JPS609718B2 - チアジアゾリルチオセフアロスポリン類縁抗生物質 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

この発明はセフアロスポリン類縁化合物、特に下式（１
）で表わされる化合物またはカルボキシ基における誘導
体に関する。 （式中、ふはｐーヒドロキシフエニル、Ｐーアニシルオ
キシフエニルまたは３−チエニル；Ｒは水素または低級
アルキル； をそれぞれ示す） カルボキシ基における誘導体はアルカリ金属塩およびｐ
ーメトキシベンジルヱステルおよびジフエニルメチルエ
ステルである。 Ｒで表わされる低級アルキル基の中ではＣ，ないしＣ３
のアルキル基が好ましい。 式（１）で表わされる化合物はいずれも新規物質であっ
て、グラム腸性菌および陰性菌に対してすぐれた抗菌力
を示し、医薬、動物薬、殺菌剤として用いられる。 ヒトあるいは動物に対しては、たとえば、体重ｌｋ９に
つき日用量０．１〜１０の９を常法により経口ないし非
経口投与する。この際、一般にはバィャル剤として用時
溶解して用いるが、他の添加剤、賦形剤と共に製剤化し
て水剤、注射剤、軟膏、錠剤、粉剤、カプセル剤などと
して常法に従って投与することもできる。 また、アシルオキシメチル、インダニル、フヱニル、フ
タＩＪジルェステル等の形で保護されている誘導体は経
口剤として用い得る。アルカリ金属との塩、アリカリ士
類金属との塩、有機塩基のアンモニウム塩類など、ペニ
シリン剤、セフアロスポリン剤に用いている塩を構成す
るカチオンとの塩類、および遊離酸（１）は非経口投与
の目的に用いることができる。またカルボキシ保護基を
もつ化合物は式（１）の範囲内または範囲外の化合物の
合成中間体としても有用である。この発明による化合物
は例えば次の方法によっても製造することができる。 ｛１｝ 下記アミン（０）または反応性誘導体にアリー
ルマロン酸（ｍ）またはその反応性誘導体を反応させる
方法。 （式中、Ａｒ、ＣＯＡ、ＣＯＢ、Ｒは前記と同意義）ア
ミン０‘ま侍関昭４９一１３３５９４号などに記載され
ている。 アミンロの反応性誘導体としては、７位のァミノ基が、
シリル塞くトリメチルシリル、メトキシジメチルシリル
など）、スタニル基（トリメチルスタニルなど）、カル
ボニル、アルキレン（アセトン、アセチルアセトン、ア
セト酢酸ェステル、アセトアセトニトリル、アセトアセ
トアミド、アセトアセトアニリド、シクロベンタンジオ
ン、アセチルプチロラクトンなどとのエナミン）、アル
キリデン（１ーハロアルキリデン、１−ハロアラルキリ
デン、１−アルコキシアルキリデン、１ーアルコキシ−
１−フェノキシアルキリヂン、など）、酸（滋酸、カル
ボン酸、スルホン酸、など塩の形で）、その他で活性化
ないし保護されたものをも含む。 アリールマロン酸ｍは公知物質または既知物質から類似
方法によって製造できる類似物質である。ＣＯＡ基は前
記化合物の説明の欄に記載したような基を示す。アリー
ルマロン酸ｍの反応性謎導体としては酸無水物、酸ハロ
ゲン化物、活性ェステル、活性アミド、アジド、その他
を含む。この反応は下記の方法で行なうこともできる。 （ｉ）遊離酸（ｍ）−縮合剤〔カーポジィミド（Ｎ．Ｎ
−ジエチルカーボジイミド、Ｎ・Ｎ′ージシクロヘキシ
ルカーボジイミドなど）、カルボニル化合物（カルボニ
ルジィミダゾールなど）、インキサゾリニウム塩、アシ
ルアミノ化合物（２ーェトキシー１−ェトキシカルボニ
