JPS60251510A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体に関し、さらに詳しくは高密度
記録に適した磁気記録媒体に関する。

〔従来技術〕

近年、開ざ＾が進められてきている高密度記録用磁気記
録媒体においては磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわ
ゆる間隙損失を軽減させるため、磁性層の表１ｆｉｉ性
をより高度なものとすることが要求される。この目的の
ためには、磁性層の製造技術、すなわち磁性粒子の分散
、塗布、表面成形技術などの改良により磁性層の表面性
を向上させることが必要であると同時に、支持体の表面
性を向上させることもまた必要となる。とくに、記録密
度が高くなるにともない記録波長が小となることにより
、厚み損失を逃がれるために磁性層を薄くする試みがな
されてきている。それにより、支持体の表面性が磁性層
の表面性に与える影響はますます犬となってきている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら磁気記録媒体に使用される支持体の表面性
を向上させることは下記の理由から限界がある。つまり
、製膜して巻き取る工程において、フィルムの表面性が
良いと搬送ローラーに対する摩擦抵抗が大となり、しば
しば蛇行を起こしたり、シワが生じたりする。またフィ
ルム間の摩擦抵抗が増大し巻き取りロールの形状にユガ
ミが生じたりもする。

前記の背反する問題点の解決のために、これまでに種々
の試みがなされてきている。たとえば特開昭５３−１０
９６０５には、支持体上に熱可塑性樹脂の微粒子を突出
させ、その后溶剤にて溶解除去しその表面に磁性層を形
成する方法が記載されている。

また、特公昭４６−１４５５５には、支持体上にポリア
ミド、ポリエステル等のポリマー溶液を塗布、乾燥させ
て、微小じわを形成し、その表面に磁性層を形成する方
法が記載されている。特公昭４７−６１１７には、支持
体上に塗布するポリマーとしてコポリエステル等を使っ
て、また特公昭５０−３８００１には、熱可塑性ポリエ
ステル等を使って、特公昭４６−１４５５５と同じよう
に表面に微小じわを形成し、その表面に磁性層を形成す
る方法が記載されている。

しかし、上述の４つの方法のいずれも、高密度記録用磁
気記録媒体としての満足すべき特性を安定的に賦与しう
るにはいたっていない。

本発明の目的は、高密度磁気記録用非磁性支持体表面に
、要求された表面粗さを有する層を安定的に形成するこ
とにより、該非磁性支持体の表面粗さをコントロールす
るにある。上記において言う表面粗さは、通常の触針型
粗さ計で測定できる範囲から、触針では測れない微小な
構造の粗さまでをさす。

〔問題点を解決するための手段〕

すなわち、本発明は、１）非磁性支持体と磁性層との中
間に、放射線照射により重合可能な化合物と微粒子とを
含有する非磁性層を設け、該層が放射線照射されている
ことを特徴とする磁気記録媒体および、２）前記非磁性
層の表面あらさが０．００１〜０．０１μｍの範囲であ
ることを特徴とする磁気記録媒体である。

なお、本発明における表面あらさとは、ＪＩＳ−ＢＯ６
０１の５項で定義される中心線平均あらさをさし、カッ
トオフ値は０．２５　ＩＩＩである。

以下、本発明について詳細に説明する。

本発明の中間層に使用される放射線照射により重合可能
な化合物は炭素−炭素不飽和結合を分子中に１個以上有
する化合物でありアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド８類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類
、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類
、ヒニル異節環化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類
、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフ
ィン類などが例としてあげられる。これらのうち好まし
いものとしてアクリロイル基またはメタクリロイル基を
２個以上含む下記の化合物があげられる。ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート
、トリメチロールノロノンドリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、などのアクリレート
類、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチ
レングリコールトリメタクリレート、テトラエチレング
リコールジメタクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタク
リレート、などのメタクリレート類あるいはその他の２
官能以上のポリオールとアクリル酸メタクリル酸とのエ
ステル類、など。

