JPS60253152A - ポリマー電池隔離板 - Google Patents
ポリマー電池隔離板Info
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- JPS60253152A JPS60253152A JP60100643A JP10064385A JPS60253152A JP S60253152 A JPS60253152 A JP S60253152A JP 60100643 A JP60100643 A JP 60100643A JP 10064385 A JP10064385 A JP 10064385A JP S60253152 A JPS60253152 A JP S60253152A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08G65/223—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring containing halogens
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
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- C08G65/33306—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing amino group acyclic
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M50/00—Constructional details or processes of manufacture of the non-active parts of electrochemical cells other than fuel cells, e.g. hybrid cells
- H01M50/40—Separators; Membranes; Diaphragms; Spacing elements inside cells
- H01M50/409—Separators, membranes or diaphragms characterised by the material
- H01M50/411—Organic material
- H01M50/414—Synthetic resins, e.g. thermoplastics or thermosetting resins
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- H01M2300/00—Electrolytes
- H01M2300/0002—Aqueous electrolytes
- H01M2300/0014—Alkaline electrolytes
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- Y02E60/10—Energy storage using batteries
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Cell Separators (AREA)
- Polyethers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
例えば、鉛−酸１次電池およびニッケルー亜鉛２次電池
の両者は、隔離板を含んでいる。この隔離板の第１の機
能は、正セル成分と負セル成分とを分離し、電子的短絡
を防止し、しかもセル内のイオン移動を抑制しないこと
にある。両方の用途において、隔離板は化学的および機
械的に安定であり、予想寿命が長期である必要がある。
の両者は、隔離板を含んでいる。この隔離板の第１の機
能は、正セル成分と負セル成分とを分離し、電子的短絡
を防止し、しかもセル内のイオン移動を抑制しないこと
にある。両方の用途において、隔離板は化学的および機
械的に安定であり、予想寿命が長期である必要がある。
この条件は、２次電池において、より重要になる。
二ｙ’ｙルー亜鉛電池において、サイクル寿命はかなり
の程度、隔離板の性質に関係があり、文献の報告によれ
ば、電解抵抗率の低い隔離板から製造した電池が最長の
ライフサイクルをもっている。
の程度、隔離板の性質に関係があり、文献の報告によれ
ば、電解抵抗率の低い隔離板から製造した電池が最長の
ライフサイクルをもっている。
これらの電池においては、隔離板が良好な物理的および
化学的安定性（濃厚アルカリに対する抵抗を含む）をも
つことが必要である。当業者が使用している型の隔離板
としては、繊維質隔離板および膜隔離板が含まれる。前
者の型の代表としては、不織ポリゾロピレンおよびナイ
ロンウェブ、アスベストマット、無機光＊ポリマー不織
材料がある。
化学的安定性（濃厚アルカリに対する抵抗を含む）をも
つことが必要である。当業者が使用している型の隔離板
としては、繊維質隔離板および膜隔離板が含まれる。前
者の型の代表としては、不織ポリゾロピレンおよびナイ
ロンウェブ、アスベストマット、無機光＊ポリマー不織
材料がある。
透過性膜としては、例えばポリエチレン、グイネル、ポ
リゾロピレン等の多孔質ソート隔離板が含まれる。半透
過性隔離板の代表としては、セルロースフィルム、変性
メチルセルロース、セロファン等がある。合成膜として
は、ポリエチレングラフト化膜およびイオン交換膜が含
゛まれる。合成ポリマー膜隔離板が米国特許第３．６２
９．１６１号明細書に記載されており、これは、Ｎ 、
Ｎ 、 Ｎ’、Ｎ’−テトラメチルヘキサンジアミン
と１．６−ソブロモヘキサンとを反応させることによっ
て最初に６．６−イオネン（Ｉｏｎｅｎｅ）を製造し、
ポリビニルアルコールを水中に溶解し、テトラクロロ−
〇−ベンゾキノンと６，６−イオネンとを反応させ、そ
して反応混合物からフィルムをキャストすることＫよっ
て調製する。改良されたポリマー膜は、特に２次電池の
用途に使用するため九、継続した課題となっている。
リゾロピレン等の多孔質ソート隔離板が含まれる。半透
過性隔離板の代表としては、セルロースフィルム、変性
メチルセルロース、セロファン等がある。合成膜として
は、ポリエチレングラフト化膜およびイオン交換膜が含
゛まれる。合成ポリマー膜隔離板が米国特許第３．６２
９．１６１号明細書に記載されており、これは、Ｎ 、
Ｎ 、 Ｎ’、Ｎ’−テトラメチルヘキサンジアミン
と１．６−ソブロモヘキサンとを反応させることによっ
て最初に６．６−イオネン（Ｉｏｎｅｎｅ）を製造し、
ポリビニルアルコールを水中に溶解し、テトラクロロ−
〇−ベンゾキノンと６，６−イオネンとを反応させ、そ
して反応混合物からフィルムをキャストすることＫよっ
て調製する。改良されたポリマー膜は、特に２次電池の
用途に使用するため九、継続した課題となっている。
ハロアルキルエポキシドとヒドロキシ末端アルカジエン
ポリマーとの架橋化または加硫化−両親媒性（ａｍｐｈ
ｏ ｐｈ ｉ ｌ ｌ ｃ ）または４級化−フィルム
形成性のブロックコポリマーの構成が、１次電池および
２次電池の両者、特にはニッケルー亜鉛電池における電
池隔離板として有用である。前記の４級化ブロックコポ
リマーは、ヒドロキシ末端１，３−アルカノエンの存在
下でハロアルキルエポキシドを重合してブロックコポリ
マーを形成し、次にこれとアミンとを反応して４級化ま
たは両親媒性ブロックコポリマーを形成し、続いて、こ
れを、イオウ、ポリアミン、金属酸化物、有機過酸化物
等で硬化または架橋化することによって調製する。
ポリマーとの架橋化または加硫化−両親媒性（ａｍｐｈ
ｏ ｐｈ ｉ ｌ ｌ ｃ ）または４級化−フィルム
形成性のブロックコポリマーの構成が、１次電池および
２次電池の両者、特にはニッケルー亜鉛電池における電
池隔離板として有用である。前記の４級化ブロックコポ
リマーは、ヒドロキシ末端１，３−アルカノエンの存在
下でハロアルキルエポキシドを重合してブロックコポリ
マーを形成し、次にこれとアミンとを反応して４級化ま
たは両親媒性ブロックコポリマーを形成し、続いて、こ
れを、イオウ、ポリアミン、金属酸化物、有機過酸化物
等で硬化または架橋化することによって調製する。
ニッケルー亜鉛電池の放電サイクル寿命は、電池隔離板
の輸送性に部分的に関係する。この性質には、電解抵抗
率（ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｉｃ ｒｅｓｌａｔｉｖｌｔ
））電解質透過性および電気浸透率（ｅｌｅｃｔｒｏｏ
ｓｍｏＬｌｅｃｏｅｆｆ １ｃｌｅｎｔ）が含唸れる。
の輸送性に部分的に関係する。この性質には、電解抵抗
率（ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｉｃ ｒｅｓｌａｔｉｖｌｔ
））電解質透過性および電気浸透率（ｅｌｅｃｔｒｏｏ
ｓｍｏＬｌｅｃｏｅｆｆ １ｃｌｅｎｔ）が含唸れる。
