導入、脱離法については、例えばJ。
その導入、脱離法については、例えばJ。
F、W 八’L20111j 。 Ed、、 ”T”r
otoctj、ve Oro+rps j、n Org
a、njcChem:iSl;yu T)、183 (
] 973)PLEFJM Preae、 N、Y、;
やS、Pa、ta、i、、 Edit、、 ”Tlt。
otoctj、ve Oro+rps j、n Org
a、njcChem:iSl;yu T)、183 (
] 973)PLEFJM Preae、 N、Y、;
やS、Pa、ta、i、、 Edit、、 ”Tlt。
Chemistry of FunctionalGr
oull)S”+ p、sos (1969)、 Ln
terscience pHl)1.。
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terscience pHl)1.。
J□hn Wjley & 5ons Ltd 、Lo
ndon ; Flynn 1,3゜Cepha、1.
osporins a、nd Pen1ci11.in
s Aca、demicPreee、 N、Y、 (1
972)などの数置ないし各種特許文献などに詳記され
ている方法を利用することもできる。
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osporins a、nd Pen1ci11.in
s Aca、demicPreee、 N、Y、 (1
972)などの数置ないし各種特許文献などに詳記され
ている方法を利用することもできる。
たとえば、ヒドロキシ基にはアシル化、エーテル化など
、アミン基にはアシル化、エナミン化、シリル化など、
カルボキシ基にはエステル化、アミド化、酸無水物化な
どを常法により施こすことができる。また、薬理学的性
質を改変して所望の11質を与えるために、薬理学的活
性エステルとする場合も、この項の反応に含めるものと
する。この場合、カルボン酸(1)に塩基を作用させて
塩とし、これに所望エステル基のハライドを作用させて
目的とする化合物(【)を合成することもできる3、7
)反応条件 前記合成方法(]) −(6)は通常−30°C〜10
0°C1とくに一20°C〜50℃の温度で10分間〜
10時間かけて反応させることが多い。これらは溶媒中
、要すれば無水条件下に実施する。その他の常法は、い
ずれも適用できる。
、アミン基にはアシル化、エナミン化、シリル化など、
カルボキシ基にはエステル化、アミド化、酸無水物化な
どを常法により施こすことができる。また、薬理学的性
質を改変して所望の11質を与えるために、薬理学的活
性エステルとする場合も、この項の反応に含めるものと
する。この場合、カルボン酸(1)に塩基を作用させて
塩とし、これに所望エステル基のハライドを作用させて
目的とする化合物(【)を合成することもできる3、7
)反応条件 前記合成方法(]) −(6)は通常−30°C〜10
0°C1とくに一20°C〜50℃の温度で10分間〜
10時間かけて反応させることが多い。これらは溶媒中
、要すれば無水条件下に実施する。その他の常法は、い
ずれも適用できる。
反応用溶媒としては、炭化水素(ペンタン、ヘキサン、
オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、など)、ハ
ロゲン化炭化水素(ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロ
ベンゼンナト)、エーテル(ジエチルエーテル、メチル
ベンゾチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
など)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキザノンなど)、エステル(酢酸エチル、酢酸イソ
ブチル、安息香酸メチルなど)、ニトロ炭化水素にトロ
メタン、ニトロベンゼンナト)、ニトリル(アセトニト
リル、ベンゾニトリルなど)、アミド(ホルムアミド、
アセトアミド、ジメチルホルノ・アミド、ジメチルアセ
トアミド、ヘキザメチルホスホロトリアミドなど)、ス
ルホキシド(ジメチルスルホキシドなど)、カルボン酸
(ギ酸、酢酸、プロピオン酸など)、有機塩基(ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピリコン、コ
リジン、キノリンなど)、アルコール(メタン(21) −ル、エタノール、フロパノール、ヘキサノール、オク
タツール、ベンジルアルコールなト)、水、その他の系