ルー１・２−ジヒドロキノリソなど）、その他〕の存在
下、好ましくは活性水素不含溶媒（ハロゲン化炭化水素
、ニトリル・エーテル、アミド溶媒などとその混合物）
中、好ましくはアミンローこ対して遊離酸ｍｌ〜２モル
と縮合剤１〜２モルを作用させる。 （ｉｉ） 酸無水物−これは対称無水物、混合無水物〔
錫酸、特にアルキルなどの炭酸半ェステルとの混合無水
物；アルカン酸、スルホン酸、などとの混合無水物など
〕、分子内無水物（ケテン、イソシアネート、など）そ
の他の無水物を含み、好ましくは酸捕捉剤〔無機塩基（
アルカリ金属、アルカリ士類金属の酸化物、水酸化物、
炭酸塩、重炭酸塩、など）、有機塩基（第三級アミン、
芳香族塩基、など）、オキシラン（アルキレンオキシド
、アラルキレンオキシド、など）、その他を含み、好ま
しくは活性水素不含の溶媒（ハロゲン化炭化水素、ニト
リル、エーテル、アミド溶媒などとその混合物）中、好
ましくはアミンロまたはその反応性誘導体に対して酸無
水物１〜２モルと酸捕捉剤１〜１０モルとを作用させる
。 （ｉｉｉ）酸ハロゲン化物−好ましくは、前記無水物の
項に記載したような酸捕捉剤の存在下、溶媒（ハロゲン
化炭化水素、ニトリル、ヱーテル、ケトン、水、ジアル
キルアミド溶媒などまたはその混合物）中、アミンロま
たはその反応性誘導体１モルに対して好ましくは酸ハロ
ゲン化物１なし、し２モルと酸捕捉剤１〜１０モルを作
用させる。 Ｍ 活性ェステル−これはェノールェステルビニルエス
テル、インプロベニルエステルなど）、アリールエステ
ル（ハロフエニルエステル、ニトロフェニルェステル、
など）、異項環芳香族ェステル（１ーヒドロキシベンゾ
トリアゾールとのエステル）、ヒドロキシルアミンとの
エステル、ジアシルヒドロキシルアミンとのェステル、
などを含む。 Ｍ 活性アミドーたとえば芳香族アミド（ィミダゾール
、トリアゾール、２−エトキシ−１・２−ジヒド。 キノリンとのアミド）、ジアシルアニリドなど。肌 ホ
ルムィミノ化合物−たをえばＮ・Ｎージメチルホルムイ
ミノエステルなど。 ＭＤ その他の反応性誘導体。 『の〜Ｗは活性水素不含の溶媒（ハロゲン化炭化水素、
エーテル、ケトン、アミド、ェステル溶媒などまたはそ
の混合物）中、アミン０またはその反応性誘導体１モル
に対してアリールマロン酸ｍの反応性誘導体１モル以上
を作用させる。

【２１７６ーアリールマロンアミドー７Ｑーメトキシー
３−置換メチル−１ーオキサデチアー３ーセフェム−４
ーカルボン酸またはその誘導体（Ｗ）に１・３・４−チ
アジアゾール−５ーイルチオール類（Ｖ）またはその反
応性誘導体を作用させる方法。 （式中、Ａｒ、ＣＯＡ、ＣＯＢ、Ｒは前記と同意義、Ｘ
はＶと交換し得る官能基を示す） 代表的なＸ基はハロゲン、ホスホリルオキシ、スルホニ
ルオキシ、ジハロアセトキシ、トリハロアセトキシなど
のアシルオキシである。 化合物Ｖの反応性誘導体としてはアルカリ金属塩、有機
塩基（トリェチルアミンなど）との塩などを用いる。こ
の反応は原料Ｎと試薬Ｖを要すれば塩基の存在下に、好
ましくは不活性溶媒（ハロゲン化炭化水素、エーテル、
ケトン、アミド溶媒など）中で作用させて実施する。 （３’ ７８ーアリールマロンアミドー７Ｑ−メトキシ
ー３−エポキシメタノー１ーオキサデチア−３−セフェ
ム−４ーカルポン酸議導体に１・３・４ーチアジアゾー
ルー５ーチオール類（Ｖ）またはその反応性誘導体を作
用させる方法。 その他の核合成反応。（４１ ７８ーハロアリールマロ