この中では、ヂリマー隔離板の電解抵抗率が非常に重要
である。電解抵抗率は、ジェイ・イー・クー／＃ −（
Ｊ−Ｅ−Ｃｏｏｐｅｒ）およびエイ・フライジャ−（Ａ
、Ｆｌｅ １ｓｃｈｅｒ ）の「キャラクタリスティク
ス・オブ・セノソレークーズ・フォー・アルカリン・シ
ルバー・オキサイドーソンク・セカンダリ−・バッチリ
ーズ−スクリーニング０メンツズ（Ｃｈａｒａｃｔｎｒ
ｉｓｔｌｃｓ ｏｆ ５ｅｐａｒａｔｏｒｓｆｏｒ Ａ
ｌｋａｌｉｎｅ ５ｉｌｖｅｒ ０ｘｌｄｅ、Ｚｉｎｃ
ＳｏｃｏｎｄａｒｙＢａｔｔｅｒｌｅａ−８ｃｒｅｅ
ｎｉｎｇ Ｍｅｔｈｏｄｓ） Ｊエイエフ・アエロ・プ
ロパルジョン・う〆う） ’） （ＡＦ Ａｅｒ。
である。電解抵抗率は、ジェイ・イー・クー／＃ −（
Ｊ−Ｅ−Ｃｏｏｐｅｒ）およびエイ・フライジャ−（Ａ
、Ｆｌｅ １ｓｃｈｅｒ ）の「キャラクタリスティク
ス・オブ・セノソレークーズ・フォー・アルカリン・シ
ルバー・オキサイドーソンク・セカンダリ−・バッチリ
ーズ−スクリーニング０メンツズ（Ｃｈａｒａｃｔｎｒ
ｉｓｔｌｃｓ ｏｆ ５ｅｐａｒａｔｏｒｓｆｏｒ Ａ
ｌｋａｌｉｎｅ ５ｉｌｖｅｒ ０ｘｌｄｅ、Ｚｉｎｃ
ＳｏｃｏｎｄａｒｙＢａｔｔｅｒｌｅａ−８ｃｒｅｅ
ｎｉｎｇ Ｍｅｔｈｏｄｓ） Ｊエイエフ・アエロ・プ
ロパルジョン・う〆う） ’） （ＡＦ Ａｅｒ。
Ｐｒｏｐｕｌａｊｏｎ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ） １９
６５年９月に記載の方法によって測定する。電気浸透率
の測定については、クー・ダブリュー・チョイ（Ｋ、Ｗ
、Ｃｈｏｌ）、ディー・エン・ベニオン（Ｄ、Ｎ、Ｂｅ
ｎｎ１ｏｎ）およびジェイ・ニュ＝ン（Ｊ、Ｎｅｖｍａ
ｎ）、ジャーナル・オプ・ザ・エレクトロケミカル・ソ
サイアティー（Ｊ−Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈａｍｌｃａｌ
５ｏｃｉｅｔｙ） 、↓又）、１６１６（１９７６）１
７ｃ記載がある。浸透力および電解質＃度傾斜度を最小
にする隔離板が好ましい。最も低い電解抵抗率および電
気浸透率をもち、そして最も高い電解質透過性をもつ膜
電池隔離板が、最も長い電池サイクル寿命を提供するも
のである。本発明の硬化両親媒性またはカチオン性ブロ
ックコポリマーの膜は、公知のポリマー膜と比較して、
電池隔離板として使用するのに望ましい前記の特性を優
れたバランスで備えている。
６５年９月に記載の方法によって測定する。電気浸透率
の測定については、クー・ダブリュー・チョイ（Ｋ、Ｗ
、Ｃｈｏｌ）、ディー・エン・ベニオン（Ｄ、Ｎ、Ｂｅ
ｎｎ１ｏｎ）およびジェイ・ニュ＝ン（Ｊ、Ｎｅｖｍａ
ｎ）、ジャーナル・オプ・ザ・エレクトロケミカル・ソ
サイアティー（Ｊ−Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈａｍｌｃａｌ
５ｏｃｉｅｔｙ） 、↓又）、１６１６（１９７６）１
７ｃ記載がある。浸透力および電解質＃度傾斜度を最小
にする隔離板が好ましい。最も低い電解抵抗率および電
気浸透率をもち、そして最も高い電解質透過性をもつ膜
電池隔離板が、最も長い電池サイクル寿命を提供するも
のである。本発明の硬化両親媒性またはカチオン性ブロ
ックコポリマーの膜は、公知のポリマー膜と比較して、
電池隔離板として使用するのに望ましい前記の特性を優
れたバランスで備えている。
膜の電気浸透率は、−０１未満、より好甘しくけ約−０
２〜−ＩＯｌそして−０，２５〜−０，８５である。電
解抵抗率は、約１００オーム／ｃＷＬ、好ましくは約１
０〜５０オーム／ｃｍの範囲である。
２〜−ＩＯｌそして−０，２５〜−０，８５である。電
解抵抗率は、約１００オーム／ｃＷＬ、好ましくは約１
０〜５０オーム／ｃｍの範囲である。
本発明によって調製した硬化膜は、電気浸透率約−０，
２５未満および電解抵抗率約１００オーム／傭未満をも
っている。
２５未満および電解抵抗率約１００オーム／傭未満をも
っている。
電池隔離板中に使用するポリマー材料に対する上記の基
本的な要件の他に１．Ｎ ＩＪママ−、フィルム形成性
であって、水酸化カリウム３０〜５０％水溶液に対して
抵抗性であることも必要である。
本的な要件の他に１．Ｎ ＩＪママ−、フィルム形成性
であって、水酸化カリウム３０〜５０％水溶液に対して
抵抗性であることも必要である。
厚さが２０ミル（約０．５ ｍ ）以下の薄いフィルム
は、可撓性であり、機械的安定性および寸法安定性をも
ち、すなわち、水性電解質中での最小膨潤を示し、そし
て複雑ではない方法で架橋可能であることが必要である
。
は、可撓性であり、機械的安定性および寸法安定性をも
ち、すなわち、水性電解質中での最小膨潤を示し、そし
て複雑ではない方法で架橋可能であることが必要である
。
本発明の電池隔離板を製造するのに使用する４級化ブロ
ックコポリマーは、ヒドロキシ末端１，３−ジエンポリ
マーの存在下でハロアルキルエポキシドを重合してハロ
アルキルエポキシド−ヒドロキシ末端１．３−ノエンー
ハロアルキルエ４キシド残基のブロックコポリマーを提
供し、アミンと反応させて４級化材料を形成することに
よって調製する。
ックコポリマーは、ヒドロキシ末端１，３−ジエンポリ
マーの存在下でハロアルキルエポキシドを重合してハロ
アルキルエポキシド−ヒドロキシ末端１．３−ノエンー
ハロアルキルエ４キシド残基のブロックコポリマーを提
供し、アミンと反応させて４級化材料を形成することに
よって調製する。
前記のコポリマーは、開環性ハロアルキルエポキシドお
よびヒドロキシ末端１，３−ジエンに対する、ヘキサフ
ルオル金属酸触媒またはそのオキソニウム塩の作用によ
り、通常は溶媒中で、約り℃〜約１５０℃未満の温度で
、大気圧または高圧下で形成する。
よびヒドロキシ末端１，３−ジエンに対する、ヘキサフ
ルオル金属酸触媒またはそのオキソニウム塩の作用によ
り、通常は溶媒中で、約り℃〜約１５０℃未満の温度で
、大気圧または高圧下で形成する。
前記の触媒は、ヘキサフルオロ金属酸すなわち、ＩＭＦ
６ （式中、Ｍは、リン、ヒ素およびアンチモンからなる群
から選んだ元素である） すなわちＨＰＦ６、ＨＡＢＦ６およびＨ８，Ｆ６、なら
びに、それらの酸のオキソニウム塩である。前記の触媒
は、重合を開始するのに充分な量で使用する。環式また
は非環式オキソニウム塩（これは、第１゜第２また袖筒
３塩であることができる）全使用するのが好ましい。環
式オキソニウム塩は、非環式オキソニウム塩とテトラヒ
ドロフランとの反応によって調製することができる。米
国特許第３．５８５，２２７号明細書に記載の方法で調
製した、ＨＭＦ６酸のトリアルキルオキソニウムまたは
他のオキソニウム塩を使用するのが最も好ましい。触媒
の使用量は、反応体１００重量部あたり、約０．００１
〜約１部である。
６ （式中、Ｍは、リン、ヒ素およびアンチモンからなる群
から選んだ元素である） すなわちＨＰＦ６、ＨＡＢＦ６およびＨ８，Ｆ６、なら
びに、それらの酸のオキソニウム塩である。前記の触媒
は、重合を開始するのに充分な量で使用する。環式また
は非環式オキソニウム塩（これは、第１゜第２また袖筒
３塩であることができる）全使用するのが好ましい。環
式オキソニウム塩は、非環式オキソニウム塩とテトラヒ
ドロフランとの反応によって調製することができる。米
国特許第３．５８５，２２７号明細書に記載の方法で調
製した、ＨＭＦ６酸のトリアルキルオキソニウムまたは
他のオキソニウム塩を使用するのが最も好ましい。触媒
の使用量は、反応体１００重量部あたり、約０．００１
〜約１部である。
（式中、Ｘはハロガン原子好ま１〜くけ塩素原子または
臭素原子であり、ＲおよびＲ１は水素原子または炭素）
α子１〜８個好筐しくは１〜４個のアルキル基である） で表わされる。使用することのできる代表的なハロアル
キルエポキシドとしては、例えば、クロロ−２，３−エ
ポキシオクタン（エビクロロヒドリン）、１−ブロモ−
２，３−エポキシオクタン（エビブロモヒドリン）、１
−クロロ−２，３−エポキシブタン、１−ヨード−２，
３−工ぽキシヘキサン、３−クロロ−４，５−エポキシ
オクタン、１−クロロ−２，３−工Ｉキシシクロヘキサ
ン、１−ブロモー２，３−エイキノ−３−メチルブタン
、２−クロロ−２−メチル−３，４−工？キシペンタン
、および炭素原子３〜約８個の同様のハロアルキルエポ
キシドが含まれる。
臭素原子であり、ＲおよびＲ１は水素原子または炭素）
α子１〜８個好筐しくは１〜４個のアルキル基である） で表わされる。使用することのできる代表的なハロアル
キルエポキシドとしては、例えば、クロロ−２，３−エ
ポキシオクタン（エビクロロヒドリン）、１−ブロモ−
２，３−エポキシオクタン（エビブロモヒドリン）、１
−クロロ−２，３−エポキシブタン、１−ヨード−２，
３−工ぽキシヘキサン、３−クロロ−４，５−エポキシ
オクタン、１−クロロ−２，３−工Ｉキシシクロヘキサ
ン、１−ブロモー２，３−エイキノ−３−メチルブタン
、２−クロロ−２−メチル−３，４−工？キシペンタン
、および炭素原子３〜約８個の同様のハロアルキルエポ
キシドが含まれる。