列に属する工業用溶媒またはその混合物を例示できる。
オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、など)、ハ
ロゲン化炭化水素(ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロ
ベンゼンナト)、エーテル(ジエチルエーテル、メチル
ベンゾチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
など)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキザノンなど)、エステル(酢酸エチル、酢酸イソ
ブチル、安息香酸メチルなど)、ニトロ炭化水素にトロ
メタン、ニトロベンゼンナト)、ニトリル(アセトニト
リル、ベンゾニトリルなど)、アミド(ホルムアミド、
アセトアミド、ジメチルホルノ・アミド、ジメチルアセ
トアミド、ヘキザメチルホスホロトリアミドなど)、ス
ルホキシド(ジメチルスルホキシドなど)、カルボン酸
(ギ酸、酢酸、プロピオン酸など)、有機塩基(ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピリコン、コ
リジン、キノリンなど)、アルコール(メタン(21) −ル、エタノール、フロパノール、ヘキサノール、オク
タツール、ベンジルアルコールなト)、水、その他の系
列に属する工業用溶媒またはその混合物を例示できる。
。
8)後処理
目的とする生成物に1反応液から未反応原料、副ハ
用の後処理法を組合せて処理すれば単離することができ
る。
る。
9)実施例
」ユ下に実施例を示して本発明の詳細な説明する。
生成物の物理定数は、表に捷とめて記載した。
表中、JR・ば、dl値を、NMT(・はδ値を、・■
値は結合定数をTTZ値で示す。
値は結合定数をTTZ値で示す。
実施例中、量を表わす部は原木」β−ラクタム1重量部
に対する重■の割合を、モル当量数は原料β−ラクタム
1モルに対するモル数を示す。
に対する重■の割合を、モル当量数は原料β−ラクタム
1モルに対するモル数を示す。
実施例中の後処理Qては、通常は反応液に、必要に応じ
て水、酸、ジクロロメタンなどの溶媒を加(771 え、分液したのち、有機層を水洗、乾燥、減圧濃縮して
(i7られる残留物を、心安なら/す力ゲルクロマI・
グラノィーで精製したのち、結晶化、沈殿、口過などで
採1■する方法などを組合わせて用いる。生成物の物理
定数の測定値は別途合成品の値と一致する。
て水、酸、ジクロロメタンなどの溶媒を加(771 え、分液したのち、有機層を水洗、乾燥、減圧濃縮して
(i7られる残留物を、心安なら/す力ゲルクロマI・
グラノィーで精製したのち、結晶化、沈殿、口過などで
採1■する方法などを組合わせて用いる。生成物の物理
定数の測定値は別途合成品の値と一致する。
使用1また略+Jに1.1ソ、ドの通りである。
T’ h−フェニル
M El−メタンスルホ−ニル
MO−メチル
El,=エチル
実施例1(すi・リウム塩、製剤、用法)カルボン酸(
1) 1 9を0.5%炭酸水素ナトリウム水57nl
にとかし、塩酸でpl+ 7とし、酢酸エチルで洗い、
脱塩したのち、107耐バイアルに入れ、常法により凍
結乾燥すノ1,げ、対応するすトリウム塩(2)の粉末
を得る。
1) 1 9を0.5%炭酸水素ナトリウム水57nl
にとかし、塩酸でpl+ 7とし、酢酸エチルで洗い、
脱塩したのち、107耐バイアルに入れ、常法により凍
結乾燥すノ1,げ、対応するすトリウム塩(2)の粉末
を得る。
無菌条件下に製造した上記ナトIJウム塩1g全注射用
蒸留水49に.とかし、ブドー球菌81;a.phy]
.OCOCC11E] aureu.8感染庁の患者に
一日二回づ゛つ静脈注射すれば、この感染症を治療する
ことができる。
蒸留水49に.とかし、ブドー球菌81;a.phy]
.OCOCC11E] aureu.8感染庁の患者に
一日二回づ゛つ静脈注射すれば、この感染症を治療する
ことができる。
このナトリウム塩(2)をとり、日本化学療法学会所定
の方法に準じ最小発育阻止濃度を測定すれば、溶血性連
鎖球菌Streptococcu.s pyogene
s C 203に対し0. ] pg.An6以下、大
腸菌Escherj.chja co旦、TO−2 K
対して0. 1 /IgA”l以下の価を示す。
の方法に準じ最小発育阻止濃度を測定すれば、溶血性連
鎖球菌Streptococcu.s pyogene
s C 203に対し0. ] pg.An6以下、大