ンアミド−３−（１・３・４ーチアジアゾールー５−イ
ル）チオメチル−１ーオキサデチアー３ーセフエム−４
−カルボン酸またはその誘導体に７Ｑーメトキシ基を導
入する方法。 下記の方法を含む。【ａー Ｎーハロゲン化剤（ｔ−プ
チルヒポクロライドなど）のアルカリ金属メトキシド（
ナトリウムメチレート、カリウムメチレート、など）と
還元剤とをメタノール中作用させる方法。【ｂ１ テト
ラヒドロフランなどの溶媒中、フェニルリチウム等の存
在下にｔープチルヒポクロリドとメタノール−塩基とを
作用させたのち、要すれば還元する方法。 （ｃ’メタノール中トほう酸ナトリウムの存在下ｔーブ
チルヒポクロリトを加えたのち、生成するＱークロル体
を亜沿、亜燐酸ヱステルなどで還元する方法。 風 臭素−ＤＢＵ、五塩化りん−ピリジン、塩基、メタ
ノール−塩基、塩化トリアルキルシリルまたはテトラア
ルキルアンモニウムクロリドを順次作用させる方法。 風 ＣＯＡおよび／またはＣＯＢが保護されたカルボキ
シである場合にこれを脱保護して遊離のカルボキシとす
る方法。 代表的な脱保護反応は下記のものを含む。 川 活性の高いェステル、アミド、無水物は酸または塩
基又は緩衝液を用いて水と処理すれば加水分解される。 （ｉｉ） ハロエチル、ベンジル、ニトロベンジル、メ
チルベンジル、ジメチルベンジル、ジアリールメチル、
トリアリールメチルエステルなどは緩和な環元（すず、
亜鉛、二価クロムの塩、などと酸；ナトリウム、ジチオ
ナィト〜白金、パラジウム、ニッケル、などの触媒の存
在下に接触還元：など）によって遊離酸を生ずる。（ｉ
ｉｉ｝ ペンジル、メトキシベンジル、メチルベンジル
、ジメトキシベンジル、ｔ−アルキル、トリチル、ジア
リールメチル、シクロプロピルメチル、スルホニルエチ
ル、シクロプロピルェチル、ェステルなどは酸の作用な
どによる加溶媒分解など（鉱酸、ルイス酸、スルホン酸
、強酸性カルボン酸、などと要すればカチオン捕捉剤と
してアニソールなど）により遊離酸を生ずる。 ○の フエナシル、エチニル、ｐーヒドロキシー３・５
−ジーｔーブチルベンジルエステルなどは塩基で分解す
れば遊離酸を生ずる。 ‘６｝ ふに保護されたヒドロキシのある場合に、これ
を脱保護してヒドロキシとする方法。 代表的な脱保護反応は下記のものも含む。 … アシルオキシまたはエーテル（特にペンジルェーテ
ル類）の場合には酸（鍵酸、ルイス酸、強力ルボン酸、
スルホン酸など前記（５｝（ｌｉｉｌで述べたもの）塩
基（ナトリウム、カリウムの水酸化物、炭酸塩など、有
機塩基など）を要すればカチオン捕捉剤としてアニソー
ルなどの存在下に、作用させる。 （ｉｉ） ペンジルオキシカルボニルオキシ類、ベンジ
ルオキシ類の場合は水素と白金、パラジウム、またはニ
ッケルなどの作用で接触還元的に脱保護される。 反応｛５｝と‘６’‘ま同時に起きることもあり、この
ような場合もこの発明の範囲に含めるものとする。 ｛７｝ ＣＯＡおよび／またはＣＯＢがカルボキシであ
る化合物１に無機または有機塩基を作用させれば塩が生
成する。 塩基としては水酸化物の他に弱カルボン酸、炭酸、その
他の弱酸の塩も用い得る。有機溶媒中、塩を形成して析
出させる方法は、精製を兼ねて実施できるので好適であ
る。水溶液を中和して濃縮する方法、凍結乾燥する方法
などによって取得することもできる。これらの反応はい
ずれも約一３０℃〜１００午０（好ましくは−２０ｏｏ
〜５０００）で実施し得る。反応溶媒としてはハロゲン