前記のヒドロキシ末端１，３−ノエ／は、炭素原子４〜
６個の共役脂肪族ジエン（通常は、１，３−ブタジェン
およびイソグレン）の通常のヒドロキシ末端ポリマーで
あり、これはホモポリマーでもよく、あるいけ、共役ジ
エン約５０重ｉ％以上とＣＨ２＝末端基少なくとも１個
をもつ共重合可能なビニリデン化合物モノマー１種また
はそれ以上の５０重ｉ％以下とのコポリマーであっても
よい。
６個の共役脂肪族ジエン（通常は、１，３−ブタジェン
およびイソグレン）の通常のヒドロキシ末端ポリマーで
あり、これはホモポリマーでもよく、あるいけ、共役ジ
エン約５０重ｉ％以上とＣＨ２＝末端基少なくとも１個
をもつ共重合可能なビニリデン化合物モノマー１種また
はそれ以上の５０重ｉ％以下とのコポリマーであっても
よい。
１．３−ブタノエンポリマーの調製が、より容易であり
、利用することができ、分子量約３７５〜約１５，００
０の範囲のものが満足できるものであることが分かった
。
、利用することができ、分子量約３７５〜約１５，００
０の範囲のものが満足できるものであることが分かった
。
共役１，３−ジエンとの共重合用の代表的なビニリデン
コモノマーとしては、例えば、芳香族ビ＝ ル創見ｌｉ
スチレン、α−メチルスチレンいクロロスチレン、ビニ
ルトルエン、ビニルベンジルアルコール等、炭素原子１
〜８個のアルキル基のビニルおよびアリルエーテル例え
ばビニルメチルエーテル、アリルメチルエーテル等、式 ％式％ （式中、Ｒ２は水素原子、または炭素原子１〜３個のア
ルキル基もしくはヒドロキシアルキル基であり、Ｒは水
素原子、炭素原子１〜２２個のアルキル基モジくけヒド
ロキシアルキル基、または炭素原子２〜１２個更に好ま
しくは２〜８個のアルコキシアルキル基、アルキルチオ
アルキル基もしくはシアノアルキル基である） で表わされるアクリル酸およびアクリレートが含まれる
。適当なアクリレートの例としては、アクリル酸エチル
、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸
２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸へキシル
チオエチル、アクリル酸β−シアンエチル、アクリル酸
シアノオクチル等；ビニルニトリル例えばアクリロニト
リル、メタクリロニトリルおよびエタクリロニトリル；
炭素原子２〜８個のα、β−オレフィン系不飽和カルボ
ン酸アミド、好ましくはアクリルアミドまたはメタクリ
ルアミドおよびそれらのメチロール誘導体例えばＮ−メ
チロールアクリルアミドおよびメタクリルアミド；Ｎ−
ビニル−２−ピロリドン：ビニルエステル創見ば酢酸ビ
ニル、マレイン酸ビニル、フマル酸ビニル；ハロダノ化
ビニルおよびビニリデン例えば塩化ビニルおよび塩化ビ
ニリデン；アクロレインおよびメタクロレイン、塩化メ
タリル：イタコン酸、炭素原子２〜８個のカルピン酸の
ビニルおよびアリルエステル例えばクロロ酢酸ビニル、
クロロ酢酸アリル、クロトン酸ビニル：フマル酸ビニル
エチル；ビニルシクロヘキセン：ニトロスチレン；アル
コキシモノマー例ｔ はメトキシスチレン；クロロプレ
ン１ビニルナフタレン；ビニルビ４リジン：ビニルピリ
ジン；Ｎ−ビニルピロリジン：ステアリン酸ヒニル；ス
ルファニリン酸ビニル：メチルビニルスルホン；クロロ
エチルビニルエーテル；ビニルベンツルクロライド；ホ
スホン酸β−クロロエチルビニル、ノアセトンアクリル
アミド等が含捷れる。
コモノマーとしては、例えば、芳香族ビ＝ ル創見ｌｉ
スチレン、α−メチルスチレンいクロロスチレン、ビニ
ルトルエン、ビニルベンジルアルコール等、炭素原子１
〜８個のアルキル基のビニルおよびアリルエーテル例え
ばビニルメチルエーテル、アリルメチルエーテル等、式 ％式％ （式中、Ｒ２は水素原子、または炭素原子１〜３個のア
ルキル基もしくはヒドロキシアルキル基であり、Ｒは水
素原子、炭素原子１〜２２個のアルキル基モジくけヒド
ロキシアルキル基、または炭素原子２〜１２個更に好ま
しくは２〜８個のアルコキシアルキル基、アルキルチオ
アルキル基もしくはシアノアルキル基である） で表わされるアクリル酸およびアクリレートが含まれる
。適当なアクリレートの例としては、アクリル酸エチル
、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸
２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸へキシル
チオエチル、アクリル酸β−シアンエチル、アクリル酸
シアノオクチル等；ビニルニトリル例えばアクリロニト
リル、メタクリロニトリルおよびエタクリロニトリル；
炭素原子２〜８個のα、β−オレフィン系不飽和カルボ
ン酸アミド、好ましくはアクリルアミドまたはメタクリ
ルアミドおよびそれらのメチロール誘導体例えばＮ−メ
チロールアクリルアミドおよびメタクリルアミド；Ｎ−
ビニル−２−ピロリドン：ビニルエステル創見ば酢酸ビ
ニル、マレイン酸ビニル、フマル酸ビニル；ハロダノ化
ビニルおよびビニリデン例えば塩化ビニルおよび塩化ビ
ニリデン；アクロレインおよびメタクロレイン、塩化メ
タリル：イタコン酸、炭素原子２〜８個のカルピン酸の
ビニルおよびアリルエステル例えばクロロ酢酸ビニル、
クロロ酢酸アリル、クロトン酸ビニル：フマル酸ビニル
エチル；ビニルシクロヘキセン：ニトロスチレン；アル
コキシモノマー例ｔ はメトキシスチレン；クロロプレ
ン１ビニルナフタレン；ビニルビ４リジン：ビニルピリ
ジン；Ｎ−ビニルピロリジン：ステアリン酸ヒニル；ス
ルファニリン酸ビニル：メチルビニルスルホン；クロロ
エチルビニルエーテル；ビニルベンツルクロライド；ホ
スホン酸β−クロロエチルビニル、ノアセトンアクリル
アミド等が含捷れる。
好ましいコモノマーの群としては、スチレン、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、ならびにアルキル基が
炭素原子１〜８個をもつアルキルアクリレートおよびア
ルカクリレートがある。
ニトリル、メタクリロニトリル、ならびにアルキル基が
炭素原子１〜８個をもつアルキルアクリレートおよびア
ルカクリレートがある。
ハロアルキルエＩキシドとヒドロキシ末端１．３−ツエ
ンポリマーとの重合に使用する温度は、通常約０℃〜１
１０℃である。重合反応は発熱性であり、反応温間の維
持は、触媒添加速度の制御および適当な熱交換手段によ
って容易に行なわれる。
ンポリマーとの重合に使用する温度は、通常約０℃〜１
１０℃である。重合反応は発熱性であり、反応温間の維
持は、触媒添加速度の制御および適当な熱交換手段によ
って容易に行なわれる。
重合反応の時間は、通常約１時間〜約１２時間の間で変
化するが、特定の使用触媒、使用量、温度および他の要
因によって約２４時間以上かかる場合もある。
化するが、特定の使用触媒、使用量、温度および他の要
因によって約２４時間以上かかる場合もある。
重合工程は自然発生圧力下で実施することができるが、
１０気圧までまたはそれ以上の過圧を使用することがで
きる。
１０気圧までまたはそれ以上の過圧を使用することがで
きる。
重合反応完了の際には、イソグロ・ぐノール中の塩基例
えば水酸化アンモニウムの過剰モルの添加によって触媒
を中和することにより、反応を終結させることができる
。未反応モノマーがもし存在する場合には、真空下留去
によってこれを除去することができる。
えば水酸化アンモニウムの過剰モルの添加によって触媒
を中和することにより、反応を終結させることができる
。未反応モノマーがもし存在する場合には、真空下留去
によってこれを除去することができる。
前記の方法によって形成されるポリマーは、液体状から
半固体状ないし固体状まで変化し、そのポリマーの重量
平均分子１ｔは、１．０００以上から約５００．０００
まで、好ましくは約３，５００〜２０．０００’までの
範囲である。分子量の測定は、修正ウォーターズ（Ｗａ
ｔｅｒｓ） Ｒ４示差屈折検出計を備えたウォーターズ
・モデル（Ｗａｔｅｒｓ Ｍｏｄｅｌ）２００の装置を
使用して、グル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によ
りて行なうのが好ましい。使用する溶接は、テトラヒド
ロフランであり、流速は、ウォーターズ・マイクロスチ
ラダル（ＷａｔｅｒｓＭｌｃｒｏｓｔｙｒａｇｅｌ ）
を装填した２ ５ｃＷＬＸ ７．８ｗＩ Ｄのカラム中
で２．０ｍｓ＋’／分である。ヒドロキシ末端工４？キ
シブロックコＩリマーの理論分子量は以下の式によって
計算する。
半固体状ないし固体状まで変化し、そのポリマーの重量
平均分子１ｔは、１．０００以上から約５００．０００
まで、好ましくは約３，５００〜２０．０００’までの
範囲である。分子量の測定は、修正ウォーターズ（Ｗａ
ｔｅｒｓ） Ｒ４示差屈折検出計を備えたウォーターズ
・モデル（Ｗａｔｅｒｓ Ｍｏｄｅｌ）２００の装置を
使用して、グル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によ
