JPS6016989A - オキソ飽和異項環カルボンアミドセフエム化合物 - Google Patents

オキソ飽和異項環カルボンアミドセフエム化合物

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JPS6016989A
JPS6016989A JP58123698A JP12369883A JPS6016989A JP S6016989 A JPS6016989 A JP S6016989A JP 58123698 A JP58123698 A JP 58123698A JP 12369883 A JP12369883 A JP 12369883A JP S6016989 A JPS6016989 A JP S6016989A
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acid
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浜島 好男
Koji Ishikura
公二 石倉
Tadatoshi Kubota
忠俊 久保田
Kyoji Minami
南 恭二
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Shionogi and Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は次式(I)で表わされる7β−オキソ異項環
カルボンアミドー3−セフェム−4−カルボン酸誘導体
、その製法、使用法およびこの化合物を有効成分とする
薬剤に関する: R (■)C00R2 (式中、kは水素原子またはメトキシ基を、klは水素
原子または置換基を、 飲は水素原子、軽金属原子またはカルボキシ保護基を、 Xは酸素原子、硫黄原子、SO基またはSO□基を、 Yはへテロ原子を鎖中に有するアルキレン基を、Zは水
素原子または置換基を、 それぞれ示す)。
前記式(I)における各符号を以下に説明する。
R1で示される置換基は異項環アンモニオ基と対イオン
であるか、アシルオキシ基、ハロゲン原子または異項環
チオまたはスルホキシド基である。
ここに異項環アンモニオ基としては、ピリジニウム、カ
ルバモイルピリジニウム、アルキルピリジニウムなどを
例示できる。対イオンとしては、ハロゲン、硝酸、硫酸
、アルカン酸などのアニオンや、4位のカルボキシが電
離したカルボキシレートを意味する場合もある。
アシルオキシとしてはアルカノイルオキシ、とくにアセ
チルオキシと炭酸系アシルオキシ、とくにカルバモイル
オキシやその保護体が好適であるが、他のアラルカッイ
ルオキシ、アロイルオキシアルキルスルホニルオキシ、
アリールスルホニルオキシなども含むものとする。
ハロゲン原子としては塩素と臭素が好ましい。
異項環チオ基としては、窒素、酸素、硫黄から選ばれた
異原子を含む5〜6員環の単環または双環共役異項環が
置換したチオ基であって、この異項環には各種の置換基
を有し得る。
異項環としては、前記定義の範囲内のものが含まれるが
、異原子数3ないし4の五員環のものが特に望ましい。
特ζこ好ましいものはトリアゾール、 。
オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾールであ
り、また、イミダゾール、トリアジン、ジヒドロトリア
ジンも好例である。
各種置換基としては、アルキル、シアノアルキル、カル
ボキシアルキル、カルバモイルアルキル、ヒドロキサモ
イルアルキル、アルコキサモイルアルキル、アミノアル
キル、N−アルキル化アミノアルキル、ウレイドアルキ
ル、ハロアルキル、カルバモイルハロアルキル、アリー
ルチオアルキル、異項環チオアルキル、スルファモイル
アルキル、アルケニル、カルボキシ、アミノ、ニトロ、
ヒドロキシ、オキソ、ハロゲンなど、炭素、窒素、酸素
、ハロゲンなどの原子を介して結合するものが好ましい
。これらの置換基は、更に同種または異種の置換基を有
していてもよく、また、カルボキシ、カルバモイル、ア
ミノ、ヒドロキシ、オキソ等は、常用の保護基で、反応
または利用の目的で修飾してあってもよいものとする。
また、二辺上の置換基が結合して、全体として環状基を
形成していてもよい。
R2で表わされるカルボキシ保護基としては、ペニシリ
ン、セファロスポリンの化学の分野で、分子中の他の部
分に不都合な変化を起こすことなく着脱可能のものとし
て知られている保護基、たとえばアラルキルエステル(
ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、メトキ
シベンジル、エトキシベンジル、ニトロベンジル、アミ
ノベンジル、ジフェニルメチル、フタリジル、フェナシ
ルなどのエステル)、置換アルキルエステル(トリクロ
ロエチル、【−ブチル、アリルなどのエステル)、アリ
ールエステル(ペンタクロロフェニル、インダニルなど
のエステル)、N−ヒドロキシアミノ化合物のエステル
(アセトンオキシム、アセトフェノンオキシム、アセト
アルドキシム、N−ヒドロキシこはく酸イミド、N−ヒ
ドロキシフタルイミドなどとのエステル)、炭酸または
カルボン酸との酸無水物などを構成する保護基かある。
置換アミド、置換ヒドラジドなどで反応性の高いアミド
も均等なカルボキシ保護基として、これに含めるものと
する。この保護基部分は前記のような各種置換分を有し
ていてもよい。
とくに、アルキル、アルカノイルオキシアルキル、アル
コキシアルキルまたはアミノアルコキシアルキルなどの
アルキルエステル類を形成する基、ベンジル、P−ニト
ロベンジル、フェナシル、フタリジルなどのアラルキル
エステル類を形成する基、フェニル、ハロフェニルなど
のアリールエステル類を形成する基が好ましい。
式(I)で示される化合物のうち、とくに有用なカルボ
キン誘導体は医薬用に適するものとして当業者によく知
られている誘導体であり、それは主として軽金属塩と薬
理学的活性エステルである。
軽金属塩としては、好ましくは周期律表第工〜■属、第
2〜4周期に属する、生理学的に受器しうるイオンとな
りうる軽金属原子の塩、とくにリチウム、ナトリウム、
カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウムな
どの塩を例示できる。
薬理学的活性エステルとしては、主に経口または非経口
投与において強い抗菌性を示すエステル、とくに置換ア
ルキルエステル(アルカノイルオキシアルキルエステル
、アルコキシホルミルオキシアルキルエステル、2−オ
キソ−1,3−ジオキソレニルメチルエステルなト)、
置換アルキルエステル類ルェナシルエステル、フタリジ
ルエステルf、K ト) 、置換アリールエステル(フ
ェニルエステル、キシリルエステル、インダニルエステ
ルなど)がよく知られており、これらは化合物(I)に
も利用できる。
Yで表わされるヘテロ原子を鎖中に有するアルキレン基
は、好ましくは3〜7個の原子鎖をもつ二価の基であっ
て、主鎖には不飽和結合を含まないものとし、その主鎖
には少くとも1個のへテロ原子、好ましくは窒素、酸素
または硫黄原子を有する。硫黄原子はスルフィド、スル
ホキシド、スルホンのいずれでもよい。
Zで表わされる置換基は1〜4個の置換基であって、ア
ルキル、置換アルキル、アラルキル、アルキリデン、ア
リール、アルカノイノヘニトリル、カルバモイル、カル
ボキシなどの炭素基、ヒドロキシ、アルコキシ、オキソ
などの酸素基、アルカンスルホニル、アリールスルフェ
ニルなどの硫黄基、塩素、臭素、ふっ素、よう素などの
/Sロゲンその他であって、さらにこのような置換基を
有していてもよいものとする。
なお硫黄原子上の置換基として、スルホキシド、スルホ
ン等はオキソ置換基を有するものと解する。
前記各基の定義中、アルキル部分は直鎖、分枝または環
状のアルキル基である。
アシル部分は、直鎖、分枝または環状のアルカメイル、
アルケノイル、カルボアルコキシ、カルバモイル、スル
ホ、アルキルスルホニル、スルファモイル、アリール部
分が窒素、酸素、硫黄などのへテロ原子を有する異項環
であってもよい単環または双環のアロイル、アラルカッ
イル、アリールアルケノイル、カルボアラルコキシ、ア
リールスルホニルなどのアシル基である。
アリール部分は、単環または双環の、5員環または6員
環アリール基であって、骨格に窒素、酸素、硫黄などの
へテロ原子を有する異項環であってもよい。ここに、異
項環基の代表例としては、ピリル、フリル、チェニル、
ピラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、チアゾリル
、トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジゾリル、テ
トラゾリル、オキサトリアゾリル、チアトリアゾリル、
ピリジル、ピロニル、チオピロニル、ピリミジル、ピラ
ジニル、ピリダジニル、トリアジニル、インドリル、ベ
ンゾフリル、ベンゾチェニル、テトラゾロピリダジニノ
ペプリニル、キノリル、イソキノリル、ピリドピリジル
、ベンゾピロニルなどがある。
前記各基は、さらに骨格中に不飽和結合、ヘテロ原子な
どを有し得る。
また、各基は各種置換基を有し得る。ここに、置換基と
しては、炭素基(アルキル、アルケニル、アルキリデン
、アルキニル、アラルキル、アリール、カルボキシ、保
護カルボキシ、カルバモイル、アルカノイル、アルケノ
イル、アラルカッイル、アロイル、アミノアルキル、シ
アノなど)、窒素基(アミノ、ヒドラジニル、アシド、
ジアゾ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アシル化ア
ミノ、アルキリデンアミノ、イミノ、ニトロソ、ニトロ
など)、酸素基(ヒドロキシ、アルコキシ、アラルコキ
シ、アリールオキシ、アシルオキシ、オキソなど)、硫