腸菌Escherj.chja co旦、TO−2 K
対して0. 1 /IgA”l以下の価を示す。
実施例2(脱エステル化)
r+.1= −C1120,H,Of−] ]j,ーp
,−4 1−I B −CITPh 21)p−メトキ
シベンジルエステル“またはジフェニルメチルエステル
(+) 1部をジ,り自ロメタン03〜3部、トリフル
オロ酢酸03〜3部およびアニソール05〜5部に溶か
し、−10〜40℃で10分〜3時間かきまぜる。反応
液を減圧下に濃縮して溶媒と試薬を留去し、残留物をベ
ンゼンで洗えば対応する遊離酸(2)を70〜90係の
収率で製造できる。
,−4 1−I B −CITPh 21)p−メトキ
シベンジルエステル“またはジフェニルメチルエステル
(+) 1部をジ,り自ロメタン03〜3部、トリフル
オロ酢酸03〜3部およびアニソール05〜5部に溶か
し、−10〜40℃で10分〜3時間かきまぜる。反応
液を減圧下に濃縮して溶媒と試薬を留去し、残留物をベ
ンゼンで洗えば対応する遊離酸(2)を70〜90係の
収率で製造できる。
2)前記出発物質(1)1部をジクロロメタン5〜9部
とアニソール2〜8部の混液にとかし、−10〜10°
Cで塩化アルミニウムまたは四塩化チタニウム2〜4モ
ル当眼ヲ加えたのち、1〜3時間かきま田る。反応液全
桁塩酸と水で洗い、乾燥したのち濃縮すれば、対応する
遊離酸(2)を80〜95係の収率で製造できる。
とアニソール2〜8部の混液にとかし、−10〜10°
Cで塩化アルミニウムまたは四塩化チタニウム2〜4モ
ル当眼ヲ加えたのち、1〜3時間かきま田る。反応液全
桁塩酸と水で洗い、乾燥したのち濃縮すれば、対応する
遊離酸(2)を80〜95係の収率で製造できる。
実施例3(メトギン化)
7α−アミド−3−置換メチル−1−オキサ−△
3−セフェム−4−カルボン酸誘導体(1) 1部をジ
クロロメタン10部にとかし、第三級ブチルヒポクロリ
ド1.1モル当量を加えて一20°Cに3時間数ffす
る。これて12モル当量のりチウムメトキシドをメタノ
ールにとかして加え、30分間反応させる。反応液を酢
酸酸性とし、ジクロロメタンで希釈する。これを水洗、
乾燥し、減圧濃縮すれば対応する7β−アミド−7a−
メトキシ−3−置換メチル−1−デチアー1ーオキサー
3−七フエノ・−4−カルボン酸誘導体(2)を40−
85%の収率で製造できる。
クロロメタン10部にとかし、第三級ブチルヒポクロリ
ド1.1モル当量を加えて一20°Cに3時間数ffす
る。これて12モル当量のりチウムメトキシドをメタノ
ールにとかして加え、30分間反応させる。反応液を酢
酸酸性とし、ジクロロメタンで希釈する。これを水洗、
乾燥し、減圧濃縮すれば対応する7β−アミド−7a−
メトキシ−3−置換メチル−1−デチアー1ーオキサー
3−七フエノ・−4−カルボン酸誘導体(2)を40−
85%の収率で製造できる。
実施例4(アミド化)
ト式のアシル1に反応により、対応する7β−アミン化
合物(2)1モルIC1例えば次の方法によって、78
位側鎖にz1応するカルボン酸(3)捷たはその反応性
誘導体を反応さぜればアミド(1)を合成できる。
合物(2)1モルIC1例えば次の方法によって、78
位側鎖にz1応するカルボン酸(3)捷たはその反応性
誘導体を反応さぜればアミド(1)を合成できる。
1)ジクロロメタン10フロ、2−エトキシ−1−エト
キシ力ルボニルー1,2−ジヒドロキシリン1.1モル
、N、N−ジシクロへキンルカーボジイミド11モル、
ピリジン15モルとカルボン酸(3)11モルの混合物
中O″C〜C〜室温6時間かき1ぜる。
キシ力ルボニルー1,2−ジヒドロキシリン1.1モル
、N、N−ジシクロへキンルカーボジイミド11モル、
ピリジン15モルとカルボン酸(3)11モルの混合物
中O″C〜C〜室温6時間かき1ぜる。
2)酢酸エチル10倍容中、ジン−ピリジルジスルフィ
ド11モル、トリフェニルホスフィン11モル、カルボ
ン酸(3) 1.1モルの混合物中、10〜50°Cで
2〜6時間かき捷ぜる。
ド11モル、トリフェニルホスフィン11モル、カルボ
ン酸(3) 1.1モルの混合物中、10〜50°Cで
2〜6時間かき捷ぜる。
3)ジクフロン223倍容、カルボン酸(3) 1.、
1モル、1,3.5−トリピリジニウムトリアジン・ト
リクロリド4モルの混合物中、−10〜10°Cで1〜
5時間かき1ぜる。
1モル、1,3.5−トリピリジニウムトリアジン・ト
リクロリド4モルの混合物中、−10〜10°Cで1〜
5時間かき1ぜる。
/I) 四1湛化炭素30倍容、N−メチルモルホリン
15モル、トリスジエチルアミンホスフィ711モル、