りて行なうのが好ましい。使用する溶接は、テトラヒド
ロフランであり、流速は、ウォーターズ・マイクロスチ
ラダル（ＷａｔｅｒｓＭｌｃｒｏｓｔｙｒａｇｅｌ ）
を装填した２ ５ｃＷＬＸ ７．８ｗＩ Ｄのカラム中
で２．０ｍｓ＋’／分である。ヒドロキシ末端工４？キ
シブロックコＩリマーの理論分子量は以下の式によって
計算する。
ブロノクコ、−］？リマー〇構造を単純に示せばＡ−Ｂ
−Ａ（ここでＢはヒドロキシ末端共役１．３−ジエンポ
リマーから誘導され、そして人はハロアルキルエポキシ
ド残基である）となる。更に具体的には、前記の７２リ
マーは弐 Ｈ−０−Ａｂ−０−Ｂ−０−Ａ５−０−Ｈ（式中、Ｂは
ヒドロキシ末端共役ツエン−１，３ポリマーの残基であ
り、Ａは）・ロアルキルエＩキシドの残基でおり、ｂＶ
ｉ約３〜約５００好ましくは約５〜約５０の整数である
） で表わすことができる。Ｂセグメントの分子量は約３５
０〜約１５，０００またはそれ以上、好ましくは約５０
０〜約５，０００である。Ａセグメントの分子量は約３
５０〜約１０，０００、好ましくは約５００〜約２５０
０である。
−Ａ（ここでＢはヒドロキシ末端共役１．３−ジエンポ
リマーから誘導され、そして人はハロアルキルエポキシ
ド残基である）となる。更に具体的には、前記の７２リ
マーは弐 Ｈ−０−Ａｂ−０−Ｂ−０−Ａ５−０−Ｈ（式中、Ｂは
ヒドロキシ末端共役ツエン−１，３ポリマーの残基であ
り、Ａは）・ロアルキルエＩキシドの残基でおり、ｂＶ
ｉ約３〜約５００好ましくは約５〜約５０の整数である
） で表わすことができる。Ｂセグメントの分子量は約３５
０〜約１５，０００またはそれ以上、好ましくは約５０
０〜約５，０００である。Ａセグメントの分子量は約３
５０〜約１０，０００、好ましくは約５００〜約２５０
０である。
Ａがエピクロルヒドリンから誘導された場合の４級化ブ
ロックコポリマーは構造式 （式中、ｂけ約５〜約１００の整数である）で表わすこ
とができる。アルキルアンモニウムクロライド基すなわ
ち−ＣＨ２Ｎ＋Ｒ，Ｃ４’−（Ｒは水素原子または炭素
原子１〜３０個の有機基である）基トシて、エピクロル
ヒドリン４ングント基少なくとも約２５重量％が存在す
る。一般に、コポリマ−（７）エピクロルヒドリン部分
の分子量が大きければ大きいはと、フィルムの結合性に
要求される４級化基の割合は低くなる。
ロックコポリマーは構造式 （式中、ｂけ約５〜約１００の整数である）で表わすこ
とができる。アルキルアンモニウムクロライド基すなわ
ち−ＣＨ２Ｎ＋Ｒ，Ｃ４’−（Ｒは水素原子または炭素
原子１〜３０個の有機基である）基トシて、エピクロル
ヒドリン４ングント基少なくとも約２５重量％が存在す
る。一般に、コポリマ−（７）エピクロルヒドリン部分
の分子量が大きければ大きいはと、フィルムの結合性に
要求される４級化基の割合は低くなる。
ブロックコポリマーは、高めた温度および圧力下におけ
るブロックコポリマー分子鎖（ハロアルキルエポキシド
残基）上の活性塩素基とアミンとの反応によって４級化
またはアミン化される。アミノ化または４級化は、過剰
量のアミンを使用して塊状で、あるいは予め決めた化学
量論的量のアミンを使用して溶液中で、そして通常は望
ましい程度のアミン化または４級化を行なうのに必要で
あると計算された量よりも僅かに過剰な量で行なう。溶
媒例えばジメチルホルムアミド、アセトニトリル、炭素
原子２〜約２０個の脂肪族ケトン特にアセトンまたは水
等を使用して溶液を得ることができるが、そのような溶
液を得ることは必ずしも必要ではない。非プロトン性溶
媒が有用である。
るブロックコポリマー分子鎖（ハロアルキルエポキシド
残基）上の活性塩素基とアミンとの反応によって４級化
またはアミン化される。アミノ化または４級化は、過剰
量のアミンを使用して塊状で、あるいは予め決めた化学
量論的量のアミンを使用して溶液中で、そして通常は望
ましい程度のアミン化または４級化を行なうのに必要で
あると計算された量よりも僅かに過剰な量で行なう。溶
媒例えばジメチルホルムアミド、アセトニトリル、炭素
原子２〜約２０個の脂肪族ケトン特にアセトンまたは水
等を使用して溶液を得ることができるが、そのような溶
液を得ることは必ずしも必要ではない。非プロトン性溶
媒が有用である。
アミノ化反応は、約り０℃〜約１５０℃例えば５０℃〜
１２０℃の範囲で、自然発生圧力下で実施する。
１２０℃の範囲で、自然発生圧力下で実施する。
アミン化反応には、任意のアミンを使用することができ
る。好ましいアミンは、炭素原子１〜約３０個のアルキ
ルアミン、ジアルキルアミンおよびトリアルキルアミン
、そして好ましくは炭素原子１〜約６個のアルキルアミ
ン、炭素原子５〜約７個の環式アルキルアミン好寸しく
けシクロヘキフルアミン、炭素原子１０〜約５０個の脂
肪族アミン、分子量約１００〜約５００の範囲の高分子
アミンおよびポリエーテルアミン、炭素原子１〜約３０
個好捷しくに１〜約６個のアルカノールアミン、モルホ
リン、ピリジン、アニリン、チアノン等からなる群から
選ばれる。好ましいものは、脂肪族、複素環式、芳香族
または脂環式モノアミンとしての第３モノアミンである
。１官能性第３脂肪族アミンは、式 （式中、Ｒはメチル基またはエチル基でおり、Ｒ１はＲ
と同じ基であるかまたはヒドロキシエチル基である） で表わされる。これらの例としては、トリメチルアミン
、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジメチル
ヒドロキシエチルアミン等がある。
る。好ましいアミンは、炭素原子１〜約３０個のアルキ
ルアミン、ジアルキルアミンおよびトリアルキルアミン
、そして好ましくは炭素原子１〜約６個のアルキルアミ
ン、炭素原子５〜約７個の環式アルキルアミン好寸しく
けシクロヘキフルアミン、炭素原子１０〜約５０個の脂
肪族アミン、分子量約１００〜約５００の範囲の高分子
アミンおよびポリエーテルアミン、炭素原子１〜約３０
個好捷しくに１〜約６個のアルカノールアミン、モルホ
リン、ピリジン、アニリン、チアノン等からなる群から
選ばれる。好ましいものは、脂肪族、複素環式、芳香族
または脂環式モノアミンとしての第３モノアミンである
。１官能性第３脂肪族アミンは、式 （式中、Ｒはメチル基またはエチル基でおり、Ｒ１はＲ
と同じ基であるかまたはヒドロキシエチル基である） で表わされる。これらの例としては、トリメチルアミン
、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジメチル
ヒドロキシエチルアミン等がある。
飽和複素環式モノアミンの例としては、Ｎ−メチルビペ
リノン、Ｎ−エチルピ被リジン、Ｎ−メチルへキサメチ
レンアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホ
リン等がある。１官能性不飽和複素環式アミンの例とし
ては、ピリジン、４−メチルピコリン、キノリン、Ｎ−
メチルビロール等がある。脂環式第３アミンの例として
は、Ｎ、Ｎ−ツメチルシクロヘキシルアミン等、そして
芳香族モノアミンとしては例えばＮ、Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン等がある。より好まし
い第３アミンは、脂肪族第３モノアミンおよび飽和複素
環第３モノアミンである。
リノン、Ｎ−エチルピ被リジン、Ｎ−メチルへキサメチ
レンアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホ
リン等がある。１官能性不飽和複素環式アミンの例とし
ては、ピリジン、４−メチルピコリン、キノリン、Ｎ−
メチルビロール等がある。脂環式第３アミンの例として
は、Ｎ、Ｎ−ツメチルシクロヘキシルアミン等、そして
芳香族モノアミンとしては例えばＮ、Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン等がある。より好まし
い第３アミンは、脂肪族第３モノアミンおよび飽和複素
環第３モノアミンである。
反応性塩素基のアミノ化の程度としては、好ましくは塩
素基の少なくとも２５重量％〜８０重量％、更ＫＩＢ−
ましくけ約４５〜７０重量％がアミン化捷たけ４級化さ
れた形に変わる。
素基の少なくとも２５重量％〜８０重量％、更ＫＩＢ−
ましくけ約４５〜７０重量％がアミン化捷たけ４級化さ
れた形に変わる。
アミン化ブロックコＩリマーにおいて、反応性ハロゲン
の部分け、ブロックコポリマーのアミン化またけ４級化
に使用したアミンから形成されるアルキルアンモニウム
ハライド基によって代表的に置換される。ハライドは移
動したＩリマーハロダンである。
の部分け、ブロックコポリマーのアミン化またけ４級化
に使用したアミンから形成されるアルキルアンモニウム
ハライド基によって代表的に置換される。ハライドは移
動したＩリマーハロダンである。
本発明の？リマー材料は、電池の用途における各種の構
成で使用することができる。通常、隔離板は、支持され
ていないまたは支持されているフィルムとして使用され
る。膜フィルムの厚さは約２０ミル（約０．５ ｍｍ