黄基(メルカプト、アルキルチオ、アリールチオ、アシ
ルチオ、チオキソ、スルフィニル、スルホニル、スルホ
、保護スルホなト)、りん基(ホスホなど)、ハロゲン
原子(ふっ素、塩素、臭素、ヨード)、その他の置換基
を例示できる。これらは更に同種または異種の置換基を
有し得る。また、二種以上の置換分が結合して環状基を
形成してもよい。
また、保護基としては、反応中に好ましくない変化を起
しうるヒドロキシ、アミノ、メルカプト、その他の茶に
は、適当な炭化水素基、アシル、アルキル化シリル、ア
ルコキシシリル、アルキルホスフィニルなどを、カルボ
キシ、スルホなどにはエステル、酸無水物、アミド、ヒ
ドラジドなどを形成する基など、当技術分野で利用され
ている保護基が用いられる。特に、分子中の他の部分に
悪影響なく着脱できることが知られている部分構造を有
する基が好ましい。
特に有用な置換基は、アルキル、アルケニル、ハロアル
ギル、シアン、カルボキシ、保護カルボキシ、カルボキ
シアルキル、ヒドロキシアミノカルボニルアルキル、カ
ルバモイルアルキル、シアノアルキル、アミノアルキル
、ウレイドアルキル、ジアルキルアミノアルキル、ヒド
ロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、アリールチオアルキル、アリールチオアルキル
、ハロアルキル、スルファモイルアルキル、アルコキシ
スルホニルアルキル、アルキルスルホニルアルキルニト
ロ、アミノ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アシルオキ
シ、アリールオキシ、オキソ、ハロゲンなどである。こ
れらは、さらに常用の置換基や保護基を有し得る。
化合物CI)は好気性または嫌気性のダラム陽性菌(ブ
ドウ球菌など)、グラム陰性菌(大腸菌など)にたいし
て抗菌作用を示し、感受性細菌の殺菌、静菌を目的とし
て、疾病の予防、治療のため医薬、動物薬として、また
殺菌剤、防腐剤、保存剤などとしても利用できる。
化合物CI)は安定であり、副作用が少なく、さらに他
剤耐性菌にも有効な抗菌作用や吸収、分布、代謝、排泄
などの薬理学的特性の点で、特に高血中濃度が持続する
点ですぐれている。
医薬として利用するときは、要すれば常用の添加剤を加
えて製剤化し、これを化合物(I)として外用では10
μg〜1〜 、静脈注射では0.2〜5ダ、経口投与で
は1〜2gの日用量で外用、局所、経口、注射など常法
により投与すれば、感受性細菌感染症を予防または治療
することができる。
このような製剤としては、アンプル剤、バイヤル剤、粉
剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、錠剤、ドライシ
ロップ剤、けんだく剤、液剤、乳剤、軟こう剤などとし
て、注射剤、内服剤、吸入剤、湿布剤、点眼剤、点鼻剤
、点耳剤、口腔剤、坐剤、スプレー剤などを例示でき、
それぞれ内用、外用または局所投与用などに利用できる
化合物(I)のうち、カルボン酸と軽金属塩は静脈注射
、点滴、筋肉注射、皮肉注射、皮下注射用などに、要す
れば安定化剤や溶解補助剤とともに、アンプル剤、バイ
ヤル剤などの注射剤として利用できる。薬理学的活性エ
ステルは粉剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、ドラ
イシロップ剤、液剤、錠剤、けんだく剤などとして内服
用に、また、液剤、乳剤、軟こう剤、坐剤、スプレー剤
などとして外用ないし局所投与に利用できる。
化合物CI)は、また、その定義内外の他の抗菌化合物
の合成原料や細菌の感受性検定試験用材料として利用す
ることもできる。
本発明に係る式(I)の化合物は、以下の方法で製造す
ることができる。
1)塩の製造 セフェム環の4位かカルボキシである化合物(I)に塩
基を作用させるか、交換分解法により他種カルボン酸の
軽金属塩を作用させると軽金属塩である化合物CI)を
製造できる。操作法はこの分野で用いられている方法か
適用できる。たとえば、遊離酸を炭酸水素軽金属塩で中
和する方法、アルコール、ケトン、エステルなどの極性
有機溶媒中、低級カルボン酸アルカリ金属塩を作用させ
たのち、難溶性溶媒を加えて目的とする塩を析出させる
方法などが好ましい。
反応は通常50“C以下で行なうと1〜10分間で終了
するが、副反応がなければさらに長時間放置することも
できる。
このようにして製造した塩は、結晶、粉末などの固体と
して分離したのち製剤化するか、凍結乾燥法などにより
抗菌製剤とすることができる。
2)カルボキシ保護基の脱離 カルボキシ保護基をもつ化合物(I)は、以下に例示す
る脱保護反応に付して、カルボキシ化合物(I)とする
ことができる。この脱保護反応には、たとえば下記のよ
うな、この分野で常用の操作法を適用することができる
a)反応性の高いエステル、アミド、無水物などの形の
カルボキシ保護基は酸、塩基、緩衝液、イオン交換樹脂
と水性溶液中で接触させることにより脱保護できる。反
応性が低いときにも、公知の方法によって反応性を高め
れば、容易に脱保護することができる場合もある。代表
例としては、たとえばトリクロルエチルエステル、P−
二トロベンジルエステル、フェナシルエステルなトラ金
属と酸、接触還元、ジチオン酸塩などで処理して脱保護
する方法がある。
b)アラルキルエステルは接触還元により脱保護できる
こともある。この場合、パラジウム、ニッケルなどの触
媒の存在下に水素を常法に従って作用させる。
C) アラルキルエステル、シクロプロピルメチルエス
テル、スルホニルエチルエステルナトハ加溶媒分解反応
などによって脱保護できる。この反応では鉱酸、ルイス
酸、スルホン酸、強酸性カルボン酸などを、要すればカ
チオン捕捉剤の存在下に作用させる。
d) フェナシルエステル、アルケニルエステル、ヒド
ロキシアラルキルエステルなどは、塩基や核剤の作用で
、また、光化学的活性なフェナシルエステルなどは光照
射により脱保護できる。
e)2−アルケニルエステルにアルカン酸アルカリ金属
とパラジウム−トリフェニルホスフィンを作用させれば
アルカリ金属塩を製造できる。
f)その他、均等なカルボキシ保護基脱離法を用いるこ
とができる。
3)3位置換基の導入 化合物(I)の3位が脱離基置換メチル基である化合物
に対応する異項環チオール、芳香族塩基またはそれらの
反応性誘導体を作用させれば目的とする化合物(I)を
製造することができる。ここに、脱離基としてはハロゲ
ン、スルホニルオキシ、アルカノイルオキシ基などの活
性脱離基がよい。前記チオールの反応性誘導体としては
、アルカリ金属塩、アンモニウム塩、カルボン酸チオー
ルエステルなどが好ましい。反応は無水溶媒中でも、含
水溶媒中でもO″C〜60゛Cで十分進行する。この反
応は脱水剤、塩化ホスホリル化合物、ロダン化合物など
により、促進される。
3位にカルバモイルオキシメチル基をもつ化合物(I)
は、4位カルボキシの保護された3−ヒドロキシメチル
化合物CI)にN−保護力ルバミン酸の反応性誘導体を
作用させたのち、最終生成物にカルバモイルオキシメチ
ル基を残せる時点で脱保護する方法を用いる。
4)アミド化 下記アミン(n)またはその反応性誘導体にカルボン酸
(H)またはその反応性誘導体を作用させれば、目的と
する化合物(I)またはその誘導体を製造できる。
(H) COOR2 に アミン(II)の反応性誘導体としては7位のアミノ基
が、シリル基(トリメチルシリル、メトキシジメチルシ
リル、【−ブチルジメチルシリルなど)、スタニル基(
トリメチルスタニルなど)、アルキレン基(アルデヒド
、アセトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル、
アセトアセトニトリル、アセトアセトアニリド、シクロ
ペンタンジオン、アセチルブチロラクトンなどと結合し
た形のエナミノ基の部分)、アルキリデン基(1−ハロ
アルキリデン、1−ハロアラルキリデン、]−アルコキ
シアルキリデン、1−アルコキシアラルキリデン、■−
アルコキシー1−フェノキシアルキリデン、アルキリデ
ン、アラルキリデンなど)、酸(鉱酸、カルボン酸、ス
ルホン酸などとの塩の形で)、その他の基で活性化され
たものと、分子中の他の官能基を前記のように保護した
ものなどを例示できる。
カルボン酸(IT)の反応性誘導体は酸無水物、酸ハロ
ゲン化物、活性エステル、活性アミド、アジドなど常用
のアシル化用誘導体である。
このアシル化に使用できるアシル化剤とその使用態様を
以下に列挙する。
1)遊離酸(TII) 縮合剤〔カーポジイミド(N。
N′−ジエチルカーポジイミド、N、N’−ジシクロへ
キシルカーポジイミドなど)、カルボニル化合物(カル
ボニルジイミダゾールなど)、インキサシリニウム塩、
アシルアミノ化合物(2−エトキシ−1−エトキシカル
ボニル−1,2−ジヒドロキノリンなど)、アミド化酵
素、その他〕の存在下、好ましくは活性水素のない溶媒
(ハロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテル、アミド溶
媒などとその混合物)中、好ましくはアミン(II)に
対してカルボン酸(■)1〜2モルと縮合剤1〜2モル
を作用させる。
11)酸無水物 これにはカルボン酸(■)の対称無水
物、混合酸無水物〔鉱酸(りん酸、硫酸、炭酸半エステ
ルなど)、有機酸(アルカン酸、アラルカン酸、スルホ
ン酸など)との混合無水物など〕、分子内無水物(ケテ
ン、インシアネートなど)、酸ハロゲン化物(ハロゲン
化水素との混合無水物)などを含む。
好ましくは酸無水物1〜2モルを、1〜0モルの酸捕捉
剤〔無機塩基(アルカリ金属、アルカリ土類金属などの
酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩など)、有機塩基