化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエ
タン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、など）、エ
ーテル（ジエチルヱーテル、テトラヒドロフラン、テト
ラヒドロピラン、アニソール、など）、ケトン（アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン「アセトフエノン、など）、ェステル（
酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、など）、ニ
トロ炭化水素、ニトリル（アセトニトリル、ベンゾニト
リル、など）、アミド（ホルムアミド「アセトアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミド、など）、スルホキシド、酸
（ぎ酸、酢酸など）塩基（ブチルアミン、トリェチルア
ミン、ピリジン、ピコリン、キノリン、など）、水、そ
の他を適宜選択して用いる。要すれば不活性気体中、除
湿下にかきまぜて反応の促進を図ることもできる。 生成物は、例えば常法によって溶媒、未反応物、創生物
などを濃縮、抽出、吸着、溶出、洗浄などで除去したの
ち、再沈澱「クロマトグラフィー、再結晶、その他の常
法によって精製すれば取得できる。 以下に実施例を示してこの発明の態様を説明する。 実施例 １ 【１） Ｑ−（４一ｐ−メトキシベンジルオキシーフエ
ニル）−Ｑ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル酢
酸３７５雌を塩化メチレン５の【に懸濁し、窒素気流中
、一ｌｙＣでかきまぜる。 これにトリェチルアミン９０ム〆と塩化オキサリル５５
ム〆とを加えて氷冷下に１時間かきまぜる。この溶液を
７Ｑーメトキシー７８ーアミノー３−（２ーメチルー１
・３・４−チアジアゾール−５ーイル）チオメチル−１
−デチア−１ーオキサ−３−セフヱムー４−カルボン酸
ジフェニルメチル２２８ｍｏをピリジン５２山そを含む
塩化メチレン５の‘にとかした溶液に加え、３０分間氷
冷下にかきまぜる。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸
エチルにとかし、洲−塩酸、水、５％炭酸水素ナトリウ
ム水および水で洗い、乾燥後、溶媒蟹去する。残留物を
シリカゲル２０タ上カラムクロマトグラフして精製すれ
ば７Ｑ−メトキシー７８一〔Ｑ一（４−ｐーメトキシベ
ンジルオキシフエニル）−Ｑ一ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニルアセトアミド〕一３−（２ーメチルー１
・３・４ーチアジアゾールー５ーイル）チオメチル−１
−デチア−１ーオキサー３ーセフヱム−４ーカルボン酸
ジフェニルメチル２１２雌を得る。収率：５２％。ｍ：
リ毎琴ＳＩ３３４０５・３３２〇・１７８３・１７１７
・１６０５・１５８３弧‐１０ＮＭ旧：８流ＣＩ３２．
８８が、３．４蟹班ノ２、３．４段が／２、３．７＄細
、４．１船母（１３ＨＺ）ＩＨ、４．５２庇ｑ（１３Ｈ
Ｚ）ＩＨ、４．５本Ｇ２日、４．５＄ＩＨ、４．９６２
日、５．０公ＩＨ「 ５．１＄２日。 【２１ 前記【１｝の生成物２１２の夕を塩化メチレン
２の‘にとかし、窒素気流中、０℃でかさまぜながら、
アニソール１の‘とトリフルオロ酢酸０．５凧【とを加