）未満から、支持されていない場合の約１ミル（約０．
０２５ｓｍ）である。例えば多孔質支持体上における場
合のような支持されている用途においては、膜の厚さは
ＯＯ１ミル（約０．２５μ）の薄さ、そしてより一般に
は約００２ミル（約０．５μ）以下であることができる
。
成で使用することができる。通常、隔離板は、支持され
ていないまたは支持されているフィルムとして使用され
る。膜フィルムの厚さは約２０ミル（約０．５ ｍｍ
）未満から、支持されていない場合の約１ミル（約０．
０２５ｓｍ）である。例えば多孔質支持体上における場
合のような支持されている用途においては、膜の厚さは
ＯＯ１ミル（約０．２５μ）の薄さ、そしてより一般に
は約００２ミル（約０．５μ）以下であることができる
。
受は入れることのできる機械的安定性ならびに衝撃、応
力および引裂抵抗性等を保つ最も薄いフィルムを、隔離
板の最小電解抵抗率用に使用するのが好ましい。
力および引裂抵抗性等を保つ最も薄いフィルムを、隔離
板の最小電解抵抗率用に使用するのが好ましい。
フィルムは、通常の方法により、例えば溶液から、また
はカレンダー処理等によって形成することができる。最
も望ましい性質をもつ膜材料のなかには、未硬化状態に
おいて弱くしかも粘着性のものがあるので、必要な硬化
性または架橋性成分を添加して含有させた溶液から、フ
ィルムを堆積することができる。しかしながら、より分
子量の大きい材料であってミル等の上で取扱うことので
きるものをカレンダー処理、押出等して、フィルム形状
の所望の膜を形成することができる。
はカレンダー処理等によって形成することができる。最
も望ましい性質をもつ膜材料のなかには、未硬化状態に
おいて弱くしかも粘着性のものがあるので、必要な硬化
性または架橋性成分を添加して含有させた溶液から、フ
ィルムを堆積することができる。しかしながら、より分
子量の大きい材料であってミル等の上で取扱うことので
きるものをカレンダー処理、押出等して、フィルム形状
の所望の膜を形成することができる。
４級化ブロックコポリマー膜は、各種の硬化剤または加
硫剤によって、加硫化または架橋化される。有用な硬化
剤とし工は、イオウおよびイオウ含有化合物；有機過酸
化物およびヒドロ被ルオキシド、例えばベン′ゾイルイ
ルオキシドおよびジクミルヒドロ４ルオキシド：金属酸
化物例えば酸化亜鉛、酸化鉛、酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム等：／リアミン（第１．第２および第３ア
ミン、通常はジアミンを含む冶えはヘキサメチレントリ
アミン、ピペラジン、トリエチレンテトラミン、フェニ
レンジアミン、ヘキシルメチレンジアミン、インホレン
ジアミン、ビス（４−アミノンクロヘキシル）メタン等
が含まれる。特に有用なものは、イオウおよび場合によ
りイオウ含有促進剤と組合せた酸化亜鉛１．ならびに有
機過酸化物と組合せた酸化亜鉛を使用する硬化である。
硫剤によって、加硫化または架橋化される。有用な硬化
剤とし工は、イオウおよびイオウ含有化合物；有機過酸
化物およびヒドロ被ルオキシド、例えばベン′ゾイルイ
ルオキシドおよびジクミルヒドロ４ルオキシド：金属酸
化物例えば酸化亜鉛、酸化鉛、酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム等：／リアミン（第１．第２および第３ア
ミン、通常はジアミンを含む冶えはヘキサメチレントリ
アミン、ピペラジン、トリエチレンテトラミン、フェニ
レンジアミン、ヘキシルメチレンジアミン、インホレン
ジアミン、ビス（４−アミノンクロヘキシル）メタン等
が含まれる。特に有用なものは、イオウおよび場合によ
りイオウ含有促進剤と組合せた酸化亜鉛１．ならびに有
機過酸化物と組合せた酸化亜鉛を使用する硬化である。
周知のイオウ含有促進剤の任意のものを使用することが
できる。代表的、な促進剤材料としては、Ｎ−ｔ−ブチ
ル−２−ペンツチアゾールスルフェンアミド、ジペンタ
メチレンチウラムへキサスルフィド、ナトリウムジブチ
ルジテオカーホメート、テトラメチルチウラムジスルフ
ィド、２−メルカプトベンゾチアゾール、ビス（２、２
’−ベンゾチアゾール）ジスルフィド、チオカルバミル
スルフェンアミド等が含まれる。
できる。代表的、な促進剤材料としては、Ｎ−ｔ−ブチ
ル−２−ペンツチアゾールスルフェンアミド、ジペンタ
メチレンチウラムへキサスルフィド、ナトリウムジブチ
ルジテオカーホメート、テトラメチルチウラムジスルフ
ィド、２−メルカプトベンゾチアゾール、ビス（２、２
’−ベンゾチアゾール）ジスルフィド、チオカルバミル
スルフェンアミド等が含まれる。
他の配合成分を使用して、硬化両親媒性ブロックコポリ
マーの加工性または物性を強化することができる。前記
の材料としては、脂肪酸例えばステアリン酸、安定剤お
よび酸化防止剤、アミン型およびフェノール型のもの例
えばフェニル−Ｂ−ナフチルアミン、ヒンダードビスフ
ェノール、アルキルフェニルホスファイト等が含まれる
、特定の用途において必要な場合には、エキステノダー
、充填材および強化材料を含ませることができる。
マーの加工性または物性を強化することができる。前記
の材料としては、脂肪酸例えばステアリン酸、安定剤お
よび酸化防止剤、アミン型およびフェノール型のもの例
えばフェニル−Ｂ−ナフチルアミン、ヒンダードビスフ
ェノール、アルキルフェニルホスファイト等が含まれる
、特定の用途において必要な場合には、エキステノダー
、充填材および強化材料を含ませることができる。
そのような材料としては、ブロックコポリマー１００重
量部あたり約５〜１５０重量部の量のカーボンブラック
、炭酸カルシウム、無機ケイ酸塩、例えばクレイ、シリ
カ、マイカ、炭酸マグネシウム等が含まれる。
量部あたり約５〜１５０重量部の量のカーボンブラック
、炭酸カルシウム、無機ケイ酸塩、例えばクレイ、シリ
カ、マイカ、炭酸マグネシウム等が含まれる。
両親媒性ブロックコポリマー膜は数種の方法で調製する
。１つの方法は、ブロックコポリマー溶液に所望の硬化
性成分および配合成分を加え、配合物のフィルムをキャ
ストし、キャストフィルムを乾燥し、加熱して硬化させ
るものである。若干の例においては、ポリマー溶液に硬
化性成分および他の成分を加えた後で、最初に溶媒を除
去し、続いてポリマーをミル処理または他の方法で処理
し、そして所望の形状に形成して硬化させる。同様に、
特に高分子量ブロックコポリマーにおいては、溶媒を含
まないポリマーをミル中または内部混合器中でコン・や
ランド処理し、次に所望のとおりに成形し、加熱して硬
化または架橋化を行なう。
。１つの方法は、ブロックコポリマー溶液に所望の硬化
性成分および配合成分を加え、配合物のフィルムをキャ
ストし、キャストフィルムを乾燥し、加熱して硬化させ
るものである。若干の例においては、ポリマー溶液に硬
化性成分および他の成分を加えた後で、最初に溶媒を除
去し、続いてポリマーをミル処理または他の方法で処理
し、そして所望の形状に形成して硬化させる。同様に、
特に高分子量ブロックコポリマーにおいては、溶媒を含
まないポリマーをミル中または内部混合器中でコン・や
ランド処理し、次に所望のとおりに成形し、加熱して硬
化または架橋化を行なう。
イオウによる硬化を行なう代表的な操作としては、溶媒
を含まない４級化ブロックコポリマーまたは溶液中のＨ
？ｌ）マー１００重量部を、イオウ２重量部、Ｎ−ｔ−
ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド２重量
部および酸化亜鉛５重量部と混合することを含む。この
混合物をシートに成形し、１８０℃で４０，０００ ｐ
ｓｉの圧力下に置く。硬化時間は変化するが、通常は約
２０〜４０分間である。使用することのできる他の方法
は、４級化ブロックコポリマー溶液に、ブロックコポリ
マー１００重量部あたり５〜１０重量部のビ被うジンま
たはトリエチレンテトラミンを加えるものである。ガー
ドナー（Ｇａｒｄｎｅｒ）ブレードを使用して溶液から
フィルムを堆積させ、溶媒を留去し、フィルムを１００
℃で約１〜２時間加熱し、加硫または架橋を完了する。
を含まない４級化ブロックコポリマーまたは溶液中のＨ
？ｌ）マー１００重量部を、イオウ２重量部、Ｎ−ｔ−
ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド２重量
部および酸化亜鉛５重量部と混合することを含む。この
混合物をシートに成形し、１８０℃で４０，０００ ｐ
ｓｉの圧力下に置く。硬化時間は変化するが、通常は約
２０〜４０分間である。使用することのできる他の方法
は、４級化ブロックコポリマー溶液に、ブロックコポリ
マー１００重量部あたり５〜１０重量部のビ被うジンま
たはトリエチレンテトラミンを加えるものである。ガー
ドナー（Ｇａｒｄｎｅｒ）ブレードを使用して溶液から
フィルムを堆積させ、溶媒を留去し、フィルムを１００
℃で約１〜２時間加熱し、加硫または架橋を完了する。
代表的なブロックコポリマーは、分子量２５００のヒド
ロキシ末端ポリ（ブタジェン−１，３）２ｓｏ重ｉｔ部