カルボン酸(3) 1.1モルの混合物中、−20〜1
0°Cに1〜5時間放置する。
15モル、トリスジエチルアミンホスフィ711モル、
カルボン酸(3) 1.1モルの混合物中、−20〜1
0°Cに1〜5時間放置する。
5)クロロホルム10フロとジメフロシエタン10倍容
、ピリジン15モルおよびカルボン酸(3)とインブト
キシぎ酸との混合無水物の混合物を一5〜10°Cで3
0分〜6時間攪拌する。
、ピリジン15モルおよびカルボン酸(3)とインブト
キシぎ酸との混合無水物の混合物を一5〜10°Cで3
0分〜6時間攪拌する。
6)酢酸エチル10倍容、1.2−ジクロロエタン10
フロ、N−メチルモルホリン15モル、カルボン酸(3
)の対称無水物1.1モルの混合物中10分〜2時間加
熱還流する。
フロ、N−メチルモルホリン15モル、カルボン酸(3
)の対称無水物1.1モルの混合物中10分〜2時間加
熱還流する。
7)ジクロロメタン10フロ、ピリジン15モルとカル
ボン酸(3)とメタンスルホン酸の混合無水物11モル
の混合物中0°Cから室温に眉温しんから1〜3時間か
き1ぜる。
ボン酸(3)とメタンスルホン酸の混合無水物11モル
の混合物中0°Cから室温に眉温しんから1〜3時間か
き1ぜる。
8)酢酸エチル10倍容、りん酸ジエチルとカルボン酸
(3)との混合酸無水物1,5モルおよびピリジン15
モルの混合物中、0〜10″Cで1〜5時間かきまぜる
・ 9) l!ili酸エチル7倍容、ジフロロメタン10
フロ、ピリジン1モルおよびカルボン酸(3)とりん酸
ジクロリドとの混合酸無水物11モルの混合物中、0°
C〜室温で1〜3時間かき捷ぜる。
(3)との混合酸無水物1,5モルおよびピリジン15
モルの混合物中、0〜10″Cで1〜5時間かきまぜる
・ 9) l!ili酸エチル7倍容、ジフロロメタン10
フロ、ピリジン1モルおよびカルボン酸(3)とりん酸
ジクロリドとの混合酸無水物11モルの混合物中、0°
C〜室温で1〜3時間かき捷ぜる。
10)ルチジン15モル、ジクロロメタン10−5りん
酸のジエチルアミンのモノクロリドとカルボン酸(3)
との混合無水物11〜2モルの混合物中、0〜30゛C
で1〜4時間かきまぜる。
酸のジエチルアミンのモノクロリドとカルボン酸(3)
との混合無水物11〜2モルの混合物中、0〜30゛C
で1〜4時間かきまぜる。
11)ジク日日タ225倍容、トリフルオロ酢酸無水物
15モル、ピリジン3モルおよびカルボン酸(3)1.
5モルの混合物中、0°C〜室温で1〜5時間かきまぜ
る。
15モル、ピリジン3モルおよびカルボン酸(3)1.
5モルの混合物中、0°C〜室温で1〜5時間かきまぜ
る。
12)ジクロロメタン10フロ、りん酸ジエチルのJL
化物12モル、N−メチルモルポリン25モルおよびカ
ルボン酸(3) 1.2モルの混合物中、0 ’0〜室
温で1〜3時間がき寸ぜる。
化物12モル、N−メチルモルポリン25モルおよびカ
ルボン酸(3) 1.2モルの混合物中、0 ’0〜室
温で1〜3時間がき寸ぜる。
13)化合物(2)の1−デチアー1−オキザセフエム
環の4位置換基がカルボギシ基の場合、これを炭酸水素
ナトリウム25モルを含む水10倍日計とかし、カルボ
ン酸(3)の塩化物11モルを満願し・−5°C〜室温
で30分〜2時間反応させる。
環の4位置換基がカルボギシ基の場合、これを炭酸水素
ナトリウム25モルを含む水10倍日計とかし、カルボ
ン酸(3)の塩化物11モルを満願し・−5°C〜室温
で30分〜2時間反応させる。
14)化合物(2)の1−デチアー1−オキサセフェム
環の4位置換基がカルボキシの場合に、これに塩化トリ
メチルシリルとトリエチルアミンを12 ゛モルづつ作
用させて0−シリル化し、ピリジン4モル当量とカルボ
ン酸(3)の塩化物11モルを一30℃で加え、30分
〜2時間反応させたのち、シリルエステルを酸で加水分
解する。
環の4位置換基がカルボキシの場合に、これに塩化トリ
メチルシリルとトリエチルアミンを12 ゛モルづつ作
用させて0−シリル化し、ピリジン4モル当量とカルボ
ン酸(3)の塩化物11モルを一30℃で加え、30分
〜2時間反応させたのち、シリルエステルを酸で加水分
解する。
15)ピコリン4モルとカルボン酸(3)の塩化物1゜
2モルをジクロロメタン20フロにとがした溶液中、0
°C〜−30°Cで30分〜2時間がきまぜる。
2モルをジクロロメタン20フロにとがした溶液中、0
°C〜−30°Cで30分〜2時間がきまぜる。
16)ジメチルホルムアミド2フロと酢酸エチル10倍
容との溶液中、トリエチルアミン1.1モルとカルボン