えて、同温で３０分間かきまぜる。減圧濃縮し、残澄を
エーテルで洗浄すれば７Ｑ−メトキシ−７８−（Ｑ−ｐ
ーヒドロキシフエニル一Ｑ−力ルボキシアセトアミド）
一３一（２−メチル山１・３・４ーチアジアゾール−５
−イル）チオメチルー１ーデチア−１ーオキサ−３−セ
フェム−４−カルボン酸１１０のｏを得る。ｍｐｌ１８
℃（分解）。収率：地％。ＩＲ：ひ益昼支３３８〇・２
５７〇・１７８１・１７１９・１６１３・１５１４肌‐
１０ＵＶ：＾忌ざ蔓帆の仏：２２７（ｚ：１４１６０）
、２７５．５（ご＝１１８００）。 〔Ｑ〕。 −４０．０±１．５０（ｃ＝０．５４７、ＣＨ３０Ｈ）
。ＮＭＲ：６格倍‐ＮａＨＣ。３２．６＄汎、３．４＄
犯／２、３．５＄３Ｈ／２ 、３．９か旧ｑ（１４日２
）ＩＨ、４．４２Ａ＆（１４ＨＺ ）ＩＨ 、４・４＆
てＳ２日 、５．０＄ＩＨ、６．８船２＆（８ＨＺ）が
、７．２私２Ｂ２（８ＨＺ）が。 実施例 ２ （１’Ｑ一（３−チエニル）−Ｑ−ジフエニルメトキシ
カルボニル酢酸２６８の２を塩化メチレン４の‘に懸濁
し、これに氷冷下トリェチルアミン７９山ぞと塩化オキ
サリル４９ｒ〆とを加えて２０分間かきまぜる。 この溶液を７Ｑ−メトキシ−７３−アミノ−３一（２−
メチル−１・３・４−チアジアゾール−５−イル）チオ
メチル−１ーデチアー１ーオキサー３ーセフエム−４−
力ルボン酸ジフェニルメチル２００の９をピリジン４６
ｒク含有塩化メチレン４奴にとかした溶液に加え「氷冷
下１８分間かきまぜる。反応液を酢酸エチルで希釈、が
−塩酸、水、５％炭酸水素ナトリウム水および水で洗い
、乾燥後、減圧濃縮する。残留物を１０％合水シリカゲ
ル上クロマトグラフして精製すれば７Ｑ−メトキシ−７
８−〔Ｑ−（３−チエニル）一Ｑ−ジフエニルメトキシ
カルボニルアセトアミド〕一３−（２ーメチルー１１３
・４ーチアジアゾールー５ーイル）チオメチルー１−デ
チア−１ーオキサー３ーセフエム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチル３０２の夕を得る。収率：９３％。町：レ
毒蛇１３３４００、３３３０、１７８２、１７２０、１
７００、】６２ふ １６００物‐１。 ＮＭＲ：６磯ＣＩ３２．６お粕、３．３＄が、４．１２
ＡＢｑ（１４ＨＺ）ＩＨ、一 ４．４８Ａ均（１４ＨＺ
）ＩＨ、４．４本が、４．８＄ＩＨ、４．９６１日、６
．８＄１凡‘２ー 前記‘１｝の生成物３０２ｍ９を塩
化メチレン４泌にとかし、窒素気流中氷袷下にアニソー
ル０．５の‘とトリクロル酢酸０．４肌‘とを加えて同
温で３０分間かきまぜる。 反応液を減圧濃縮して得られる残留物をエーテルで洗浄
すれば７Ｑーメトキシー７８一〔Ｑ一（３ーチエニル）
一Ｑ−力ルボキシアセトアミド〕一３−（２ーメチル−
１．３・４ーチアジアゾール−５−イル）チオメチルー
１ーデチアー１ーオキサ−３ーセフエムー４−カルボン
酸１８０加９を得る。ｍｐｌ０５℃〜（分解）。収率：
９７％。瓜：〃総支３２７０、２５５０、１７松、１７
１４、１６３４功ＵＶ：＾樹蔓。 日２７４ｍ山（ご：１１０５０）。〔Ｑ〕客−３６．６
±１．５０くＣ：０．５２４、ＣはＯＨ）。ＮＭＲ：８
３機州ａＨＣｏ３２．７＄犯、３．４＄犯／２、３．５
＄９Ｈ／２、３．９弘旧ｑ（１３ＨＺ）ＩＨ、４，４７
Ａ＆（ １３ＨＺ）ＩＨ 、４，５０ｂｒｓが 、５．
１本ＩＨ。 実施例 ３ 【１）１・３・４ーチアジアゾール−２ーチオール４０
０奴９をメタノール６の【にとかし、０．５６８Ｍナト