とエピクロルヒドリン１００重量部とを、トリエチルオ
キソニウムへキサフルオロホスフェート０．４重量部の
存在下で、２塩化エチレン５部中において、３０℃で一
晩反応させ、分子量約３５００のブロックコポリマーを
得ることによって！ｔＭｌ！！！する。その構造は、ポ
リエピクロルヒドリン〔分子ｔ５００〕−ポリ（ブタジ
ェン−１，３）（分子−ｔ２５００）−ポリエピクロル
ヒドリン〔分子量５００〕と表わすことができる。
ロキシ末端ポリ（ブタジェン−１，３）２ｓｏ重ｉｔ部
とエピクロルヒドリン１００重量部とを、トリエチルオ
キソニウムへキサフルオロホスフェート０．４重量部の
存在下で、２塩化エチレン５部中において、３０℃で一
晩反応させ、分子量約３５００のブロックコポリマーを
得ることによって！ｔＭｌ！！！する。その構造は、ポ
リエピクロルヒドリン〔分子ｔ５００〕−ポリ（ブタジ
ェン−１，３）（分子−ｔ２５００）−ポリエピクロル
ヒドリン〔分子量５００〕と表わすことができる。
前記の例を、エピクロルヒドリン７４０：１−３１部を
使用して繰返すと、得られるブロックコポリマーけ、各
々分子量約３７００の末端エピクロルヒドリン残基セグ
メントをもつものである。分子量５００〜約５０００の
４リプタツエンおよび３５０〜約５０００以上のエピク
ロルヒドリン残基セグメントを使うことにより、前記の
方法で各種のブロソクコ７＋？リマーを製造することが
できる。前記の操作により、ブロックコーリマーＩリイ
ソゾレンおよびブタジェンとイソプレンとのコポリマー
も容易に調製される。前記のコポリマーは、代表的には
、コモノマー例えばスチレン、アルキルアクリレート、
アクリロニトリル等約１５〜約４０重ｉチを含んでいる
。
使用して繰返すと、得られるブロックコポリマーけ、各
々分子量約３７００の末端エピクロルヒドリン残基セグ
メントをもつものである。分子量５００〜約５０００の
４リプタツエンおよび３５０〜約５０００以上のエピク
ロルヒドリン残基セグメントを使うことにより、前記の
方法で各種のブロソクコ７＋？リマーを製造することが
できる。前記の操作により、ブロックコーリマーＩリイ
ソゾレンおよびブタジェンとイソプレンとのコポリマー
も容易に調製される。前記のコポリマーは、代表的には
、コモノマー例えばスチレン、アルキルアクリレート、
アクリロニトリル等約１５〜約４０重ｉチを含んでいる
。
前記のブロックコポリマーの４級化またはアミン化を示
すためＫ、前記の第２のコポリマー４００重量部を、ア
セトン４００重景部中に溶かし、水８００重量部を加え
、続いてトリメチルアミン１９６ｇおよび２，２′−メ
チレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール
）酸化防止剤４重量部を加えた。この溶液を１００℃で
約８時間加熱した。ブロックコポリマー中のエピクロル
ヒドリン残基の塩素基の７３重量％がアミノ化されてア
ルキルアンモニウムクロライド基を形成した。
すためＫ、前記の第２のコポリマー４００重量部を、ア
セトン４００重景部中に溶かし、水８００重量部を加え
、続いてトリメチルアミン１９６ｇおよび２，２′−メ
チレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール
）酸化防止剤４重量部を加えた。この溶液を１００℃で
約８時間加熱した。ブロックコポリマー中のエピクロル
ヒドリン残基の塩素基の７３重量％がアミノ化されてア
ルキルアンモニウムクロライド基を形成した。
艷
本例で使用したポリマーはエピクロルヒドリン−ヒドロ
キシ末端プリブタノエン−１，３−エピクロルヒドリン
の反応生成物であり、このブロックコポリマーＡ−Ｂ−
Ａの平均分子量は約５００−２５００−５００であった
。塩素基の約５０％をブタンと反応させる量のトリメチ
ルアミンによって前記のコポリマーを４級化した。ポリ
マー５５チを含むコポリマーのトルエン溶液２０４重量
部中に、イオウ０．２重量部、Ｎ−ｔ−ブチル−２−ベ
ンゾチアゾールスルフェンアミド０．２重量部、酸化亜
鉛０５重量部およびメチルアルコールとトルエンとの２
：１混合物１００ｒｎｌを加えることＫより、ブロック
ポリマー１００重量部あたり２重量部のイオウと２重量
部のＮ−ｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェン
アミドと５重量部の酸化亜鉛とでポリマーをコン・ぐラ
ンド処理した。溶媒を真空下８０℃で留去し、乾燥した
コン／母つンドをミル処理し、１０，０００ｋｇ圧力下
のテフロン被覆０．０５インチ（約１３■）型を使用し
て１６０℃で加圧下で硬化した。前記の配合成分の他に
ステアリン酸０．４重量部を更に使用して別の試料を調
製した。
キシ末端プリブタノエン−１，３−エピクロルヒドリン
の反応生成物であり、このブロックコポリマーＡ−Ｂ−
Ａの平均分子量は約５００−２５００−５００であった
。塩素基の約５０％をブタンと反応させる量のトリメチ
ルアミンによって前記のコポリマーを４級化した。ポリ
マー５５チを含むコポリマーのトルエン溶液２０４重量
部中に、イオウ０．２重量部、Ｎ−ｔ−ブチル−２−ベ
ンゾチアゾールスルフェンアミド０．２重量部、酸化亜
鉛０５重量部およびメチルアルコールとトルエンとの２
：１混合物１００ｒｎｌを加えることＫより、ブロック
ポリマー１００重量部あたり２重量部のイオウと２重量
部のＮ−ｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェン
アミドと５重量部の酸化亜鉛とでポリマーをコン・ぐラ
ンド処理した。溶媒を真空下８０℃で留去し、乾燥した
コン／母つンドをミル処理し、１０，０００ｋｇ圧力下
のテフロン被覆０．０５インチ（約１３■）型を使用し
て１６０℃で加圧下で硬化した。前記の配合成分の他に
ステアリン酸０．４重量部を更に使用して別の試料を調
製した。
前記の加硫化フィルムの各々の試料１９を、８０℃に加
熱した水中の４５重量％水酸化カリウムを含み、ＫＯＨ
溶液に気泡を通している容器中に入れた。前記の試料を
この条件下［４日間さらした。その後、試料を取り出し
、蒸留水で洗ってＫＯＨを除き、真空オープン中で一定
重量になるまで乾燥した。両方の試料ともに、最大重量
損失はわずかに：２．７重量％であった。商業的な用途
においては、前記試験条件下のＫＯＨ中において４重量
％未満の損失が要求されている。
熱した水中の４５重量％水酸化カリウムを含み、ＫＯＨ
溶液に気泡を通している容器中に入れた。前記の試料を
この条件下［４日間さらした。その後、試料を取り出し
、蒸留水で洗ってＫＯＨを除き、真空オープン中で一定
重量になるまで乾燥した。両方の試料ともに、最大重量
損失はわずかに：２．７重量％であった。商業的な用途
においては、前記試験条件下のＫＯＨ中において４重量
％未満の損失が要求されている。
例２
エピクロルヒドリン−ヒドロキシ末端プリブタノエン−
１，３−エピクロルヒドリン（分子量５００−２５００
−５００）のブロックコポリマーであって、トリメチル
アミンで５６チが４級化され、トルエン中の５０％溶液
としたものを、コポリマー１０重量部あたり、微粉砕シ
リカ０．５重量部、酸化亜鉛０５重量部、イオウ０２重
量部、Ｎ−ｔ−ブチル−ベンゾチアゾールスルフェンア
ミド０．２重景部およびメタノール、／トルエンの１：
１混合物７ＱｍＪとコン・セウンド処理した。コン・ぐ
ランド処理した混合物を徐々に空転し、乾燥したコンパ
ラ〉′ドを真空下で４０℃で加熱した。
１，３−エピクロルヒドリン（分子量５００−２５００
−５００）のブロックコポリマーであって、トリメチル
アミンで５６チが４級化され、トルエン中の５０％溶液
としたものを、コポリマー１０重量部あたり、微粉砕シ
リカ０．５重量部、酸化亜鉛０５重量部、イオウ０２重
量部、Ｎ−ｔ−ブチル−ベンゾチアゾールスルフェンア
ミド０．２重景部およびメタノール、／トルエンの１：
１混合物７ＱｍＪとコン・セウンド処理した。コン・ぐ
ランド処理した混合物を徐々に空転し、乾燥したコンパ
ラ〉′ドを真空下で４０℃で加熱した。
次に、コン・やランドをミル処理し、テフロン被り０．
０５インチ（約１３■）型中で１０分間１５，０００ゆ
圧力下で１８０℃において加圧した。ＡＳＴＭＤ−４１
２に従うインストロン（ｉｎｓｔｒｏｎ）を使用して、
前記フィルムの応カー歪関係を試験した。
０５インチ（約１３■）型中で１０分間１５，０００ゆ
圧力下で１８０℃において加圧した。ＡＳＴＭＤ−４１
２に従うインストロン（ｉｎｓｔｒｏｎ）を使用して、
前記フィルムの応カー歪関係を試験した。
得られたデータを表１に示す。このデータはフィルムの
良好な物性を示している。
良好な物性を示している。
１−ノｊＩ＋Ｊ
表 １
ダンベル型試料 ジシー速度−２０．０インチ／分応力
（単位；ポンド／インチ）、ＳＩ （単位゛メカ厚さく
インチ） ０．０４０ ０．０３９ ０．０４０速度（
分・強度） １３．７１＋ １３．０８ １２．９８伸