(第三級アミン、芳香族塩基など)、オキシラン(アル
キレンオキシド、アラルキレンオキシドなど)、ピリジ
ニウム塩(三塩化トリピリジニウムトリアジンなど)、
吸着剤(セライトなど)、その他〕の存在下、好ましく
は活性水素不含の溶媒(ハロゲン化炭化水素、ニトリル
、エーテル、アミド溶媒などまたはその混合物)中、ア
ミン(II)またはその反応性誘導体と反応させる。
111)酸ハロゲン化物 これはカルボン酸(]Tr)
のハロゲン化水素酸との混合酸無水物であって、前項に
準じて酸捕捉剤1〜10モルの存在下、溶媒(と<に、
ハロゲン化水素、ニトリル、エーテル、エステル、ケト
ン、ジアルキルアミド、水系溶媒など、またはその混合
物)中、アミン(、[)またはその反応性誘導体1モル
に対して酸ハロゲン化物、好ましくは1ないし2モルを
作用させる。
IV) 活性エステル これにはカルボン酸(III)
のエノールエステル(ビニルエステル、インプロペニル
エステルなト)、アリールエステル(フェニルエステル
、ハロフェニルエステル、ニトロフェニルエステルなど
)、異項環エステル(]−4)’ロキシベンゾトリアゾ
ールとのエステルなど)、N−t: トロキシ化合物と
のエステル、ジアシルヒドロキシルアミンとのエステル
、チオエステルなど、公知の活性化エステル基によるア
シル化剤を含む。たとえば、後記のような方法で反応さ
せる。
また、低、lアルキルエステルのような酵素化学的活性
エステルは、水性溶媒中アミド化酵素の存在下に常法に
より反応させる。
■)活性アミド これにはカルボン酸(If)の芳香族
アミド(イミダゾール、トリアゾール、2−エトキシ−
1,2−ジヒドロキノリンなどとのアミド)、ジアシル
アニリンなどが含まれる。これも、たとえば後記のよう
な条件下に反応させる。
Vi) ホルムイミノ化合物 たとえばカルボン酸(■
)のN、N−ジメチルホルムイミノエステルハライドな
どである。
前記したiV)〜V+)の反応においては、好ましくは
活性水素不含の溶媒(ハロゲン化炭化水素、エーテル、
ケトン、ニトリル、エステル、アミド系M媒などまたは
その混合物)中、アミン(1’r)またはその反応性誘
導体1モルに対してカルボン酸(2)の反応性誘導体1
〜2モル当量を一り0℃〜40゛Cで1時間〜5時間作
用させる。
5)メトキシ化 化合物(I)の7位にメトキシ基のない化合物にN−ハ
ロゲン化剤、脱ハロゲン化水素剤とメタノールとを作用
させれば、対応する化合物CI)を製造できる。この際
7位水素の立体配位には係りなく7β−アミド−7α−
メトキシ体が生成する。
操作方法には例えば次のようなものがある。
a)アルキルヒポクロリド(【−ブチルヒポクロリドな
ど)とアルカリ金属メトキシド(リチウムメチレート、
ナトリウムメチレートなと)とをメタノール中で作用さ
せる。
b)ハロゲン分子と塩基(リチウムメトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、マグネシウムメトキシドなど金属アル
コキシド、1,5−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−5
−ウンデセン(DBU)、トリエチルアミン、ピコリン
など)とをメタノール中で作用させる。
C)次亜ハロゲン酸塩、次亜ハロゲン酸エステル、N−
ハロアミド、N−ハロイミドなどのN−ハロゲン化剤と
アルカリ金属アルコキシド、アリールアルカリ金属など
の脱ハロゲン化水素剤を作用させたのち、メタノールを
作用させる。
6)カルボキシ基その他の反応性官能基の保護前記各製
造法において、また、化合物(I)に化学反応を施こし
て、他の化合物(I)などに変化させるときなどに、目
的とする基以外の反応性官能基を保護しておく必要があ
る場合がある。この場合、その反応性官能基の種類に応
じてこの分野でよく用いられている方法を援用して保護
することができる。このような方法は前記のような各種
成書に詳述されている。
前記各項における反応性基の保護のための保護基および
その導入、脱離法については、例えばJ。
F、W、 McOmie Ed、、”Protecti
ve Groups inOrganic Chemi
sty’ p、183(1973) PLEUM Pr
ess。
N、Y、 iやS、Patai、 Edit、、 ’T
he Chemistry ofFunctional
 Groups” 、 P、505(1969) 、T
ntersciencePubl、、John Wil
ey ge 5ons Ltd、London;Fly
nn Ed、’Cephalosporins and
 Pen1cillins″Academic Pre
ss 、へ、Y、(1972)などの成書ないし各種特
許文献などに詳記されている方法を利用することもでき
る。
たとえば、ヒドロキシ基にはアシル化、エーテル化など
、アミノ基にはアシル化、エナミン化、シリル化など、
カルボキシ基にはエステル化、アミド化、酸無水物化な
どを常法により施こすことかできる。また、薬理学的性
質を改変して所望の性質を与えるために、薬理学的活性
エステルとする場合も、この項の反応に含めるものとす
る。この場合、カルボン酸(I)に塩基を作用させて塩
とし、これに所望エステル基のハライドを作用させて目
的とする化合物(I)を合成することもできる。
7)反応条件 前記合成方法(1)−(6)は通常−30゛C〜100
゛C1とくに一20゛C〜50゛Cの温度で10分間〜
5時間かけて反応させることが多い。これらは溶媒中、
要すれば無水条件下に実施する。その他の常法は、いず
れも適用できる。反応用溶媒としては、炭化水素、ハロ
ゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、ニトロ
炭化水素、ニトリル、アミド、スルホキシド、カルボン
酸、有機塩基、アルコール、水、その他の系列に属する
工業用溶媒またはその混合物を利用できる。
8)後処理 反応液から未反応原料、副生成物、溶媒などの夾雑物を
抽出、蒸発、洗浄、乾燥などの常法により除去したのち
、吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマトグラフィー
など、常用の後処理法を組合せて生成物を単離すること
ができる。
9)実施例と製造例 以下に実施例と製造例を示して本発明の詳細な説明する
生成物の物理定数は、表にまとめて記載した。
表中、IRは、(7ff”値を、NMRはδ値を、J値
は結合定数をHz値で示す。
実施例中、量を表わす部はβ−ラクタム原料1重量部に
対する重量の割合を、モル当量数は原料β−ラクタム1
モルに対するモル数を示す。
後処理には、反応液に通常、必要に応じて水、ジクロロ
メタンなどの溶媒を加え、水洗、乾燥、減圧濃縮して得
られる残留物を、必要ならシリカゲル・クロマトグラフ
ィーで精製したのち、結晶化、沈殿、口過などで採取す
る方法を組合せて用いる。生成物の物理定数の測定値は
標品と一致する。
使用した略号は、以下の通りである。
Ph :フェニル基 Me :メチル基 EL :エチル基 PMB:p−メトキシベンジル基 BHニジフェニルメチル基 POM:ピパロイルオキシメチル基 BAK: CH(CH3)0COOC2H5−5JN7
′IN (イ) 製造例1 ジイソプロピルアミン1.82+++lを含むテトラヒ
ドロフラン20m/中に15%−n〜ブチルリチウム・
ヘギサン溶液7.5 ml!を滴下し、25分間かきま
ぜたのち、1−メチル−2−アゼチジノンを一70℃で
滴下し、20分後戻酸ジエチル1.33 mlVを加え
、2.5時間かきまぜたのぢ10%塩酸15ynlを加
え、酢酸エチルで抽出する。溶媒を留去すれば1−メチ
ル−2−オキソアゼチジン−3−力これをアセトン5倍
量中、IN−水酸化ナトリウムで加水分解したのち酸性
部分を取れば対応するカルボン酸を得る。無色油状物。
m、2H)、4.6−4.25(m、IH)。
CI!8H 水素化ナトリウム704■、マロン酸ジエチル3耐とか
らテトラヒドロフラン10Mtl中で調製したソジオマ
ロン酸ジエチル溶液にアナリジン−1−カルボン酸ベン
ジル1.8gを加え、室温に22時間放置する。10%
燐酸で中和し、水洗、乾燥し、濃縮すれば1−カーボベ
ンゾキシー2−オキソピロリジン−3−カルボン酸エチ
ル1.859を得る。油状物。
IR:pCH”3 17g5.173ocyn ’ 。
ax この生成物をエタノール中、10%パラジウム炭の存在
下加水分解すれば2−オキソピロリジン−3−カルボン
酸エチルを得る。mP 74.5−75.5℃。
IR: vCH”3 3440.1735.1710z
 1゜ax これをIN−水酸化す) IJウムで室温で30分間加
水分解すれば2−オキソピロリジン−3−カルボン酸を
得る。mp、 122−127”C0製造例3 マロン酸ジエチル6、1 mlをN、N−ジメチルホル
ムアミド30M/にとかじ、60f6水素化ナトリウム
1.6gを加え、O”Cで8分間かきまぜたのち、クロ
ロアセトアミド1.87gを加えて室温で3.5時間か
きまぜる。酢酸で中和し、酢酸エチル可溶部を分取し、
水洗、濃縮すれば2,5−ジオキソピロリジン−3−カ
ルボン酸エチルを得る。油状物。
NMR:δCDCl3 1.33(t 、3H,7Hz
) 、4.28(Pm q、2H,7Hz)、9.03(brs、IH)。
これをIN−水酸化ナトリウムで加水分解し、酸性部分
を分取し、水洗、濃縮すれば2.5−ジオキソピロリジ
ン−3−カルボン酸を得る。
mP、120−126”C(分解)。
製造例4 (2) アミン(1)1モルとアルデヒド(2)1モルを冷却丁
に1〜5時間反応させ、生成するイミン(3)をトルエ
ン中チオグリコール酸1モルと1/100量のP−トル
エンスルホン酸−水和物と1〜30時間反応させ、水洗
、濃縮すればチアゾリジン(4)を得る。
これにりチウムジイソプロピルアミド2モルの存在下に