リウムメトキシド／メタノール溶液６の‘を加えて２０
分間かきまぜたのち溶媒蟹去する。 これをジメチルホルムアミド５の【にとかし、７８ーベ
ンズアミドー７Ｑ−メトキシー３ークロロメチルー１−
デチアー１−オキサ−３−セフエム−４−カルボン酸ジ
フェルメチル１．５０夕のジメチルホルムアミド５の【
溶液中に、氷冷下に加え、同溢で２粉ご間かきまぜる。
反応液を水中に注入し、酢酸エチルで抽出する。抽出液
を水洗、乾燥し、減圧濃縮する。残留物を１０％含水シ
リカゲル５０タ上クロマトグラフし、ベンゼン−酢酸エ
チル（２：１）混液を濃縮すれば７８ーベンズアミド−
７Ｑ−メトキシ−３−（１・３・４−チアジアゾールー
２ーイル）チオメチルー１ーデチア−１ーオキサー３ー
セフエムー４ーカルボン酸ジフェニルメチルヱステル１
．２５夕を得る。収率：７２．６％。ＮＭＲ：６Ｃ輪１
３３．６本犯、４．２紅（１４ＨＺ）ｉＨ、４．５が（
１４ＨＺ）ＩＨ、４．９も２日、５．１７ｓＩＨ、６．
９＄ＩＨ、８．８＄ＩＨ。 ‘２｝ 前記ｔｌ〕の生成物１．２５夕を塩化メチレン
３の‘にとかし、窒素気流中、氷袷下にかきまぜながら
ピリジン３２７仏〆と五塩化りん７６２の２を加えて室
温で２時間かきまぜる。 反応液を−３０午Ｃに冷却し、メタノール１４凧‘を加
えたのち、０℃で９０分間および室温で３０分間かきま
ぜる。再び氷冷し、ジェチルアミン１．９の‘を加えて
１０分間かきまぜたのち半客まで減圧濃縮する。残留液
を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、
乾燥、減圧濃縮して得られる残留物を１０％含水シリカ
ゲル上クロマトし、ベンゼン一酢酸エチル（２：１）混
液で総出する分画より７８ーアミノ−７Ｑーメトキシー
３一（１１３・４−チアジアゾール−５−イル）チオメ
チル−１−デチア−１−オキサ−３−セフエム−４ーカ
ルボン酸ジフェニルメチルェステル６７６爪９を得る。
収率：６５％。ＮＭＲ：６脇１３２．２がｒｓが、３．
５＄が、４．２９（１４日２）ＩＨ、４．５７ｄ（１４
日２）ＩＨノＡＢｑト４．６７ｓが、４．８７ｓＩＨ、
６．９ＳＩ日、８．９ＳＩＡ‘３ｌ Ｑ−ｐーメトキシ
ベンジルオキシカルボニル−Ｑ−（４一ｐーメトキシベ
ンジルオキシフエニル）酢酸２６２雌を塩化メチレン３
の‘に懸濁し、トリェチルアミン６２一〆と塩化オキサ
リル３９山ぞとを−１ｙｏで加え、氷冷下に１時間かき
まぜる。 前記■の生成物１５０雌を塩化メチレン２の‘にとかし
、氷冷下にピリジン３６仏〆と先に合成した酸塩化物の
溶液を加えて２庇ふ間かきまぜる。 反応液に水２肌‘を加えて減圧濃縮し、得られる残液を
酢酸エチルで抽出する。抽出液を州塩酸、水５％重曹水
および水で洗い、乾燥、減圧濃縮して得られる残留物を
１０％含水シリカゲル１０タ上クロマトグラフすればベ
ンゼン−酢酸エチル（４：１）混液で溶出する分画より
７８−〔Ｑ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルー
Ｑ−（４−ｐーメトキシベンジルオキシフエニル）アセ
トアミド〕一７Ｑーメトキシー３−（１１３０４ーチア
ジアゾール−２−イル）チオメチル−１−デチアー１ー
オキサ−３ーセフェムー４ーカルポン酸ジフェニルメチ
ルェステル１５３のｏを得る。収率：５５％。ＮＭＲ：
６脇１３３．４＄が、３．７＄級、３．７７ｓ錐、４．
５＄Ｚ」、４．６＄ＩＨ、４．２幻（１４ＨＺ）ＩＨ、
４．５幻（１４ＨＺ）ＩＨ、４．９＄２日、５．０瓜Ｉ