び（破断チ） １４６ １３０ １２１応力 １０ ６５ ７７ ６７ ２０ １０５ １１３ １０５ ３０ １３１ １４２ １３０ ４０ １５５ １６４ １５３ ５０ １７２ １８３ １７４ １００ ２３５ ２５５ ２４２ ２０ １２６ １３６ １２６ ３０ １７１ １８５ １６９ ４０ ２１７ ２３０ ２１５ ５０ ２５９ ２７５ ２６１ １００ ４７０ ５１１ ４８５ 破断点 ７２９ ６９１ ５９０ ノぞスカル） ４ 平均 ＳＩ ０４０ １２．９９ １３．０２ ］ ３．０２１３８ １３３
１３３ ６８ ６９０．４８ １１０ １０８ ０．７４ １４０ １３６ ０．９４ １６１ １５８ ］、Ｕ９ １８０ １７７ １．２２ ２４９ ２４５ １．６９ ３０６ ２９２ ２．０１ ７５ ７６ ０．５２ １３２ １３０ ０．８９ １８２ １７７ １．２２ ２２５ ２２２ ］、、５３ ２７０ ２６６ ｉ、８３ ４９９ ４９１ ３．３８ ７２９ ６８５ ４．７２ 例３ °例２のブロノクコ？リマーをトルエン中に溶かして５
０ｆ）溶液とした溶液を、前記号？リマー１０重量部あ
たり、５重量部の二酸化チタン、０２重俵部のイオウ、
および０．２重量部の酸化亜鉛とコンバウンド処理した
。メチルアルコール／トルエン１：１混合物１００ｍ１
を加え、この混合物を除徐に乾燥した。乾燥したコン・
ぞランドをミル処理し、例２に記載した方法で硬化した
。硬化フィルムの応力歪関係を、ＡＳＴＭ試験法１’）
−４１２に従って測定した。応力歪関係のデータを表■
に示す。
（単位；ポンド／インチ）、ＳＩ （単位゛メカ厚さく
インチ） ０．０４０ ０．０３９ ０．０４０速度（
分・強度） １３．７１＋ １３．０８ １２．９８伸
び（破断チ） １４６ １３０ １２１応力 １０ ６５ ７７ ６７ ２０ １０５ １１３ １０５ ３０ １３１ １４２ １３０ ４０ １５５ １６４ １５３ ５０ １７２ １８３ １７４ １００ ２３５ ２５５ ２４２ ２０ １２６ １３６ １２６ ３０ １７１ １８５ １６９ ４０ ２１７ ２３０ ２１５ ５０ ２５９ ２７５ ２６１ １００ ４７０ ５１１ ４８５ 破断点 ７２９ ６９１ ５９０ ノぞスカル） ４ 平均 ＳＩ ０４０ １２．９９ １３．０２ ］ ３．０２１３８ １３３
１３３ ６８ ６９０．４８ １１０ １０８ ０．７４ １４０ １３６ ０．９４ １６１ １５８ ］、Ｕ９ １８０ １７７ １．２２ ２４９ ２４５ １．６９ ３０６ ２９２ ２．０１ ７５ ７６ ０．５２ １３２ １３０ ０．８９ １８２ １７７ １．２２ ２２５ ２２２ ］、、５３ ２７０ ２６６ ｉ、８３ ４９９ ４９１ ３．３８ ７２９ ６８５ ４．７２ 例３ °例２のブロノクコ？リマーをトルエン中に溶かして５
０ｆ）溶液とした溶液を、前記号？リマー１０重量部あ
たり、５重量部の二酸化チタン、０２重俵部のイオウ、
および０．２重量部の酸化亜鉛とコンバウンド処理した
。メチルアルコール／トルエン１：１混合物１００ｍ１
を加え、この混合物を除徐に乾燥した。乾燥したコン・
ぞランドをミル処理し、例２に記載した方法で硬化した
。硬化フィルムの応力歪関係を、ＡＳＴＭ試験法１’）
−４１２に従って測定した。応力歪関係のデータを表■
に示す。
二酸化チタン５重量部の代わりに二酸化チタン１０重量
部（ポリマー１００重量部あたり１００１００重量部）
を使用して別のコン・ぐランドを調製した。この試料を
上記と同様に加工して硬化【７た。この硬化号？リマー
の応力歪テ゛−夕を表■に示した。
部（ポリマー１００重量部あたり１００１００重量部）
を使用して別のコン・ぐランドを調製した。この試料を
上記と同様に加工して硬化【７た。この硬化号？リマー
の応力歪テ゛−夕を表■に示した。
以下余白
表 ■
ダンベル型試料 ジョー速度＝ ２０．０インチ／分
応力（＄７ ト／・試 料 １ ２ ３ 厚さくインチ）０．０４２ ０．０４２ ０．０４２速
度（分・強度） １２．８３ １１．８０ １４．１４
伸び（＆１断％＞ １８８ １４９ １５０応力 ｔｏ ８６ １０６ ８６ ２０ １２４ １２９ １１９ ３０ １４１ １５０ １３７ ４０ １６１ ．１５９ １５５ ５０ １７１ ｌ７３１６０ １００ ２１８ ２１４ ２０５ ２０ １４８ １５５ １４３ ３０ １８４ １９５ １７８ − ４０ ２２６ ２２３ ２１７ ５０ ２５６ ２６０ ２４０ １００ ４３６ ４２９ ４１０ 破断点 ７７３ ６４２ ６１６ ンチ） ＳＩ（メガパスカル） ４ 平均 ＳＩ ０．０４２ １２．８５ １２．９０ １２．９０ １３７ １５６ １５６ ９８ ９４ ０．６５ １２６ １２４ ０．８６ １４８ １４４ ０．９９ １６８ １６１ １．１１ １８１ １７１ １．１８ ２２３ ２１５ １．４８ ２４７ ２５５ ］。７５ １０８ １０３ ０．７１ １５２ １４９ １．０３ １９２ １８７ １．２９ ２３５ ２２５ １．５５ ２７１ ２５７ １．７７ ４４７ ４３１ ２．９７ ５８７ ６５４ ４．５１ 例４ 本例においては、ヒドロキシ末端ブタジェンとエピクロ
ルヒドリンとのブロックコポリマーであって、Ａ−Ｂ−
Ａの分子量平均７７０−２８００−７７０であり、トリ
メチルアミンによって塩素原子の５０％を４級化した、
計算荷電密度１７４ミリ当量のものを、ブロックコポリ
マー１００重量部に対して２重址部のイオウ、２重量部
のＮ−ｔ−ブチル−２−ベンゾチアソールスルフェンア
ミドおよび５重量部の酸化亜鉛とコンノぞランド処理し
た。このコンノソウンドの試料を１８０℃で３０分間４
０，０００ ｐｓｉで加圧し、厚さ約３ミル（約０．０
８ｍ）の膜を形成した。この膜は水と接触して若干膨潤
したが、満足な機械的性質（引裂抵抗性を含む）を保持
した。
応力（＄７ ト／・試 料 １ ２ ３ 厚さくインチ）０．０４２ ０．０４２ ０．０４２速
度（分・強度） １２．８３ １１．８０ １４．１４
伸び（＆１断％＞ １８８ １４９ １５０応力 ｔｏ ８６ １０６ ８６ ２０ １２４ １２９ １１９ ３０ １４１ １５０ １３７ ４０ １６１ ．１５９ １５５ ５０ １７１ ｌ７３１６０ １００ ２１８ ２１４ ２０５ ２０ １４８ １５５ １４３ ３０ １８４ １９５ １７８ − ４０ ２２６ ２２３ ２１７ ５０ ２５６ ２６０ ２４０ １００ ４３６ ４２９ ４１０ 破断点 ７７３ ６４２ ６１６ ンチ） ＳＩ（メガパスカル） ４ 平均 ＳＩ ０．０４２ １２．８５ １２．９０ １２．９０ １３７ １５６ １５６ ９８ ９４ ０．６５ １２６ １２４ ０．８６ １４８ １４４ ０．９９ １６８ １６１ １．１１ １８１ １７１ １．１８ ２２３ ２１５ １．４８ ２４７ ２５５ ］。７５ １０８ １０３ ０．７１ １５２ １４９ １．０３ １９２ １８７ １．２９ ２３５ ２２５ １．５５ ２７１ ２５７ １．７７ ４４７ ４３１ ２．９７ ５８７ ６５４ ４．５１ 例４ 本例においては、ヒドロキシ末端ブタジェンとエピクロ
ルヒドリンとのブロックコポリマーであって、Ａ−Ｂ−
Ａの分子量平均７７０−２８００−７７０であり、トリ
メチルアミンによって塩素原子の５０％を４級化した、
計算荷電密度１７４ミリ当量のものを、ブロックコポリ
マー１００重量部に対して２重址部のイオウ、２重量部
のＮ−ｔ−ブチル−２−ベンゾチアソールスルフェンア
ミドおよび５重量部の酸化亜鉛とコンノぞランド処理し
た。このコンノソウンドの試料を１８０℃で３０分間４
０，０００ ｐｓｉで加圧し、厚さ約３ミル（約０．０
８ｍ）の膜を形成した。この膜は水と接触して若干膨潤
したが、満足な機械的性質（引裂抵抗性を含む）を保持
した。
別のブロックコポリマーを調製して水抵抗性を試験した
。このコポリマーは、ヒドロキシ末端ポリブタノエン−
１，３とエピクロルヒドリンとから調製したもので、分
子量Ａ−Ｂ−Ａが４４００−２８００−４４００のもの
であった。このコポリマーをトリメチルアミンと反応さ
せて、３５チだけ４級化させた。計算荷電密度は２．４
７ｍｅｑ／ｇであった。この、ｆ？ リマーを前記第１
の試料と同様にイオウ硬化によって硬化し、水にさらす
と、脱は過度に膨潤し、部平に引裂かれ、不満足なもの
であった。
。このコポリマーは、ヒドロキシ末端ポリブタノエン−
１，３とエピクロルヒドリンとから調製したもので、分
子量Ａ−Ｂ−Ａが４４００−２８００−４４００のもの
であった。このコポリマーをトリメチルアミンと反応さ
せて、３５チだけ４級化させた。計算荷電密度は２．４
７ｍｅｑ／ｇであった。この、ｆ？ リマーを前記第１
の試料と同様にイオウ硬化によって硬化し、水にさらす
と、脱は過度に膨潤し、部平に引裂かれ、不満足なもの
であった。
特許出願人
デビー、エフ、グツドリッチカン・ソニー特パ′ｆ出願
代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士 森 １）憲 − 弁理士 山 口 昭 之 弁理士 西 山 雅 也 手続補正書（白仝ン 昭和６０年７月ｇ日 特許庁長官宇賀道部殿 １、事件の表示 昭和６０年特許願第１００６４３号 ２、発明の名称 ポリマー電池隔離板 ３ 補正をする者 事件との関係 ％許出願人 名 称 ザ ビー、エフ、グツドリッチ カンパニー４