テトラヒドロフラン10倍量中クロロギ酸エチル1モル
と−70”C〜−20”Cで0.1〜1時間反応させて
チアゾリジノンカルボン酸エチル(5−エチルエステル
)としたのち、エタノール中、IN−水酸化ナトリウム
で、O”C〜30”Cで加水分解すれば2−オキソチア
ゾリジン−5−カルボン酸(5)を得る。生成物の赤外
吸収スペクトルを次頁の表に示す。
製造例5 3−メチル−2,2−シアノメチレンチアゾリジン−4
−オン30817gをテトラヒドロフラン4 mlにと
かし、これにジイソプロピルアミン336μlとn−ブ
チルリチウムの16%n−ヘキサン溶液1、5 mlか
ら調製したジイソプロピルリチウムアミドのテトラヒド
ロフラン2Qml溶液に一70°Cに保ちながら滴下す
る。5分後、エチルクロロホーメート228μlを加え
、同温で30分間反応させたのち、0“Cに昇温し、酢
酸で中和、濃縮する。
残渣を酢酸エチルで希釈し、水洗、濃縮すれば3−メチ
ル−2,2−シアノメチレン−4−オキソチアゾリジン
−5−カルボン酸エチル105〜を得る。
3H)、4.28(Q 、2H,7H2)、4.80(
S 、IH)、4..87(S、LH)。
この生成物435qをメタノール20m1+ことかし、
痕跡量のヨードとマグネシウム1.1gを加え、0“C
で30分と室温で35時間かきまぜる。塩酸酸性とし、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥し、濃縮す
れば2−シアノメチル−3−メチル−4−オキソチアゾ
リジン−5−カルボン酸エチル282ダを得る。
3H) 、3.13(d 、2H,9Hz) 、4.2
5(Q 、2H,7H2)。
4.35 (S 、 LH) 、 4.7−5.0 (
m 、 IH)。
これをエタノール3m1jことかし、水冷下にIN−水
酸化すl−IJウム3肩lを加えて45分間かきまぜる
。希塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥し
、濃縮すれば2−シアノメチル−3−メチル−4−オキ
ソチアゾリジン−4−カルホン酸197ダを得る。
製造例6 テトラヒドロフラン40m1中、ジイソプロピルアミン
3.64 mlとn−ブチルリチウム(1,6Mヘキサ
ン溶液)16m/より調製したジイソプロピルリチウム
アミドを一70’C+こ冷やし、γ−ブチロラクトン1
.54 #ltを45分間に加え、次いでエチルクロロ
ホーメート1.8*lVを同温で添加し、60分間かき
まぜる。塩酸で中和し、濃縮し、酢酸エチルで抽出する
。抽出液を洗滌、濃縮すればγ−ブチロラクトンーα−
カルボン酸エチルエステル1.355gを得る。
IH,7Hz、l0H2)、4.27(Q、2H,7)
IZ)。
この生成物316qをIN−水酸化すI−IJウム4#
I/中水冷下に80分間かきまぜたのち、塩酸で中和し
、減圧濃縮したのち、エーテル抽出する。
抽出液を濃縮すればγ−ブチロラクトンーα−カルボン
酸26ONを得る。
製造例7 チオグリコールe 1.4 me+こパラホルムアルデ
ヒド9.0gとp−トルエンスルホン酸−水和物0.4
gをとかし、−夜装置する。反応液を蒸留すれば5−オ
キソ−1,3−オキサチオラン3.14gを得る・ b
P1585°C・ NMR、δCD”3 3.60(S、2H)、5.23
(S、2H)。
Pm ジイソプロピルアミン3.1罰、n〜ブチルリチウム1
4m1(1,6Mヘキサン溶液)とテトラヒトo7う7
40m1から調製したジイソプロピルリチウムアミド溶
液を一70’Cに冷やし、5−オキソ−1,3−オキサ
チオラン1.04ifを加え、ざらにP−メトキシベン
ジル・クロロホーメートを加える。30分後、塩酸酸性
とし、濃縮し、次いで酢酸エチルで抽出する。抽出液を
水洗、乾燥し、濃縮すれば5−オキソ−1,3−オキサ
チオラン−4−カルボン酸P−メトキシベンジルエステ
ル265■を得る。
5.11(S、2H)、5.18;5.35(ABq、
2H,6Hz)。
6.80;7.25(dd、4H,8Hz)。
これにアニソール0.5 ml 、ジクロロメタン2m
lとトリフルオロ酢酸0.5 mlをoCで加え、90
分間後、減圧濃縮する。残渣をn−ヘキサン中でがきま
ぜれは5−オキソ−1,3−オキサチオラン−4−カル
ボン酸265〜を得る。
AB q 、 2H、5Hz’)。
製造例8 チオエタノールアミン塩酸塩1.1.4gをエタノール
20m1にとかし、これにクロロマロン酸エチルエステ
ル1.6 mlを加え、水冷下にかきまぜながらナトリ
ウムエトキシド(IN−エタノール溶液)20mlを滴
下する。2時間後、塩酸エタノールで中和し、濃縮する
。残留物をジクロロメタン中でかきまぜ、不溶物をF去
し、P液を濃縮して得た残渣を酢酸エチルより再結晶す
れば3−オキソ−2H−3,4,5,6−テトラヒドロ
−1,4−チアジン−2−カルボン酸エチルエステル9
70〜を得る。mp、 95〜97C8 IR:yCH”3 3390,1730.1670ff
 18aX 製造例9 チオエタノールアミン塩酸塩4.54gとクロロ酢酸エ
チルエステル3.52meを含むエタノール100 r
nlをかきまぜながらトリエチルアミン12,3mlを
滴下する。混合物を4時間還流したのち減圧濃縮する。
残渣を酢酸エチル中でかきまぜ、不溶物を痙去し、F液
を減圧濃縮すれはチオモルホリン−3−オン3.481
i’を得る。
NMR:δCJ)C433,27(s、2H)。
Pm 製造例10 3−オキソチオモルホリン−2−カルボン酸をジクロロ
メタン中、ジフェニルジアゾメタン1モル当量を作用さ
せて対応するジフェニルメチルエステルを製造する。
このエステル327qをジクロロメタン2ynlにとか
し、0.N−ビストリメチルシリルトリフルオロアセト
アミド1.1 mlと塩化アセチル0.28 tnlと
を加えて室温で2時間かきまぜる。反応液を濃縮し、残
渣を酢酸エチルlことかす。溶液を水洗、乾燥、濃縮す
れば1−アセチル−3−オキソチオモルホリン−2−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル302〜を得る。
IRニジCI(C131710m−1゜ax このアセチル化合物302qをジクロロメタン2ml中
、アニソール0.5 rIleとトリフルオロ酢酸Q、
 5 mlと1時間かきまぜる。反応液を減圧濃縮し、
残渣を石油エーテル中でかきまぜれは4−アセチル−3
−オキソチオモルホリン−2−カルボン酸を得る。この
生成物は精製することなく1−デチアー1−オキサー3
−セフェム−4−カルボン酸エステルのアミド化に利用
できる。
同様の反応を利用して、4−シアノアセチル−3−オキ
ソチオモルホリン−2−カルボン酸ジフェニールl f
kエステル(IR: νCF′”31710a 1)a
x を製造したのち、脱保護すれば4−シアノアセチル−3
−オキソチオモルホリン−2−カルボン酸を得る。
製造例11 3−オキソチオモルホリン1モル当量と水素化ナトリウ
ム1.0モル当量をN、N−ジメチルホルムアミドまた
はテトラヒドロフラン10倍量にとがし、−100で1
時間かきまぜたのち、ヨード化アルキルまたは硫酸アル
キル1.0〜1.4モル当量を加え、−10″C〜1o
−cで2時間かきまぜる。
反応液を10%塩酸で中和したのち、減圧濃縮する。残
渣を酢酸エチルにとかし、水洗、乾燥後、濃縮すれば4
−アルキルチオモルホリン−3−オンを80〜90%の
収率で得る。
第1表(つづき) 製造例12(その1) チオモルホリン−3−オン1モル当量を5〜40倍量の
テトラヒドロフラン中、リチウムジインプロピルアミド
1.0〜2.0モル当量と一10〜50Cで1〜3時間
かきまぜる。これにエチル・クロロホーメート1.0〜
20モル当量を加えて1〜3時間かきまぜる。反応液を
塩酸酸性とし、減圧濃縮して得た残留液を酢酸エチルで
抽出する。抽出液を水洗、乾燥し、減圧濃縮すれば3−
オキソチオモルホリン−2−カルボン酸エチルエステル
を80〜90%の収率で得る。
この生成物を3〜10倍量のエタノール中、IN−水酸
化ナトリウム水1,0〜2.0モル当量と10〜40G
で30分〜3時間かきまぜる。反応液を塩酸で中和し、
有機溶媒を留去する。残留液をジクロロメタンで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥し、濃縮すれば3−オキソチオ
モルホリン−2−カルボン酸を80〜95≠の収率で得
る。
x−f−ルエステルおよびカルボン酸のNMRスペクト
ルを第2表に示す。なお、表中、”next’は生成物
の物理定数を測定することなく、7β−アミノ−7α−
メトキシ−3−置換メチル−1−テチアー1−オキサー
3−セフェム−4−カルボン酸エステルと縮合させて所
期構造の化合物を合成し得たことを示す。
計 同−化合物はN−アルキルシステアミンにクロロマロン
酸エステルと反応させたのち、加水分解して製造するこ
ともできる。
製造例12(その2) NH2NT−I2 2−ジフェニルメトキシカルボニル−チオモルホリン−
3−オン327f’1.N1mM)をジクロロメタン8
 mlにとかし、ビストリメチルシリルトリフロロアセ
トアミド0.53 Meを加える。次いでトリクロロア
セチルイソシアネート0.18 mlを加え、30分間
かきまぜ、更にトリクロロアセチルイソシアネー) 0
.06 mlを追加して30分間かきまぜる。反応液を
濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマト上に
吸着させ、ジクロロメタン−ジクロロメタンと酢酸エチ
ルの混液(9/1)でM出させ、溶出液を濃縮すれば2
−ジフェニルメトオキシカルボニル−4−カルバモイル
−チオモルホリン−3−オン332■(89,6%)を
得る。
4.72(m、2H)、4.48(S 、IH)、6.