また、これらの化合物は高分子量体のものであってもよ
い。好ましくは高分子の主鎖末端あるいは側鎖にアクリ
ル酸またはメタクリル酸とのエステル結合を有する化合
物であり、これらはＡ、　Ｖｒａｎｃｋｅｒｎ　−Ｆａ
ｔｉｐｅｃ　Ｇｏｎｇｒｔｓｓ　”　ｌ　ｌ　ｌ　９（
１９７２）　に引用されている。たとえば以下に示す化
合物 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカーボネート骨格であってもあるいはこれらの混合さ
れた骨格でもよい。分子量は１．０００〜２０，０００
が好ましいが、とくに限定されるものではない。

上記の放射線照射により重合可能な化合物は単独に、ま
た任意の割合で混合して使用することができる。

さらに塩ビ酢ビ系共重合体、繊維素系樹脂、アセタール
系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、ウレタン樹脂、
アクリロニトリルズタジェン樹脂等の熱可塑性樹脂を必
要により前記放射線照射により重合可能な化合物と混合
使用することができる。

本発明において使用される放射線は電子線および紫外線
である。紫外線を使用する場合には前記の化合物に光重
合開始剤を添加することが必要となる。

光重合開始剤としては芳香族ケトンが使用される。

芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源
として通常使用される水銀灯の輝線スはクトルを生ずる
２５４．３１３．３６５　ｎｍの波長において吸光係数
の比較的大なるものが好ましい。

その代表例としては、アセトフエノン、ベンゾフェノン
、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール
、ベンジルエチルケタール、ベンゾインインブチルケト
ン、ヒト９０キシジメチルフエニルケトン、１−ヒドロ
キシシフ日へキシルフェニルケトン、２−２ジエトキシ
アセトフエノン、Ｍｉｃｈｌｅ〆εケトンなどがあり、
種々の芳香族ケトンが使用できる。

芳香族ケトンの混合比率は、化合物（α）１００重量部
に対し０．５〜２０重量部、好ましくは２〜１５重量部
、さらに好ましくは３〜１０重量部である。

本発明の中間層に混合される微粒子は、径にして１００
〜５ｏｏｏＡの大きさの球状もしくはフレーク状のもの
である。該微粒子の該中間層表面上の露出部は、高さ５
０〜２０００λで、露出個数は１０６〜１０９個／酩２
の範囲に設定される。上記の微粒子の径、および露出粒
子密度は、磁気記録媒体の用途に応じて、より狭い範囲
に調製される。微粒子の素材としては、様々なものがあ
るが、大きく分けて、有機微粒子と無機微粒子に分けら
れる。有機微粒子としては、ベンゾグアナミンホルムア
ルデヒド９、ポリテトツフルオロエチレンのように有機
マット拐として市販されているものが使用できる。無機
粒子としては、無機粉体、もしくは研磨剤と称されるも
ので、成分を上げると、α−アルミナ、γ−アルミナ、
炭化ケイ素、酸化チタン、酸化マグネシウム、リン化鉄
、炭化チタン、窒化チタン、α−とβ−酸化ケイ素、ア
ルミニウム、修酸カルシウム、鉄、α−酸化第１鉄、亜
鉛、二酸化亜鉛、酸化第２ニッケル、ニッケル、銅、ク
ロミア、水酸化マグネシウム、ジルコニア、イツトリア
、セリア、ジルコン、酸化アンチモンなどがある。

上記非磁性層の表面あらさは、０．００１〜０，０１ｐ
ｍであり、好ましくは０．００２〜０．００７ｐｍであ
る。

前記放射線照射により重合可能な化合および有機あるい
は無機微粒子を、また芳香族ケトンとの混合物を支持体
上に塗設する場合、種々の有機溶媒が必要に応じ使用で
きる。この溶媒の添加量によって微粒子が表面露出量を
調節でき、したがって表面あらさを調節できる。使用で
きる有機溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
系；メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノー
ル等のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル
等のエステル系；エーテル、クリコールジメチルエーテ
ル、クリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のダ
リコールエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン等
のタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、
エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチ
レンクロルヒドリン、ジク四ルはンゼン等カあげられる
。