酸(3)の1′I、;i化物11モルの混合物をO′C
〜−20“0で30分〜3時間かき」ぜる。
容との溶液中、トリエチルアミン1.1モルとカルボン
酸(3)の1′I、;i化物11モルの混合物をO′C
〜−20“0で30分〜3時間かき」ぜる。
17)ジク「Jロメタン:30倍容重塩化シアヌル11
モル、ピリジン1モル、カルボン酸(3)11モルの混
合物中−30〜+ O”(:で30分〜2時間かき1ぜ
る。
モル、ピリジン1モル、カルボン酸(3)11モルの混
合物中−30〜+ O”(:で30分〜2時間かき1ぜ
る。
18)ジク四日タタフ3倍容、オキシ塩化りん11モノ
ペ ピリジン15モル、カルボン酸(3) 1.1モル
の混合物中、−10〜10°Cで20分〜2時間かき斗
ぜる。
ペ ピリジン15モル、カルボン酸(3) 1.1モル
の混合物中、−10〜10°Cで20分〜2時間かき斗
ぜる。
19)塩化トリメチルシリルと酸捕捉剤を作用させて、
N−トリノチルンリル体とし、この1モルに対j、てオ
キシ塩化1]ん15とカルボン酸(3) 1.2モルお
、L、びピリジン4モルをジクロロメタン5倍重計中O
″C〜室温で30分〜2時間作用させ−る。
N−トリノチルンリル体とし、この1モルに対j、てオ
キシ塩化1]ん15とカルボン酸(3) 1.2モルお
、L、びピリジン4モルをジクロロメタン5倍重計中O
″C〜室温で30分〜2時間作用させ−る。
20)ジクロロメタン8容重、塩化チオニル15モル、
ピリジン25モル、カルボン酸(3) 1.1モルの混
合物中、−30〜0°Cで1〜5時間かき捷ぜる。
ピリジン25モル、カルボン酸(3) 1.1モルの混
合物中、−30〜0°Cで1〜5時間かき捷ぜる。
2+) /ロロホルム3容重、トルエン1倍容、カルボ
ン酸(3) 1.1モル、ヒコリン2モル、塩化オキザ
リル1モルの混合物中、−50〜10°Cで10分〜2
時間かきまぜる。
ン酸(3) 1.1モル、ヒコリン2モル、塩化オキザ
リル1モルの混合物中、−50〜10°Cで10分〜2
時間かきまぜる。
22)ジクロロメタン20容重、ピリジン3モル、カル
ボン酸(3)の1−オキシベンゾトリアゾールエステル
3モル、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド3モ
ルの混合物中、10〜50°Cで5〜30時間かき捷ぜ
る。
ボン酸(3)の1−オキシベンゾトリアゾールエステル
3モル、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド3モ
ルの混合物中、10〜50°Cで5〜30時間かき捷ぜ
る。
23)ジクロロメタン20容重、1−ヒドロキシペンツ
トリアゾール21モル、N、N−ジシクロへキシルカー
ポジイミド25モルとカルボン酸(3)2モルの混合物
中、室温で1〜15時間かき捷ぜる。
トリアゾール21モル、N、N−ジシクロへキシルカー
ポジイミド25モルとカルボン酸(3)2モルの混合物
中、室温で1〜15時間かき捷ぜる。
24)ジオキザン10容重、カルボン酸(3)のフタシ
フイミド2モル、N、N−ジシクロへキシルカーポジ・
rミド2モルの混合物中、10〜50°Cで2〜8時間
かきまぜる。
フイミド2モル、N、N−ジシクロへキシルカーポジ・
rミド2モルの混合物中、10〜50°Cで2〜8時間
かきまぜる。
25)メチルイソブチルケトン10倍容、カルボン酸(
3)のザクシン46115モルとN、N−ジシクロへキ
シルカーポジイミド15モルの混合液中、0〜40°C
で2〜9時間かき寸ぜる。
3)のザクシン46115モルとN、N−ジシクロへキ
シルカーポジイミド15モルの混合液中、0〜40°C
で2〜9時間かき寸ぜる。
26)カルボニルジイミダゾール11モル、テトラヒド
ロフラン10容重、ジメチルアセトアミド5容重、カル
ボン酸(3) 1.1モルの混合物中、0゛″C〜室温
で1〜5時間かき1、ぜる。
ロフラン10容重、ジメチルアセトアミド5容重、カル
ボン酸(3) 1.1モルの混合物中、0゛″C〜室温
で1〜5時間かき1、ぜる。
27)ジメチルホルムアミド5容重中、カルボン酸(3
)とジメチルホルトアミドのビルスマイヤー試薬11モ
ルとジメチルアニリン13モルの混合物中、室温で1〜
5時間かき寸ぜる。
)とジメチルホルトアミドのビルスマイヤー試薬11モ
ルとジメチルアニリン13モルの混合物中、室温で1〜
5時間かき寸ぜる。
28)ジクロロメタン10容重、ジメチルホルム・アミ
ド5容重、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド1