90(S 、IT()。
7.03〜7.63 (m 、 10H)。
このジフェニルメチルエステル体をジクロロメタン3t
nlにとかし、氷水冷却下、アニソール1ml。
トリフロロ酢酸1.5mlを加えて1時間かきまぜる。
反応液を濃縮して得られる残渣をn−ヘキサンで洗浄し
、不溶残渣としてカルボン酸を得る。このカルボン酸は
物理定数を測定することなく、7β−アミノ−7α−メ
トキシ−3−置換メチル−1=デチアー1−オキサ−3
−セフェム−4−カルボン酸エステルと縮合させる。
製造例13 ヘーメチルプロピレンイミン1.2gとチオグリコール
酸エチルエステル1.52m1を混合すると直ちに反応
して2−(2−メチルアミノプロピル)チオ酢酸エチル
エステルを得る。
””V”” 1730.1630am ’。
aX これをIM−ナトリウムエチレート・エタノール溶液1
4 mlにとかし、15分間加熱還流する。
反応液を塩酸酸性とし、酢酸エチルで抽出する。
抽出液を水洗、乾燥し、減圧濃縮すれは4,5−ジメチ
ルチオモルホリン−3−オン1.55yを得る。
NMR:δC1″C召31.42(d 、3H,7Hz
) 、2.52〜Pm 3.15(m、2H) 、2.97(S 、3H) 、
3.17 ;3.43(A’B(1゜2H,16)12
)。
製造例14 β−ニトロスチレン447m1をエーテル10rttl
にとかし、チオグリコール酸エチルエステル0.33m
1とトリエチルアミン42μ召を加えて30分間かきま
ぜる。反応液を濃縮すれば(1−フェニル−2−二トロ
エチル)チオグリコール酸エチルエステル718〜を得
る。
NMR:δC1)C’31.27(t 、3H,71(
z) 、3.08(S。
Pm 2H) 、4.15((1,2H,7H2) 、4.8
2(S 、3H)、7.35(S、5H)。
鉄粉1.、159で(1−フェニル−2−ニトロエチル
)チオクリコール酸エチルエステル1.08gを酢酸の
存在下に還元すれは6−フェニル−3−オキソチオモル
ホリン246 mlを得る。
N’MR:δC1)C’33.40(s 、 2H) 
、4.28(t 、lri。
Pm 7Hz)、7,33(s、5H)。
製造例15 I」 ニトロメタン10.8mJをエタノール10m1にとか
し、これにl0N−水酸化ナトリウム水0.8 @eと
水1.5m/とを加え、かきまぜながらアセトアルテヒ
ド1.1.2mlを滴下する。1日後蒸留すれば1−ニ
トロ−2−プロパツール9.70gを得る。
hp367−70C6 これに塩化アセチルl 5 mlを加えて3時間加熱還
流する。反応液を濃縮したのち蒸留すれば2−アセトキ
シニトロプロパン8.74flを得る。bP770C。
メタノール49m1にナトリウム2.25gを加え、こ
れにチオクリコール酸エチルエステル9.81をメタノ
ール20m1にとかして滴下する。ついで2−アセトキ
シニトロプロパン8.74flをメタノール20dにと
かして加え、2日間放置する。溶媒を留去した反応液を
エーテルにとかし、水洗、乾燥し、蒸留すれば(1−二
トロー2−プロピル)チオ酢酸エチルエステル5.69
’を得る。I)Pl、、2105〜111C0 鉄粉7.35gを酢酸0.64 mlを含む水中で1時
間加熱還流して活性化する。これに(1−ニトロ−2−
プロピル)チオ酢酸エチルエステル4.92gとエタノ
ール6mlを加えて一夜加熱還流する。
不溶物を戸去した反応液を濃縮し、残渣を酢酸エチルに
とかし、水洗、乾燥後、濃縮すれは6−メチル−3−オ
キソチオモルホリン1.37gを得る。
NMR:δCr)C131,30(d、3H,6H2)
、3.30(S。
Pm 2■])。
製造例16 ω−シアノアリルプロミド9.07gをテトラヒドロフ
ラン60m1にとかし、これを−65Gに冷却士し、チ
オグリコール酸メチルアミド6、13 mlとトリエチ
ルアミン9.5 mlとを加え、15分後冷却を中止し
て0′Cまで昇温させる。反応液を水で希釈し、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥し、濃縮すれば5
−シアノメチル−4−メチル−3−オキソチオモルホリ
ン6.86gを得る。
IR: vCf4”33400 、2230 、167
0z ”。
ax 製造例17 マロン酸ジエチル2.3 yxlをテトラヒドロフラン
2、3 mlにとかし、OCに冷却し、水素化ナトリウ
ム400 m9を加える。10分間かきまぜたのぢ、こ
れにアクIJ )げミド710πgを加えてo′Cで7
0分間および室温で3.5時間反応させる。反応液に酢
酸0.7 mlを加えて20分間かきまぜたのち、酢酸
エチルを加えて不溶物をP去する。p液を濃縮して得ら
れる残渣をn−ヘキサン中でかきまぜれば2.6−シオ
キソピペリジンー3−カルボン酸エチルエステル1.、
18 gを得る。mp、 69−74°C0この生成物
555■をIN−水酸化ナトリウム水6.6 mlにと
かし、OCで35分間かきまぜる。
反応液1こ10%塩酸を加え、減圧乾固したのち、ジク
ロロメタン可溶部をとり、ベンゼンから結晶化させれば
2,6−シオキソピペリジンー3−カルホン酸99■を
得る。mP、116−11800製造例18 CH3 3−オキソモルホリン1.01gに水冷下60%水素化
ナトリウム550〜を加えて90分間かきまぜる。つい
でヨードメチル1.25 mlを加えて60分間反応さ
せ、塩酸酸性とし、溶媒留去する。残渣を酢酸エチルに
とかし、水洗、乾燥し、濃縮すれば4−メチルモルホリ
ン−3−オン458〜を得る。
ジイソプロピルアミン1.4mJ、n−ブチルリチウム
6、3 mlとテトラヒドロフラン20m1の混液を一
60Cに冷却し、これに前段の生成物458πgをテト
ラヒドロフラン2mlにとかして加え、30分間かきま
ぜる。次いで、エチルクロロホーメートL2mlを加え
て30分間かきまぜたのち、塩酸で中和したのち濃縮す
る。残渣を酢酸エチルにとかし、水洗、乾燥し、濃縮す
れば4−メチル−3−オキソモルホリン−2−カルボン
酸エチルエステル368mgを得る。
3H) 、4..23(q、2H,7T−TZ) 、4
.65(S 、IH)。
この生成物308II!12をIN−水酸化ナトリウム
水4mlと60分間かきまぜたのち、反応液を塩酸酸性
として濃縮する。残渣をジクロロメタン−メタノール混
液で抽出すれば4−メチル−3−オキソモルホリン−2
−カルボン酸172〜を得る。
この生成物は物理定数を測定せずに7−アミノ−1−オ
キサセファロスポリン核のアシル化に用いて所期の化合
物を得た。
製造例19 3−オキソチアン−2−カルボン酸エチルエステル2.
0gをメタノール8mlとオルトギ酸メチルエステル2
0m1との混液にとかし、P−トルエンスルホン酸−水
和物120■を加えて一夜加熱還流する。反応液を減圧
濃縮し、残留物を酢酸エチルにとかし、水洗、乾燥し、
濃縮すれば3,3−ジメトキシチアン−2−カルボン酸
エチルエステル1.3217を得る。
6H)、3.57(S、IH)、4.26(q、2H,
7Hz)。
この生成物1.04gをメタノール20m1にとかし、
IN−水酸化ナトリウム水18m/を加え、60Cで1
8時間かきまぜる。反応液を塩酸酸性とし、酢酸エチル
で抽出する。抽出液を水洗、乾燥し、減圧濃縮する。残
留物をベンゼンから結晶化すれば3.3−ジメトキシチ
アン−2−カルボン酸675りを得る。
3.57 (S 、 II()。
製造例20 ジイソプロピルアミン3.6ml、ブチルリチウムヘキ
サン溶液(17%)15mJとテトラヒドロフラン40
m1の混液を一70Cに冷却し、これにδ−ラクトン1
.86 ynlのテトラヒドロフラン1. Q we温
溶液滴下する。60分間かきまぜたのち、ドライアイス
を加え、30分後、塩酸酸性として濃縮する。残留液を
酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗したのち、5%水
酸化すl−IJウム水で抽出する。抽出液を塩酸酸性と
し、酢酸エチルエステルで再抽出する。再抽出液を水洗
、乾燥し、減圧濃iすれば3−カルボキシ−δ−ラクト
ン890〜を得る。
製造例21 2−(2−ヒドロキシエチル)チオ酢酸3.38gを酢
酸エチル50m1にとかし、これに4−ジメチルアミノ
ピリジン0.1 mlとN、N/−ジシクロへキシルカ
ーポジイミド6.15gを加え、室温で一夜放置する。
不溶物をP去した反応液を濃縮1.たのち減圧蒸留すれ
ば2−オキソ−1,4−オキサチアン0.90 F/ 
(bp25125C)を得る。
この生成物をジイソプロピルアミン3.5 ml 、ブ
チルリチウムヘキサン溶液(17%)15.6m/、テ
トラヒドロフラン4Qm/!の混液に一70Cで滴下し
、60分間反応させる。これにドライアイスを加えて1
時間かきまぜたのち、塩酸酸性とし、濃縮する。残留液
を酢酸エチルで抽出する。抽出液を5′io炭酸水素ナ
トリウム水で抽出する。水性抽出液を塩酸酸性とし、酢
酸エチルで抽出する。
再抽出液を水洗、乾燥し、減圧濃縮したのち、蒸留すれ
ば2−オキソ−1,4−オキサチアン−3−カルボン酸
0.917を得る。
NMR: a””34.4 Q (s 、 IH)。
Pm 製造例22 H3CH3 チオグリコール酸エチル11 mlをエタノール60m
1にとかし、プロパルギルアミン5.9 mlを加える
次いでナトリウムボロハイドライド1.5gを加え、5
時間還流させる。反応液をアルコール塩酸で中和して濃
縮する。残渣をジクロロメタンにとかし、水洗、乾燥、
濃縮し、その残渣を酢酸エチルから再結晶すると3−オ
キソ−6−メチレン−2,3,5゜6−テトラヒドロ−
4H−1,4−チアジン6.65gが得られる。mp、
 80〜82C0IR: l”HC1′33430 、
1695a−1゜ax NMR:δd6T””CD30D 3.38 (S 、
2H)、4.07Pm (bs 、2H)、4.90(bs、IH)、5.07
(bs、IH)。
上記生成物525ダをテトラヒドロフラン40tnl+
ことかし、水冷下で水素化ナトリウム(50%)234
wIを加え、室温で30分間かきまぜた後、ヨードメチ
ル0.38 mlを加え、更に2時間かきまぜる。反応
液を酢酸酸性として濃縮し、その残渣を酢酸エチルにと
かし、水洗、乾燥、濃縮してクロマトグラフィーにかけ
ると3−オキソ−4−メチル−6−メチレン−2,3,
5,6−チトラヒドロー1.4−チアジン516■が得
られる。
NMR:δCI)C’33.03(S 、3H) 、3
.38(S 、2H)。
Pm 4.03(bS 、2H) 、4.98(bs 、IH
) 、5.08(bs、IH)。
この生成物516〜をテトラヒドロフラン5mlにとか
し、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラ
ン溶液に、−60C以下で加えてかきまぜる。次いでク
ロロ炭酸エチル0.69 mlを加えて20分間かきま
ぜた後、酢酸酸性として濃縮する。その残渣を酢酸エチ
ルにとかし、水洗、乾燥、濃縮してクロマトグラフィー
にかけるとエトキシカルボニル体756〜が得られる。
NMR:δCI)C’31.32(t 、3H,7H2
) 、3.08(S。
Pm 3H)、3.85〜4.55(m、2H+4H)、4.