Ｈ「５．１あ２日、８．８７ＳＩはＩＲ：レ忌鞍１３１
７９い１７２２、１７０リ１６１２弧‐１。 ‘４１ 前記【３｝の生成物１５０の９を塩化メチレン
２の‘にとかし、氷冷下にアニソール０．７０の上とト
リフルオロ酢酸０．５の‘とを加えて２５分間かきまぜ
る。反応液を減圧濃縮して得られる残留物をェーナルで
洗えば７Ｑ−メトキシー７８−（Ｑ−ｐーヒドロキシフ
エニル−Ｑ．力ルボキシアセトアミド）一３−（１・３
１４ーチアジアゾール−５−イル）チオメチルー１ーデ
チア−１−オキサ−３ーセフェム−４ーカルボン酸？物
ｃを得る。ｍｐ１２０午○〜（分解）。収率：９２％。
ＩＲ：レ益さまｄ３２６０、３１８０、１７８５、１７
２０、１６１２伽ＮＭ収：６３離州州ｃ。３３．４７ｓ
犯／２、３．５＄祖／２、４．０幻（１４日２）ＩＨ、
４．２幻（１４日２）ＩＨ、４．５肋ｒｓ斑、６．８７
んＢ２ｄ（ ８ ＨＺ）が、７．２船２Ｂ２ｄ（８日２
）が、９．４本ＩＨ。 〔Ｑ〕旨５一私．０±１．５ｏ （ｃ ＝０．５０３６
、ＣＨ８０Ｈ）実施例 ４ ‘１） ＱージフエニルメトキシカルポニルーＱ−（３
−チェニル）酢酸２１２の９を塩化メチレン３の‘にと
かし、氷冷下にトリェチルアミン７９山〆と塩化オキサ
リチル４９レ夕とを加えて２０分間かきまぜて酸塩化物
の溶液とする。 ７８ーアミノ−７Ｑーメトキシ−３一（１・３・４−チ
アジアゾールー２−イル）チオメチル−１−デチアー１
−オキサー３−セフエム−４ーカルボン酸ジフエニルメ
チルェステル１５０の２を塩化メチレン２の【にとかし
、氷冷下にかきまぜながら、ピリジン３６ｒ〆を加え、
次いで前記酸塩化物の溶液を加えて２０分間かきまぜる
。 反応液に酢酸エチルを加え、が塩酸、水、５％重曹水お
よび水で洗い、乾燥し、減圧濃縮する。残留物を１０％
含水シリカゲル１０タ上クロマトグラフして精製すれば
７Ｑーメトキシ−７８一〔Ｑ一（３−チエニル）一Ｑ−
ジフヱニルメトキシカルボニルアセトアミド〕一３−（
１・３・４ーチアジアゾールー２イル）チオメチルー１
−デチア−１ーオキサ−３ーセフエムー４−カルボン酸
ジフェニルメチルェステル２３５のｏを得る。収率：９
３％。ＩＲ：〃再製ＣＩ３３３９０、３３１０、１７８
５、１７２０Ｌ１７００蛾一１０ＮＭＲ：６脇１３３．
４本班、４．２の（１４ＨＺ）ＩＨ、４．４７がｓが、
４．５３（１４ＨＺ）ＩＨ、４．８７ｓＩＨ、５．０瓜
ＩＨ、６．９２２日、８．９公ＩＨ。 ■ 前記‘１１の生成物２３５の９を塩化メチレン１．
５の【にとかし、氷冷下にかきまぜながらアニソール１
の‘とトリフルオロ酢酸０．５の‘とを加え、同温で１
時間かきまぜる。反応液を減圧濃縮し、残留物をエーテ
ルで洗浄すれば７Ｑ−メトキシ−７８−（Ｑ−力ルボキ
シ−Ｑ−（３ーチエニル）アセトアミド〕−３−（１・
３．４−チアジアゾール−２ーイル）チオメチルー１−
デチアー１−オキサー３ーセフェム−４ーカルボン酸１
４０の９を得る。ｍｐ．１１０ｑｏ〜（分解）。収率：
９８％。ｍ：レ益袋ｏ１３２７ふ１７８５１７１０仇‐
１。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａｒはｐ−ヒドロキシフエニル、ｐ−アニシル
   オキシフエニルまたは３−チエニル； Ｒは水素または
   低級アルキル； をそれぞれ示す） で表わされる化合物、そのアルカリ金属塩、ｐ−メトキ
   シベンジルエステルまたはジフエニルメチルエステル。