.1モル、ピコリン1.2モル、カルボン酸(3) 1
.1モルの混合物中、2時間〜24時間加熱する。
ド5容重、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド1
.1モル、ピコリン1.2モル、カルボン酸(3) 1
.1モルの混合物中、2時間〜24時間加熱する。
なお上記記載中、容積は原料アミン(2)のグラム数に
対するイ数の割合を示すものとする。
対するイ数の割合を示すものとする。
実施例5(3位−異項環チオ基の導入)1)3−クロロ
メチル化合物(1)1部、異項環チオール・ナトリウム
塩12当量と臭化テトラブチルアンモニウム触媒量ヲジ
クロロメタン10〜20部にとかし、室温下30分〜3
時間かき捷ぜる。
メチル化合物(1)1部、異項環チオール・ナトリウム
塩12当量と臭化テトラブチルアンモニウム触媒量ヲジ
クロロメタン10〜20部にとかし、室温下30分〜3
時間かき捷ぜる。
有機層を水洗、乾燥したのち、減圧濃縮すれば対応する
異項環チオ化合物(2)を得る。収率、80〜90%。
異項環チオ化合物(2)を得る。収率、80〜90%。
2)3−クロロメチル化合物(1)1部と異項環チオー
ル・ナトリウム塩12当量をN、N−ジメチルホルムア
ミド3〜5部にとかし、30分〜3時間かきまぜる。反
応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水
洗、乾燥したのち減圧濃縮すれば、対応する異項環チオ
化合物(2)を得る。収率°80〜90%。
ル・ナトリウム塩12当量をN、N−ジメチルホルムア
ミド3〜5部にとかし、30分〜3時間かきまぜる。反
応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水
洗、乾燥したのち減圧濃縮すれば、対応する異項環チオ
化合物(2)を得る。収率°80〜90%。
実施例6(薬理学的活性エステル)
R3−−C1l、0ct)(:(Cl131゜1) カ
ルボン酸カリウノ・塩(+) 1ミリモルをN、N−ジ
メチルホルノ・アミド2〜5重量部にとかし、水冷下に
ピバリン酸ヨードメチルエステル1〜2当量を加えて1
5分〜2時間かき1ぜる。反応液を酢酸エチルでうすめ
、氷水と炭酸水素すトリウム水で洗い、乾燥したのち、
減圧濃縮する。残留物を酢酸エチルから再結晶す1′L
はカルボン酸のピバロイルオキシメチルエステル(2)
を得る。
ルボン酸カリウノ・塩(+) 1ミリモルをN、N−ジ
メチルホルノ・アミド2〜5重量部にとかし、水冷下に
ピバリン酸ヨードメチルエステル1〜2当量を加えて1
5分〜2時間かき1ぜる。反応液を酢酸エチルでうすめ
、氷水と炭酸水素すトリウム水で洗い、乾燥したのち、
減圧濃縮する。残留物を酢酸エチルから再結晶す1′L
はカルボン酸のピバロイルオキシメチルエステル(2)
を得る。
2)前記1)のカリウム塩(1)の代りにナトリウム塩
を用い、同一条件下に反応させれば同一の生成物を製造
するととができる。
を用い、同一条件下に反応させれば同一の生成物を製造
するととができる。
3)前記1)のピバロイルオキシメチルエステル(2)
250mg、コーンスターチ150〜とステアリン酸マ
グネシウム5mgを常法により混合、顆粒化(35) し、ゼラチンカプセルに充填する。
250mg、コーンスターチ150〜とステアリン酸マ
グネシウム5mgを常法により混合、顆粒化(35) し、ゼラチンカプセルに充填する。
このカプセル1−3個を1日3回、感受性ブドー球菌感
染症の患者に経口投与すれば、この病気を治療できる。
染症の患者に経口投与すれば、この病気を治療できる。
以下に原料物質の製造例を示す。
製造例
(1)(2)
(3) (4,)
(5)
1)I)MF30闘中の化合物(])3.50.!7に
室温でMsCl、1.、55−を加え、20分間攪拌す
る。反応終了後水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽
(36) 出液を水洗した後、溶媒を留ツマし、残留物を8102
クロマトグラフイーで精製し、油状の化合物(2)22
1、qを得る。
室温でMsCl、1.、55−を加え、20分間攪拌す
る。反応終了後水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽
(36) 出液を水洗した後、溶媒を留ツマし、残留物を8102
クロマトグラフイーで精製し、油状の化合物(2)22
1、qを得る。
IRl(C+−+ c ]、1 )ν: 1730、1
68QczONMI’!、(r月)Cl、) δ 1.