30(4,2H。
7Hz ) 、 5.12〜5.25 (m 、 2H
)。
得られたエトキシカルボニル体ヲエタノールicとかし
、IN−水酸化ナトリウムで加水分解してカルボン酸を
得る。このカルボン酸は直ちに7β−アミノー7α−メ
トキシ−3−置換メチル−1−7’チア−1−オキサ−
3−セフェム−4−カルボン酸エステルと縮合させる。
製造例23 cH3CH3C1]3C1]3 3−オキソ−4−メチル−6−メチレン−2,3゜5,
6−テトラヒドロ−1,4−チアジン1.3(lをジク
ロロメタン20m1にとかし、これに−60Cにて、1
.2M塩素・四塩化炭素溶液8.4 mlを加え、20
分間かきまぜる。溶媒を留去し、その残渣をジメチルホ
ルムアミド4 rnlにとかし、塩化リチウム1.30
gを加えて1.5時間かきまぜる。溶媒を留去し、残渣
を酢酸エチルにとかして水洗し、乾燥、濃縮してクロマ
トグラフィーにかけるとクロロメチレン体0.46gが
得られる。
4.10 (m 、 2H) 、 6.13 (m 、
 IH)。
上記生成物0.50gをテトラヒドロフラン5mlにと
かし、ジイソプロピルアミン0.5 i meとn−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液(1,6M)2.3rLl
から調製したリチウムジイソプロピルアミドのテトラヒ
ドロフラン溶液に一70C以下で加えて20分間かきま
ぜる。次いでクロロ炭酸エチル0.4. mlを加え、
10分間かきまぜた後酢酸酸性とし、溶媒を留去する。
残渣を酢酸エチルにとかし、水洗、乾燥、濃縮してクロ
マトグラフィーにかけるとエトキシカルボニル体0.1
1gが得られる。
3)() 、4.25(Q 、 2)T、7T(Z) 
、3.83〜4..50(m、2H)。
4.43 (S 、 LH) 、 6.12 (m 、
 IH)。
得られたエトキシカルボニル体をエタノールニとかし、
水冷下、IN−水酸化ナトリウムで加水分解すると目的
とするカルボン酸が得られる。このカルボン酸は直ちに
7β−アミノ−7α−メトキシ−3−置換メチル−1−
デチアー1−オキザ=3−セフェム−4−カルボン酸ニ
ステルト縮合させる。
製造例24 クロロマロン酸エチルエステルl、 62 pal(D
 エタノール30m1溶液に、チオプロパツールアミン
塩酸塩1.279を加え、水冷下にかきまぜなからすト
リウムエトキシド(IN−エタノール溶液)20meを
滴下する。この混合液を5時間加熱還流した後濃縮し、
残留物をジクロロメタン中でかきまぜ、不溶物を戸去す
る。p液を濃縮して得た残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィーにより精製し、溶出物を酢酸エチルから再結晶す
ると3−オキソ−2H−テトラヒドロ−1,4−チアゼ
ピン−2−カルボン酸エチルエステル309〜が得られ
る。
mP、1.45〜146G。
2.27(m、2H)、2.95(t、2H,5Hz)
、3.2〜3.47(m、2H)、4.28(Q、2H
,7H2)、4.35(S、IH)。
6.93(brs 、IH)。
この生成物をIN−水酸化ナトリウムを用いてOCで4
0分間加水分解すると、3−オキソ−2H−テトラヒド
ロ−1,4−チアゼピン−2−カルボン酸が得られる。
2.97(t、2H,5Hz)、4.33(S、IH)
製造例25 クロロ酢酸メチルエステル1.09gのエタン−/l/
 60 m1m液に、チオプロパツールアミン塩酸塩1
.28gを加え、水冷下ζこかきまぜながらナトリウム
エトキシド(IN=エタノール溶液)20mlを滴下す
る。この混合液を55Cで4時間かきまぜた後、ナトリ
ウムエトキシド1dを追加し、さらに3時間かきまぜる
。室温で3日間放置した後濃縮し、残留物をジクロロメ
タン中でかきまぜ、不溶物を戸去する。P液を濃縮して
得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製すると
、3−オキソ−2H−テトラヒドロ−1,4−チアゼピ
ン1.06gが得られる。mp、145〜146C02
H)、3.2〜3.45(m、2H)、3.28(S 
、2H)、6.6(brs、IH)。
この生成物655■をテトラヒドロフラン30m1に懸
濁し、これに水素化ナトリウム(50%)260〜を水
冷下で加え、20分間かきまぜる。
ヨウ化メチル0.40 mlを水冷下に加え、室温でさ
らに1時間20分かきまぜる。反応液に水を加え、ジク
ロロメタンで2回抽出する。抽出液を乾燥、濃縮し、残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製すると4−メ
チル−3−オキソ−2H−テトラヒドロ−1,4−チア
ゼピン697〜が得られる。
”P、109〜110C8 I R: v CH”316504m ’ 。
aX NMR:δCI)C’31.8〜2.2 (m 、 2
H) 、 2.8〜3.0 (m。
Pm 2H)、3.00(S、3H)、3.38(S、2H)
、3.4〜3.55(m、2H)。
上記生成物580〜のテトラヒドロフラン12m1溶液
を、リチウムジイソプロパミド2.5モル当量のテトラ
ヒドロフラン15nte溶液に、−70Cで滴加し、1
時間かきまぜる。次いでエチルクロロホルメート1.2
+1+(!のテトラヒドロフラン3m1m液を滴下して
10分間反応させた後、10%塩酸13 rneを加え
、ジクロロメタンで抽出する。抽出液を水洗、乾燥した
後濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製
すると4−メチル−3−オキソ−2H−テトラヒドロ−
1,4−チアゼピン−2−カルボン酸エチルエステル8
47mgが得られる。シロップ状。
■R:・CHCβ31740 、1660m−1゜aX NMR:δCI)C’31.32(t 、3H,7H2
) 、 1.8〜2.2Pm (m、2H)、2.83〜3.02(m、21()、3
.02(S、3H)。
3.38〜3.63(、m、2H)、4.28(’1,
2H,7H2)、4.55(S、]、H)。
この生成物787 ml/をIN−水酸化ナトリウムを
用いてOCで1時間加水分解すると、4−メチル−3−
オキソ−2H−テトラヒドロ−1,4−チアゼピン−2
−カルボン酸の結晶756 mgが得られる。
IR:l”uJ0r1740.16051−1゜ax NMk:δC1)C13−CD30D1.7〜2.2(
m、2H)。
Pm 2.8〜3.1(m、2H)、3.03(S 、3H)
、3.3〜3.7(m。
2H)、4.53(s 、 IH)。
製造例26 ブチルリチウムのへキサン溶液(0,10M)63II
Ilをテトラヒドロフラン100jIlと混合し、これ
にジイソプロピルアミン14.0肩1V(0,10M)
を−506で加えた後、−5〜−7°Cで20分間かき
まぜる。次いで一50Cに冷却し、出発物質であるラク
タム11.3 f (0,10M)のテトラヒドロ7 
ラフ 30 ml溶液を滴加し、−20〜−15’Cで
10分間かきまぜた後−70’Cに冷却し、ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液(0,10M)63mlを追加し、
−10〜−5′Cで10分間かきまぜる。
次いで一70Cでドライアイスを加え、2時間を要して
OCまで昇温させ、希炭酸ナトリウム水溶液および酢酸
エチルを加える。水層を濃塩酸で中和し、食塩を加えた
後メチルエチルケトンで抽出する。抽出液を飽和食塩水
で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
すると油状残留物が得られる。この油を酢酸エチルから
結晶化させると目的物81011Wが得られる。mp、
127〜128C6 2H)、3.62(L、IH,5Hz)。
4 出発物質であるジエステル体1.4gをエタノール10
m(!fことかし、パラジウム/炭素で接触還元する。
理論量の水素を消費すれば反応液をp過し、P液を濃縮
すれば2−オキソピペラジン−3−カルボン酸エチル0
.68gが得られる。
この生成物140〜を酢酸エチル2miに懸濁し、2−
【−ブトキシカルボニルチオ−4,6−シメチルピリミ
ジン195F’l&を加えて室温で一夜反応させた後、
クロマトグラフィにかけると2−オキソ−【−ブトキシ