電子線加速器としてはパンデグラーフ型のスキャニング
方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム
方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力
が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性とし
ては、加速電圧が１０〜１０００　ｋＶ、好ましくは５
０〜３００　ｋＶであり、吸収線量として０．５〜２０
メガランド、好ましくは１〜１０メガランドである。加
速電圧が１０　ｋＶ以下の場合は、エネルギーの透過量
が不足し１０００　ｋＶを超えると重合に使われるエネ
ルギー効率が低下し経済的でない。

吸収線量が０．５メガラツド以下ては硬化反応が不充分
で磁性層強度が得られ１゛、２０メガラット８以上にな
ると、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり、
被照射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形す
るので好ましくない。

本発明に使用される支持体はポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエス
テル類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のホリオレフ
ィン類；セルローストリアセテート、セルロースダイア
セテート、セルロースアセテートノチレート、セルロー
スアセテートプロピオネート等のセルロース訪導体；ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂；
ポリカーボネート、７１９リイミビ、ポリアミドイミド
等のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、銅
、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不銹銅な
どの非磁性金属類；紙、バライタまたはポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体などの炭素
数２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネ
ートした紙などである。

本発明に使用される非磁性支持体の表面あらさは、前記
中間層の表面あらさと同等以上であることが好ましい。

支持体の裏面には走行性などの改良を目的としていわゆ
るバック層を設けることができる。この場合、バンク層
の表面あらさを０．０１０μｍ以上、好ましくは０．０
１５μｍ以上とすることにより本発明の効果は同様に発
揮される。

本発明の重合硬化層の上に設けられる磁性層は強磁性粉
末と結合剤とを主成分とするものであっても、磁性金属
薄膜であってもよい。

本発明に適用される磁性金属薄膜の形成法は真空槽内で
膜を形成する方法あるし・はメッキ法によればよく、金
属薄膜の形成速度の速いこと、製造工程が簡単であるこ
と、あるいは排液処理等の必要のないこと等の利点を有
する真空槽内で膜を形成する方法か好ましい。真空槽内
で膜を形成する方法とは希薄な気体あるいは真空空間中
において析出゛させよ）という物質またはその化合物を
蒸気あるし・はイオン化した蒸気どして基体となる支持
体上に析出させる方法で真空蒸着法、スパッタリング法
、イオンブレーティング法、化学気相メッキ法等がこれ
に相当する。

さらに本発明において磁気記録層となるべき強磁性金属
層としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属
あるいはＦｌ！−Ｑｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、ｃｏ−Ｎｉ、ｐ’
　ｅ−８ｉ、　Ｆｔ−ＲＡ、　Ｃｊｏ−Ｐ、　Ｇｏ−Ｂ
。

ｃｏ−３ｉ、Ｃ０−Ｖ、Ｃｏ　−Ｙ、　Ｇ　ｏ−Ｌα、
ｃｏ−Ｑｔ。

ＧＯ−Ｐｒ、Ｇｏ−８ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｇｏ−Ｍｎ、Ｆ
ｔ−Ｃｏ−Ｎ？、、Ｇｏ−Ｎｉ　−Ｐ、　Ｇｏ−Ｎｉ　
−Ｂ、　Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｇ、Ｃｏ　−Ｎ　ｉ、　−Ｎ　
ａ、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｃｅ、Ｇｏ−Ｎｉ−’１ｎ１Ｇｏ　−
Ｎ　Ｌ−Ｇｗ、　Ｇｏ−Ｎｉ　−Ｗ、　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｒ
ｅ。

Ｑｏ−３ｍ−ＧＷ笠の強磁性合金を真空槽内で膜を形成
する方法あるいはメッキ法によって薄膜状に形成せしめ
たもので、その膜厚は磁気記録媒体として使用する場合
０．０５μｍ〜２μ扉の範囲であり特に０．１μｍ〜０
．４μｍが好ましい。