3 :3 (t 、、T = 71tz 。
68QczONMI’!、(r月)Cl、) δ 1.
3 :3 (t 、、T = 71tz 。
3■I)、3.23(s 、3H)、4.32 (q、
、 J=71(Z、21+)、7.40 (d 、
;I= 1311z、ITT)、。
、 J=71(Z、21+)、7.40 (d 、
;I= 1311z、ITT)、。
2) 1)M F 1.0m/!に化合物(2) 2.
0 gを入れ、これにピリジン1.5ml!とメルカプ
ト酢酸メチル13m1を加えて室glで一夜1問拌する
。反応混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を5102クロマトグラフィーで精製すると化合物
(3) L 38gが得られる。
0 gを入れ、これにピリジン1.5ml!とメルカプ
ト酢酸メチル13m1を加えて室glで一夜1問拌する
。反応混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を5102クロマトグラフィーで精製すると化合物
(3) L 38gが得られる。
N M TL (CDo]、) δ 1.32 (t
、 、T = 7r−Iz。
、 、T = 7r−Iz。
3 T−T )、3.52 (e 、 2r−r)、:
3.77 (s 、 3FT)、4.27 (Q 、
’−7[1z、2T()、6.93 (a。
3.77 (s 、 3FT)、4.27 (Q 、
’−7[1z、2T()、6.93 (a。
J = 321rz 、 ] ITT)3)アセ]・ン
7CCに化合物(3)1.38gを入れて一15°Cに
6却し、XN −NaO[r 6meを加えて−15〜
−5°0で40分間攪拌する。反応混合物を水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出して中性物質を除去する。水層を塩
酸酸性とし、酢酸エチルで2回抽出する。抽出液を水洗
]7て溶媒を留去すると化合物(、q)0.92gが得
られる。
7CCに化合物(3)1.38gを入れて一15°Cに
6却し、XN −NaO[r 6meを加えて−15〜
−5°0で40分間攪拌する。反応混合物を水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出して中性物質を除去する。水層を塩
酸酸性とし、酢酸エチルで2回抽出する。抽出液を水洗
]7て溶媒を留去すると化合物(、q)0.92gが得
られる。
N M R(CDCl5)δ: 1.33 (t 、
、T=7I(z。
、T=7I(z。
3 rr )、3.62(s、2H)、4.30(q、
、J=7T(z、2H,)、6.98 (6−、J =
32H−z、 l H)、10.45 (brs、
l I−T )。
、J=7T(z、2H,)、6.98 (6−、J =
32H−z、 l H)、10.45 (brs、
l I−T )。
71)化合物(4) 0.540k 28 % N■+
OK 水2rneに溶Wrシ、室温で一夜放置する。約
1fneに減圧丁で濃縮し、濃塩酸で酸性にし、析出す
る化合物(5)の結晶を戸数する。収量0.44g、m
p204〜6°C TR(ヌジョール):3430.3210.1710.
1660,1640.16]、0,1.580− N M R(d6 DMSO) δ :3.72(s、
21T)、6、90 (d、、J = 36 R2、I
H)、 7.40〜8.10(m、21■)a 同様の方法で、対応するKl = CH3の化合物αI
I)t合成できる。1 以上述べへ力tJ、:で製コ告される原料物質お、Lび
目的化合物ε、物理定数と共にそJLそれ表1および表
2に示す、。
OK 水2rneに溶Wrシ、室温で一夜放置する。約
1fneに減圧丁で濃縮し、濃塩酸で酸性にし、析出す
る化合物(5)の結晶を戸数する。収量0.44g、m
p204〜6°C TR(ヌジョール):3430.3210.1710.