カルボニル−ピペラジン−3−カルボン酸エチル90〜
が無色結晶として得られる。
mp、 86〜87 C0 S、9H)、3.28〜4.06(m、4H)、4.2
5((1,2H。
8.0Hz)、4.98(S、IH)、7.53(bs
、IH)。
上記生成物400 mlのエタノール4耐溶液にIN 
−N aOH2mlを冷時添加し、次いで室温で50分
間かきまぜる。水冷した後結晶を戸数し、エタノールと
エーテルの混液で洗浄すると無色板状晶の2−オキソ−
【−ブトキシ力ルポニルーピペラジン−3−カルボン酸
のナトリウム塩が得られる。
元素分析値(C0゜I]1.N205Naとしテ)。
計算値(%) 45.12 5.68 10.52実測
値(%) 45.38 5.75 10.48一方、先
に得た2−オキソピペラジン−3−カルボン酸エチル0
.3417のテトラヒドロフラン溶液にベンジルクロロ
ポルメート340m1.次いでトリエチルアミン202
〜を−200で滴下し、30分間反応させた後反応液を
減圧下で濃縮し、残留物を酢酸エチルで抽出してカラム
クロマトグラフィ一により精製すると油状の2−オキソ
−4−ベンジルオキシカルボニルピペラジン−3−カル
ボン酸エチル320■が得られる。
IRニジCHCl3 3390,1740.1689z
l。
aX (m、6H)、5.03(S、LH)、5.10(S、
2H)、7.22(S 、5H) 、7.48CI)s
 、IH)−■二記生成物425〜をエタノール3ml
にとかし、l N −NaOH1,、75mlを加える
。水冷下に90分間攪拌し、析出する結晶を戸数してエ
タノールで洗浄すれば、無色針状晶の2−オキソ−4−
ベンジルオキシカルボニルピペラジン−3−カルボン酸
のナトリウム塩が得られる。
IH)、5.15(S、2H)、7.37(S、5H)
(2) (1) 上式のアシル化反応により、対応する7β−アミノ化合
物(2)1モルに、例えば次の方法によって、7β位側
鎖に対応するカルボン酸(3)またはその反応性誘導体
を反応させればアミド(1)を合成できる。
1)ジクロロフッ210容重、2−エトキシ−1−エト
キシカルボニル−1,2−ジヒドロキシリン1.1モル
、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド1.1モル
、ピリジン1.5モルとカルボン酸(3)1.1モルの
混合物中Q ”C〜室温で1〜6時間かきまぜる。
2)酢酸エチル10倍容中、ジターピリジルジスルフィ
ド1.1モル、トリフェニルホスフィン1.1モル、カ
ルボン酸(3) 1.1モルの混合物中、10〜50C
で2〜6時間かきまぜる。
3)ジクロロメタン3倍容、カルボン酸(3) 1.1
モル、1,3.5−トリピリジニウムトリアジン・トリ
クロリド4モルの混合物中、−10〜IOCで1〜5時
間かきまぜる。
4)四塩化炭素30倍容重1−メチルモルホリン1.5
モル、トリスジエチルアミノホスフィン1.1モル、カ
ルボン酸(3) 1.1モルの混合物中、−20〜IO
Cに1〜5時間放置する。
5)クロロホルム10容重とジメトキシエタン10倍容
、ピリジン1.5モルおよびカルボン酸(3)とインブ
トキシぎ酸との混合無水物の混合物を一5〜IOCで3
0分〜6時間攪拌する。
6)酢酸エチル10倍容、1,2−ジクロロエタン10
容重、1−メチルモルホリン1.5モル、カルボン酸(
3)の対称無水物1.1モルの混合物中10分〜2時間
加熱還流する。
7)ジグ0口フ2フ10倍容、ピリジン1.5モルとカ
ルボン酸(3)とメタンスルホン酸の混合無水物1.1
モルの混合物中OCから室温に昇温しながら1〜3時間
かきまぜる。
8)酢酸エチル10倍容、りん酸ジエチルとカルボン酸
(3)との混合酸無水物1.5モルおよびピリジン1.
5モルの混合物中、0〜10Cで1〜5時間かきまぜる
9)酢酸エチル7四日、ジグ0口フ2フ10倍容、ピリ
ジン1モルおよびカルボン酸(3)とりん酸ジクロリド
との混合酸無水物1.1モルの混合物中、OC〜室温で
1〜3時間かきまぜる。
10) ルチジン1.5モル、ジクロロメタン10m1
1 りん酸のジメチルアミドのモノクロリドとカルボン
酸(3)との混合無水物1.1〜2モルの混合物中、0
〜30Cで1〜4時間かきまぜる。
11) ジク四日メタン5倍容、トリフルオロ酢酸無水
物1.5モノペピリジン3モルおよびカルボン酸(3)
1.5モルの混合物中、0″′C:〜室温で1へ・5時
間かきまぜる。
12)ジグ0口フ2フ10倍容、りん酸ジエチルの臭化
物1.2モル、1−メチルモルホリン2.5モルおよび
カルボン酸(3)1.2モルの混合物中、OC〜室温で
1〜3時間かきまぜる。
13)化合物(2)のセフェム環の4位置換基がカルボ
キシ基の場合、これを炭酸水素ナトリウム2.5モルを
含む水10倍四日とかし、カルボン酸(3)の塩化物1
.1モルを滴加し、−5′C〜室温で30分〜2時間反
応させる。
14) 化合物(2)のセフェム環の4位がカルボキシ
ノ場合に、これに塩化トリメチルシリルトトリエチルア
ミンを1.2モルつつ作用させてo−シリル化し、ピリ
ジン4モル当量とカルホン酸(3)の塩化物1.1モル
を一30′Cで加え、30分〜2時間反応させたのち、
シリルエステルを酸で加水分解する。
15) ピコリン4モルとカルボン酸(3)の塩化物1
.2モルをジク四日メタフ20倍容にとがした溶液中、
OC〜−30Cで30分〜2時間かきまぜる。
16) ジメチルホルムアミド2四日と酢酸エチル10
倍容との溶液中、トリエチルアミン1.1モルとカルボ
ン酸(3)の塩化物1.1モルの混合物をOC〜−20
Cで30分〜3時間かきまぜる。
17)ジク0口メタン30倍容、塩化シアヌル1.1モ
ル、ピリジン4モル、カルボン酸(3) 1.1モルの
混合物中−30〜IOCで30分〜2時間かきまぜる。
18) ジクロロメタン3倍容、オキシ塩化りん1.1
モル、ピリジン1.5モル、カルボン酸(3)1.1モ
ルの混合物中、−10〜IOCで20分〜2時間かきま
ぜる。
19)7β−アミノ化合物(2)に塩化トリメチルシリ
ルを作用させて N −トリメチルシリル体とし、この
1モルに対してオキシ塩化りん1.%%カルボン酸(3
) 1.2モルおよびピリジン4モルをジクロロメタン
5倍重量中QC〜室温で30分〜2時間作用させる。
20) ジク四回メタフ8倍容、塩化チオニル1,5モ
ル、ピリジン2.5モル、カルボン酸(3)1.1モル
の混合物中、−30〜OCで1〜5時間がきまぜる。
21) クロロホルム3陪賓、トルエン1倍容、カルボ
ン酸(3) 1.1モル、ピコリン2モル、塩化オキサ
リル1モルの混合物中、−50〜IOCで10分〜2時
間かきまぜる。
22) ジク四日メタフ20倍容、ピリジン3モル、カ
ルボン酸(3)の1−オキシベンゾトリアゾールエステ
ル3モル、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド3
モルの混合物中、10〜50Cで5〜30時間かきまぜ
る。
23) ジク四日メタフ20倍容、1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール2.1モル、N、N−ジシクロへキシル
カーポジイミド2.5モルとカルボン酸(3)2モルの
混合物中、室温で1〜15時間がきまぜる。
24) ジオキサン10倍容、カルボン酸(3)のフタ
ルイミド2モル、N、N−ジシクロへキシルカ−ポジイ
ミド2モルの混合物中、10〜50Gで2〜8時間かき
まぜる。
25) メチシイソブチルケトン10倍容、カルボン酸
(3)のザクシンイミド1.5モルとN、N−ジシクロ
へキシルカーポジイミド1.5モルの混合液中、0〜4
0Cで2〜9時間かきまぜる。
26) カルボニルジイミダゾール1.1モル、テトラ
ヒドロフラン10倍容、ジメチルアセトアミド5陪賓、
カルボン酸(3) 1.1モルの混合物中、OC〜室温
で1〜5時間かきまぜる。
27) ジメチルホルムアミド5四日中、カルボン酸(
3)とジメチルホルムアミドのビルスマイヤー[薬1.
1モルとジメチルアニリン1.3モルの混合物中、室温
で1〜5時間かきまぜる。
28) ジク0口メタン10倍容、ジメチルホルムアミ
ド5四日、N、N−ジシクロへキシルカーポジイミド1
,1モル、ピコリン1.2モル、カルボン酸(3)1.