、代理人 住 所 〒１０５東京都港区虎）門−丁目８番１０号静
光虎ノ門ビル 電話（５０４）０７２１ 、。
代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士 森 １）憲 − 弁理士 山 口 昭 之 弁理士 西 山 雅 也 手続補正書（白仝ン 昭和６０年７月ｇ日 特許庁長官宇賀道部殿 １、事件の表示 昭和６０年特許願第１００６４３号 ２、発明の名称 ポリマー電池隔離板 ３ 補正をする者 事件との関係 ％許出願人 名 称 ザ ビー、エフ、グツドリッチ カンパニー４
、代理人 住 所 〒１０５東京都港区虎）門−丁目８番１０号静
光虎ノ門ビル 電話（５０４）０７２１ 、。
、 ’−１′ｒｉ
氏名弁理士（６５７９）青 木 朗、１１・（外４名）
５、補正の対象
（１）明細書の「発明の詳細な説明」の橢６、補正の内
容 （す明細書第３４頁の表■を別紙のとおりに補正する。
容 （す明細書第３４頁の表■を別紙のとおりに補正する。
７ 添付書類の目録 補正表■ １通
表 ■
ダンベル型試料 ジョー速度＝ ２０．０インチ／分
応力（ポンｌ厚さくインチ） ０．０４１ ０．０４１
０．０４１速度（分・強度） １２．４８ １２．２
８ １１．９６伸び（破断％） １９１ ２０４ １８
３応力 １０ ５６ ７０ ６１ ２０ ７９ ９０ ９１ ３０ ９７ １０６ １０６ ４０ １０６ １１４ １２１ ５０ １１６ １２３ １２３ １００ １４８ １５３ １５８ ２００ ０ １９２ ０ 礒＃１５Ｔ、、＋、 １８９ １９３ ２０２２０ １
９５ １０８ １０９ ３０ １２６ １３８ １３９ ４０ １４９ １５９ １７０ ５０ １７４ １８４ １８４ １００ ２９７ ３０７ ３１６ ２００ ０ ５７８ ０ 腋岨、＝、 ５５０ ５８８ ５７４ °／インチ） ＳＩ（メガ／ぐスカル）４ ５ 平均
８１ ０．０４０ ０．０４２ １２．６２ １２．２９ １２．３２ １２．３２２０
１ １６３ １９４ １９４ ６６ ７６ ６６ ０．４５ ８９ ９２ ８８ ０．６０ １０３ １０３ １０３ ０．７１ １１４ １１２ １１３ ０．７８ １２２ １２４ １２２ ０．８４ １６６ １６０ １５７ １．０８ １９８ ０ １９５ １．３４ １９８ １８１ １９３ １．３３ ７３ ８３ ７２ ０．５０ １０７ １１１ １２６ ０．８７ １３４ １３４ １３４ ０．９２ １６０ １５７ １５９ １．１０ １ Ｂ ３ １８６ １８２ １．２５３３２ ３２０
３１４ ２．１７ ５９４ ０ ５８６ ４．０４ ５９８ ４７７ ５５７ ３．８４
応力（ポンｌ厚さくインチ） ０．０４１ ０．０４１
０．０４１速度（分・強度） １２．４８ １２．２
８ １１．９６伸び（破断％） １９１ ２０４ １８
３応力 １０ ５６ ７０ ６１ ２０ ７９ ９０ ９１ ３０ ９７ １０６ １０６ ４０ １０６ １１４ １２１ ５０ １１６ １２３ １２３ １００ １４８ １５３ １５８ ２００ ０ １９２ ０ 礒＃１５Ｔ、、＋、 １８９ １９３ ２０２２０ １
９５ １０８ １０９ ３０ １２６ １３８ １３９ ４０ １４９ １５９ １７０ ５０ １７４ １８４ １８４ １００ ２９７ ３０７ ３１６ ２００ ０ ５７８ ０ 腋岨、＝、 ５５０ ５８８ ５７４ °／インチ） ＳＩ（メガ／ぐスカル）４ ５ 平均
８１ ０．０４０ ０．０４２ １２．６２ １２．２９ １２．３２ １２．３２２０
１ １６３ １９４ １９４ ６６ ７６ ６６ ０．４５ ８９ ９２ ８８ ０．６０ １０３ １０３ １０３ ０．７１ １１４ １１２ １１３ ０．７８ １２２ １２４ １２２ ０．８４ １６６ １６０ １５７ １．０８ １９８ ０ １９５ １．３４ １９８ １８１ １９３ １．３３ ７３ ８３ ７２ ０．５０ １０７ １１１ １２６ ０．８７ １３４ １３４ １３４ ０．９２ １６０ １５７ １５９ １．１０ １ Ｂ ３ １８６ １８２ １．２５３３２ ３２０
３１４ ２．１７ ５９４ ０ ５８６ ４．０４ ５９８ ４７７ ５５７ ３．８４
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ハロアルギルエポキシドとヒドロキシ末端Ｈ−０−
Ａ、−０−Ｂ−０−Ａｂ−０−Ｈ〔式中、Ａけ前記ハロ
アルギルエポキシドの残基であり、ｂは少なくとも３の
整数であり、Ｂは前記のヒドロキシ末端プルカシエンポ
リマ＝の残基であり、そしてハロアルキルエポキシド残
基上のハロゲン原子の少なくとも２５重量％が式％式％ （式中、Ｘけハロゲン原子であり、Ｒは水素原子または
炭素原子１〜３０個の基である）で表わされるアルキル
アンモニウムハライドの形であるものとする〕 で表わされるものを含んでなる電池隔離板。 ２ ハロアルギルエポキシドがエピクロルヒドリンであ
り、ヒドロキシ末端アルカノエンポリマーがヒドロキシ
末端ブタジェンー１，３ポリマーであり、そして前記の
式が式 ＣＨ２−Ｘ ＣＨ２−Ｘ （式中、Ｘは塩素原子筐たけアルキルアンモニウムクロ
ライド基−Ｎ＋Ｒ，Ｃｔ−であり、塩素原子の少なくと
も２５重量％は−Ｎ＋Ｒ，Ｃ１−基中に存在しているも
のとし、Ｒは縦索原子１〜８個を含むものであり、ｂは
約５〜１００である） である特許請求の範囲第１項記載の電池隔離板。 ３ Ｂの分子量範囲が約５００〜約１０゜０００であり
、ｂが約５〜１００である特許請求の範囲第２項記載の
電池隔離板。 ４、Ｂがブタノエン−１，３ホモポリマーであり、分子
量範囲が約１５００〜約５０００であり、ｂが約５〜約
２５であり、そしてＲが炭素原子１〜６個のアルキル基
でおる特許請求の範囲第３項記載の電池隔離板。 ５、Ｂがブタノエン−１，３少なくとも５０重景チと、
分子量約１５００〜約５０００でＣＨ２＝末端基少なく
とも１個をもつ共重合可能なビニリデンモノマー少なく
とも１種５０重量％未満とのヒドロキシ末端コ１．リマ
ーであり、ｂが約５〜２５であり、そしてＲが炭素原子
１〜６個のアルキル系である特許請求の範囲第３項記載
の電池隔離板。 ６ ビニリデンコモノマーヲ、スチレン、アク９０ニト
リル、ならびにアルキルアクリレートおよびメタクリレ
ート（アルキル基は炭素原子１〜８個を含むものとする
）からなる群から選ぶ特許請求の範囲第５項記載の電池
隔離板。 ７、 エピクロルヒドリンの塩素原子束なくとも５０重
量％が−Ｎ＋Ｒ３Ｃを−基中に存在する特許請求の範囲
第４項記載の電池隔離板。 ８ 厚さ約０．０１〜約２０ミル（約０．２５μ〜約０
．５ ｍｓ ）のフィルムの形の特許請求の範囲第１項
記載の電池隔離板。 ９、厚さ約００１〜約２０ミル（約０．２５μ〜約０．
５ ｍ ）のフィルムの形の特許請求の範囲第２項記載
の電池隔離板。 １０厚さ約０．０１〜約２０ミル（約０２５μ〜約０．
５鋼）のフィルムの形の特許請求の範囲第３項記載の電
池隔離板。 １１、厚さ約０．０１〜約２０ミル（約０．２５μ〜約
０．５ ｍ ）のフィルムの形の特許請求の範囲第４項
記載の電池隔離板。 １２厚さ約０．０１〜約２０ミル（約０．２５μ〜約０
．５ ｍ ）のフィルムの形の特許請求の範囲第５項記
載の電池隔離板。 １３、厚さ約０．０１〜約２０ミル（約０．２５μ〜約
０．５ ｍ ）のフィルムの形の特許請求の範囲第７項
記載の電池隔離板。 １４ 少なくとも１種のイオウおよびイオウ含有化合物
、金属酸化物、Ｉジアミンならびに有機過酸化物の加硫
量によって架橋した特許請求の範囲第１項記載の電池隔
離板。 １５ 金属酸化物が酸化亜鉛である特許請求の範囲第１
４項記載の電池隔離板。 １６、イオウおよび酸化亜鉛の両者が存在する特許請求
の範囲第１５項記載の電池隔離板。 １７ 無機充填材を含む特許請求の範囲第１４項記載の
電池隔離板。 １８、前記の充填材が、酸化亜鉛およびイオウで架橋し
たブロックコポリマー１００重量部あたりシリカ２５〜
１００重量部の量の微粉砕シリカである特許請求の範囲
第１７項記載の電池隔離板。 １９、加硫量のイオウ、イオウ含有促進剤および酸化亜
鉛で架橋した特許請求の範囲第１８項記載の電池隔離板
。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| US06/609,941 US4522902A (en) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | Polymeric battery separators |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60100643A Pending JPS60253152A (ja) | 1984-05-14 | 1985-05-14 | ポリマー電池隔離板 |
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| JP (1) | JPS60253152A (ja) |
| DK (1) | DK211085A (ja) |
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