〔実施例〕

以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。

実施例１゜ １４．５μ厚のポリエチレンテレフタレート支持体上に
、ボールミルで１０時間混線分散した下記組成の塗液を
０．５μ厚で塗設し、加速電圧１６０ｈｖ、ビーム電流
５ｍＡで吸収線量５Ｍｒａｄの電子線照射を行なった。

この表面粗さは０．００４（μ〕である。

Ｏ塗液：下記の組成の溶液をボールミルで５時間、混練
した。

ジエチレングリコールジアクリレート　２５０部トルエ
ン　１００部 アセトン　１００部 上記溶液塗設側に、コバルトニッケルを連続蒸着機によ
り蒸着（いわゆる斜蒸着）し強磁性薄膜（膜厚２０００
１）を形成せしめ、１／２インチ巾にスリットしてビデ
オ用の磁気テープサンプル屋１を得た。

比較例１ 実施例１において、塗液をジエチレングリコールジアク
リレートのみにし、他は実施例１と同様に磁気テープサ
ンプルＡ２を得た。

比較例２ 実施例１において塗液の成分の４フツ化エチレン樹脂１
０部のかわりに炭化カルシウム（粒子径５ｏｏｏＸ）ｔ
ｏ部を加え後は実施例１と同様にしてサンプル屋３をえ
た。

比較例３ 実施例１に使ったベースフィルムを、そのまま、重合層
を設けずに使い、あとは実施例１と同じように蒸着層を
設けてサンプルＡ４を得た。

以上のサンプルについてビデオ感度、Ｃ／Ｎ、および走
行耐久性について調べた。（使用ＶＴＲ：松下電産製造
、商品名「ＮＶ−８８００Ｊ　）ビデオ感度：４ＭＨｚ
　における再生出力を比較例１を基準に（±（ＭＢ）測
定した。

Ｃ／　Ｎ　：　３ＭＨｚ及び３．５ＭＨｚ　の搬送波（
キャリアー）を記録し、再生したときのキ ャリアーとノイズの比を比較例１を基 準に（±ＣＭ、Ｂ　）測定した。

走行耐久性＝１００回走行の後に、出力低下を測定した
。

結果を表に示す。

〔発明の効果〕

表より明らかなごとく、非磁性支持体表面に放射線照射
重合膜を設け、その膜内に微粒子を含有させ、該重合膜
の表面粗さを０．００１〜０．０１μｍの範囲内に調製
し、該重合膜の上に強磁性層の設けられた磁気記録媒体
は、著しいビデオＳ／Ｎ向上と耐久性改善がなされてい
ることがわかる。

代理人　弁理士（８１０７）佐々木　清　隆（ほか３名
） 手続補正書 昭和５９年１２月々　１ヨ 昭和５９年特許願第　１０６４１９　号２　発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係°特許出願人 名称　（５２０）　富セ写真フィルム株式会社霞が関ビ
ル内郵便局　私書箱第４９号 栄光特許事務所　電話（５８１）−９６０１（代表）８
、補正の内容　＼−−−１゜ 「発明の詳細な説明」の欄を下記の如く補正する。

１）明細書第９頁５行「α−とβ−」を「α−およびβ
−」と補正する。

２）同書第９頁１８行「微粒子が」を「微粒子の」と補
正するっ ３）四裏第１４頁１０行「この」を「上記により形成さ
れた非磁性層の」と補正する。

４）四壱、第１４頁１９行「コバルトニッケル」の後に
ｒ　（Ｎｉ；２０ｗｔ％）−１を挿入する。

５）同書第１５負１１行「加え後は」を「−加え、他は
」と補止する。

６）同書第１５負１５行１あとは」を「°他は」と補正
する。

以　士

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）　非磁性支持体と磁性層との中間に、放射線照射
   により重合可能な化合物と微粒子とを含有する非磁性層
   を設け、該層が放射線照射されていることを特徴とする
   磁気記録媒体。
2. （２）前記非磁性層の表面あらさがｏ、ｏｏｉ〜０．０
   １μｍの範囲にあることを特徴とする特許請求の範囲第
   （１）項記載の磁気記録媒体。