JPS60251537A - 光デイスク用原盤の製造方法 - Google Patents

光デイスク用原盤の製造方法

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Publication number
JPS60251537A
JPS60251537A JP10476684A JP10476684A JPS60251537A JP S60251537 A JPS60251537 A JP S60251537A JP 10476684 A JP10476684 A JP 10476684A JP 10476684 A JP10476684 A JP 10476684A JP S60251537 A JPS60251537 A JP S60251537A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
substrate
layer
pattern
deposited
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Pending
Application number
JP10476684A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Hirano
平野　弘
Mitsuru Hamada
浜田　満
Minoru Nakajima
実 中島
Iwao Tsugawa
津川　岩雄
Akira Shioda
明 潮田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS60251537A publication Critical patent/JPS60251537A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は光デイスク用原盤の製造方法、特に感光性有機
金属化合物を用いる簡便かつ乾式の光デイスク用原盤の
製造方法に係る。
従来技術と問題点 光デイスク基板は金属製原盤でプラスチックを成形して
製造する。この原盤を製造する場合、従来は、ガラス基
板上に有機フォトレジストを塗布し、露光し、現像液で
現像してレジストパターンを形成する。このレジストパ
ターン上に金属メッキを行ない、そのメッキ層をレジス
トから分離して金属製基板で支持している。この製造方
法は約２０の工程からなっておシ、かつ溶液を用いる湿
式１程が多いために塵埃が混入しやすく、ひいては原盤
そして光ディスクの表面に欠陥が生じやすいという欠点
がある。
発明の目的 本発明の目的は、上記の如き従来技術に鑑み、光デイス
ク用原盤を製造するに当り、工程数を減らすとともに、
工程を乾式化して欠陥の少ない原盤を提供することにあ
る。
発明の構成 上記目的を達成するために、本発明では、感光性有機金
属化合物の輻射線分解反応を利用して基板上に金属パタ
ーンを形成する。
感光性有機金属化合物としてはシュウ酸銀ＣｕＣ２０２
が好ましく、この化合物は波長２５０μｍ。
２８５μｍ、　３１３μｍの光が照射されると、金属銅
Ｃｕと二酸化炭素００２に分解する。そこで、シーウ酸
銀を好ましくは銅や真鍮の基板（ガラス基板上に銅を被
着しだもの勢でもよい）上に被着し、レーザ光その他に
よって所定の溝パターンに露光し、露光部分に金属鋼を
析出させる。その後、好ましくは酸素プジズマでエツチ
ングすれば、析出した金属銅だけが基板上に残シ、他は
分解され、除去される。本発明では、これだけの簡単な
工程によって光デイスク用原盤が製造される。しかも、
全工程が乾式であることができる。
発明の実施例 図面を参照して説明する。第１図において、銅製基板１
上にシュウ酸銅層２を厚さ１５０ｎｍ程度蒸着またはス
パッタリングする。続いて、第２図に示す如く、アルゴ
ンレーザ光の倍波またはヘリウムネオンレーザの倍波を
用いて幅１．５〜２μｍ程度の線状にパターン露光し、
露光部分に金属銅３を析出させる。それから、常温で酸
素プラズマエツチングすると、第３図に示す如く、基板
１上にその析出した金属銅３だけが残る。
こうして、銅製基板と一体に幅０．５程度、厚さ１００
μｍ程度の銅の線状パターンが形成され、光デイスク用
原盤が完成する。
発明の効果 本発明によシ、光デイスク用原盤を少数工程かつ完全乾
式１程で製造することができ、製造時間が短縮され、か
つ欠陥の少ない原盤が得られる。
【図面の簡単な説明】
第１〜３図は本発明の実施例における製造工程順の光デ
イスク用原盤の断面図である。 １・・・基板、　２・・・シュウ酸銅層、３・・・金属
銅パターン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １、　基板上に感光性有機金属化合物層を被着する工程
    と、該有機金属化合物層に輻射線を選択的に露光して、
    露光部分の有機金属化合物を分解して金属を析出する工
    程と、前記基板表面をプラズマエツチングして前記有機
    金属化合物およびその前記析出金属以外の分解生成物を
    除去し、該基板表面に前記金属のパターンを形成する工
    程からなることを特徴とする光デイスク用原盤の製造方
    法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02264254A (ja) * 1989-04-05 1990-10-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd パターン形成用材料とそれを用いたパターン形成基板の作製方法
EP0667608A1 (en) * 1994-02-14 1995-08-16 ODME International B.V. A method of manufacturing a matrix for producing optical disks without the medium of a master

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