1モルの混合物中、2時間〜24時間加熱する。
なお上記記載中、容積は原料アミン(2)のグラム数に
対するmt!、数の割合、モル当量数は原料アミン(1
)1モル当量に対するモル当量数を示すものとする。
生成物は、必要に応じてジクロロメタンなどの溶媒を加
え、pHを調節し、水洗、乾燥、濃縮したのち、要すれ
ばシリカゲル上のクロマトグラフ、結晶化、吸着などで
精製して採取する。物理化学的定数の測定値は標品と一
致する。
(k2−=−CI]Ph2 またはCH2C6H40C
H3−P)■)P−メトキシベンジルエステルまたはジ
フェニルメチルエステル(1)1部をジクロロメタン0
.3〜3部、トリフルオロ酢酸0.3〜3部およびアニ
ソール0.5〜5部ζこ溶かし、−10〜40Cで10
分〜3時間かきまぜる。反応液を減圧下に濃縮して溶媒
と試薬を留去し、残留物をベンゼンで洗えば対応する遊
離酸(2)を70〜90%の収率で製造できる。
2)前詰出発物質(1)1部をジクロロメタン5〜9部
とアニソール2〜8部の混液にとかし、−10〜IOC
で塩化アルミニウム2〜4モル当量を加えたのち、1〜
3時間かきまぜる。反応液を希塩酸と水で洗い、乾燥し
たのち濃縮すれば、対応する遊離酸(2)を80〜95
%の収率で製造できる。
カルボン酸(1)igを0.5%炭酸水素すl−IJウ
ム水5IIIlにとかし、塩酸でpH7とし、酢酸エチ
ルで洗い、脱塩したのち、10I11/バイアルに入れ
、常法により凍結乾燥すれば、対応するす) IJウム
塩(2)の粉末を得る。
無菌条件下に製造した上記ナトリウム塩1gを注射用蒸
留水4gにとかし、ブドー球菌5taphylo−co
ccus aureus 感染症の患者に一日二回つつ
静脈注射すれば、この感染症を治療することができる。
このナトリウム塩(2)をとり、日本化学療法学会所定
の方法に阜じ最小発育阻止濃度を測定すれ2031こ対
し1 ttQ/me以下、大腸菌Es che r i
 ch 1acoliJc−2に対して1μQ /me
以下の価を示す。
実施例4(3位−異項環チオ基の導入)114 R ■)3−クロロメチル化合物(1)1部、異項環チオー
ル・ナトリウム塩1.2当量と臭化テトラブチルアンモ
ニウム触媒量をジクロロメタン10〜20部と水1〜5
部とにとかし、室温下30分〜3時間かきまぜる。有機
層を水洗、乾燥したのち、減圧濃縮すれば対応する異項
環チオ化合物(2)を得る。収率、80〜90%。
2)3−クロロメチル化合物(1)1部と異項環チオー
ル・ナトリウム塩1.2当量をN、N−ジメチルホルム
アミド3〜5部にとかし、水冷下30分〜3時間かきま
ぜる。反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を水洗、乾燥したのち減圧濃縮すれは、対応する異
項環チオ化合物(2)を得る。収率:80〜90%。
実施例5(薬理学的活性エステル) RR (k4:薬理学的活性エステル 残基) 1)カルボン酸カリウム塩(1)1ミリモルをN。
N−ジメチルホルムアミド2〜5重量部にとかし、水冷
下にピバリン酸ヨードメチルエステル1〜2当量を加え
て15分〜2時間かきまぜる。反応液を酢酸エチルでう
すめ、氷水と炭酸水素ナトリウム水で洗い、乾燥したの
ち、減圧濃縮する。残留物を酢酸エチルから再結晶すれ
はカルボン酸のピバロイルオキシメチルエステル(2)
ヲ得ル。
2)前記1)のカリウム塩(1)の代りにナトリウム塩
を用い、同一条件下に反応させれば同一の生成物を製造
することができる。
3) 前記1.)のピバロイルオキシメチルエステル(
2) 250 m’/、コーンスターチ15011I/
とステアリン酸マグネシウム5ダを常法により混合、顆
粒化し、ゼラチンカプセルに充填する。
このカプセル1−3個を1日3回、感受性ブドー球菌感
染症の患者に経口投与すれは、この病気を治療できる。
4) 前記1.)のピバリン酸ヨードメチルエステルの
代りに酢酸ヨードメチルエステルまたはエトキシぎ酸ヨ
ードエチルエステルを用いて同一の条件下に反応させれ
ば対応するアセトキシメチルエステルまたはエトキシカ
ルボニルオキシエチルエステル(2)を得る。
7α−アミド−3−置換メチル−1−デチアー1−オキ
サー3−セフェム−4−カルボン酸誘導体(1)1部を
ジクロロメタン10部にとかし、第三級ブチルヒポクロ
リド1.1モル当量を加えて−200に3時間放置する
。これに1.2モル当量のリチウムメトキシドをメタノ
ールにとかして加え、30分間反応させる。反応液を酢
酸酸性とし、ジクロロメタンで希釈する。これを水洗、
乾燥し、減圧濃縮すれば対応する7β−アミド−7α−
メトキシ−3−置換メチル−1−デチアー1−オキサー
3−セフェム−4−カルボン酸誘導体(2)を40−8
5%の収率で製造できる。
実施例7(分子の他の部分の変換による合成)1) S
−オキシド化 (2) 7β−(4−メチル−3−オキソチオモルホリン−2−
イル)カルボキサミド−7α−メトキシ=3−(1−メ
チル−5−テトラゾリル)チオメチル−1−デチアー1
−オキサー3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル(1)283〜をジクロロメタン5 ml
にとかし、これにm−クロロ過安息香酸113〜を加え
、2時間かきまぜたのち、5%炭酸水素ナトリウム水で
充分洗い、乾燥し、減圧濃縮すれば対応するS→オキシ
ド1−65〜を得る。収率:57%。
2)エーテルの加水分解 7β−(5−エトキシ−3−オキソチオモルホリン−2
−イル)カルボキサミド−7α−メトキシ−3−(1−
メチル−5−テトラゾリル)チオメチル−1−デチアー
1−オキサー3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル(1)137■をジクロロメタン2.5
 mlにとかし、−10Cでアニソール0.25−とト
リフルオロ酢酸0.25m1を順次加え、25分間かき
まぜたのち、減圧濃縮する。残留物をクロマトグラフし
て精製すれば対応する7β−(5−ヒドロキシ−3−オ
キソチオモルホリン−2−イル)カルボキサミド−7α
−メトキシ−3−(1−メチル−5−テトラゾリル)チ
オメチル−1−デチアー1−オキサ−3−セフェム−4
−カルボン酸(2)を得る。
3)脱ケタール 7β−(3,3−ジェトキシチオピラン−2−イル)カ
ルボキサミド−7α−メトキシ−3−(1−メチル−5
−テトラゾリル)チオメチル−1−デチア−1−オキサ
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル247〜をアセトン4m1にとかし、IN=塩酸0
.4 mlを加え、室温に8時間放置する。反応液を減
圧濃縮し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥
後、減圧濃縮すれば7β−(3−オキソチオピラン−2
−イル)カルボキサミド−7α−メトキシ−3−(1−
メチル−5−テトラゾリル)チオメチル−1−デチアー
1−オキサー3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル201■を得る。
4)側鎖閉環 (2) 7β−(2−(2,2−ジェトキシエチル)チオ−2−
カルバモイルアセトアミド)−7α−メトキシ−3−(
1−メチル−5−テトラゾリル)−チオメチル−1−デ
チアー1−オキサー3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル(1) 200〜を酢酸エチル8
 mlにとがし、20%過塩素酸0.4 mlを加えて
室温で30分間かきまぜる。反応液を5%炭酸水素ナト
リウム水で中和し、有機層を分取する。これを水洗、乾
燥し、濃縮して得られる残留物をシリカゲルクロマトグ
ラフィーにより分離すれば7β−(5−エトキシ−3−
オキソチオモルホリン−2−イル)カルボキサミド−7
α−メトキシ−3−(1−メチル−5−テトラゾリル)
チオメチル−1−デチアー1−オキサー3−セフェム−
4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル(2)130
#を得る。収率ニア0%。
以上の実施例1〜7で製造された化合物を、その物理定
数と共に以下の第3表に示す。
第1頁の続き ■Int、 C1,’ 識別記号 庁内整理番号C07
D 307/32 6640−4C309/30 71
69−4 C 7169−4C C07D 327104 8214−4C327106
8214−4C 501/20 7169−4 C 5011577169−4C 519100、8214−4C // C07D 241108 6970−4C335
1028214−4C 0発 明 者 石倉公二 奈良市二名町213番地の10 0発 明 者 久保田忠俊 羽曳野市蔵之内295番地 0発 明 者 南恭二 生駒軍手瀬町720番地の42

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)下記化学構造式で表わされる7β−オキソ異項環
    カルボンアミドー3−セフェム−4−カルボン酸誘導体
    。 0OR2 (式中、kは水素原子またはメトキシ基を、klは水素
    原子または置換基を、 k2は水素原子、軽金属原子またはカルボキシ保護基を
    、 Xは酸素原子、硫黄原子、SO基または502基を、 Yはへテロ原子を鎖中に有するアルキレン基を、Zは水
    素原子または置換基を、 それぞれ示す) (2、特許請求の範囲(1)の化合物を有効成分とする
    抗菌剤。 (3)特許請求の範囲(1)の化合物に感受性のある細
    菌を殺菌または静菌する方法に用いる特許請求の範囲(
    1)の化合物の用途。 (4)特許請求の範囲(1)の化合物を核合成、保護基
    導入、脱保護、アミド化、3位置換基の導入、7位のメ
    トキシ化、造塩またはエステル化によって製造する方法
    。 (5)下式で表わされるカルボン酸とその反応性誘導体
    。 Y−CHCOOH I CO (式中、YおよびZは特許請求の範囲第1項で定義した
    ものと同意義を示す)
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