1660,1640.16]、0,1.580− N M R(d6 DMSO) δ :3.72(s、
21T)、6、90 (d、、J = 36 R2、I
H)、 7.40〜8.10(m、21■)a 同様の方法で、対応するKl = CH3の化合物αI
I)t合成できる。1 以上述べへ力tJ、:で製コ告される原料物質お、Lび
目的化合物ε、物理定数と共にそJLそれ表1および表
2に示す、。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)下記化学構造式で表わされる7β−(カルボキサ
ミドフルオロビニルチオアセトアミド)−3−(1−置
換メチル−1日−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−1−デチアー1−オギサー3−セフェム−4−カルボ
ン酸とその誘導体。 (式中、R,’ 1l−I水素またはアルキル基を、n
?は保護されていてもよいヒドロキシメチル、カルバモ
イル捷だげアルキルカルバモイル基ヲ、n3は水素原子
、軽金属原子またにカルボキシ保護基を、 それぞれ示す。) (2、特許請求の範囲(1)の化合物を有効成分とする
抗菌剤。 (3)特許請求の範囲(1)の化合物に感受性のある細
菌を殺菌まだは静菌する方法に用いる特許請求の範囲(
1)の化合物の用途。 (4)特許請求の範囲(1)の化合物をアミド化、テト
ラゾリルチオ化、メトキシ化、核合成、エステル化、脱
保護または造塩によって製造する方法。
Priority Applications (17)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58128116A JPS6019791A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | フルオロビニルチオオキサセフアロスポリン類 |
DK426683A DK163000C (da) | 1982-09-30 | 1983-09-19 | Analogifremgangsmaade til fremstilling af vinylthioacetamido-1-dethia-1-oxa-cephalosporinderivater |
FI833348A FI74015C (fi) | 1982-09-30 | 1983-09-20 | Foerfarande foer framstaellning av farmakologiskt vaerdefulla vinyltioacetamidooxakefalosporinderivat. |
US06/534,147 US4529721A (en) | 1982-09-30 | 1983-09-21 | Vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives |
CA000437258A CA1219866A (en) | 1982-09-30 | 1983-09-21 | Vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives |
AU19752/83A AU558772B2 (en) | 1982-09-30 | 1983-09-29 | Vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives |
KR1019830004623A KR900008552B1 (ko) | 1982-09-30 | 1983-09-29 | 비닐티오 아세트아미도 옥사세팔로스포린 유도체의 제조방법 |
IE2310/83A IE55977B1 (en) | 1982-09-30 | 1983-09-29 | Vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives |
IE1834/87A IE55978B1 (en) | 1982-09-30 | 1983-09-29 | Intermediates for vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives |
NO833521A NO168478C (no) | 1982-09-30 | 1983-09-29 | Analogifremgangsmaate for fremstilling av terapeutisk aktive vinylthioacetamido-oxacefalosporinderivater. |
ES526130A ES8600311A1 (es) | 1982-09-30 | 1983-09-29 | Un procedimiento para la preparacion de derivados vinilacetamido oxacefalosporina |
PH29619A PH20013A (en) | 1982-09-30 | 1983-09-29 | Vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives |
EP83305958A EP0107928B1 (en) | 1982-09-30 | 1983-09-30 | Vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives, and intermediates therefor, their preparation, formulations containing the same and their antibacterial use |
GB08601753A GB2168349B (en) | 1982-09-30 | 1983-09-30 | Intermediates for vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives |
DE8383305958T DE3375141D1 (en) | 1982-09-30 | 1983-09-30 | Vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives, and intermediates therefor, their preparation, formulations containing the same and their antibacterial use |
GB08326244A GB2127825B (en) | 1982-09-30 | 1983-09-30 | Vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives and intermediates therefor |
PH31837A PH20224A (en) | 1982-09-30 | 1985-02-08 | A preocess for the preparation of vinylthioacetamido oxacephalosporin derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58128116A JPS6019791A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | フルオロビニルチオオキサセフアロスポリン類 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6019791A true JPS6019791A (ja) | 1985-01-31 |
JPH0454673B2 JPH0454673B2 (ja) | 1992-08-31 |
Family
ID=14976769
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58128116A Granted JPS6019791A (ja) | 1982-09-30 | 1983-07-13 | フルオロビニルチオオキサセフアロスポリン類 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6019791A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009150300A (ja) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Aisin Seiki Co Ltd | 弁開閉時期制御装置 |
-
1983
- 1983-07-13 JP JP58128116A patent/JPS6019791A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009150300A (ja) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Aisin Seiki Co Ltd | 弁開閉時期制御装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0454673B2 (ja) | 1992-08-31 |
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