JPS58111126A - 磁気記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気配録材料に関し、特に耐摩耗性に優れ、か
つ良好な電気特性を有する磁気記録材料を製造する方法
に関するものである・ 現在、一般に広（使用されている磁気配録材料はバイン
ダーとして塩酢ビ系樹脂、塩ビー塩化ビニリゾｙ系樹脂
、セル四−ス樹脂、アセタール樹脂、ウレタン樹脂、ア
クリロニトリルフタジエン樹脂等の熱可塑性樹脂を単独
あるいは混合して用いているが、この場合は、磁性層の
耐摩耗性が劣り磁気テープの走行経路を汚してしまうと
いう欠点を有していた。

また、メラミン樹脂、尿素樹脂などの熱硬化性樹脂を用
いる方法あるいは上記熱可臘性樹脂−化学反応による架
橋性の結合剤、例えばイソシアネート化合物、エポキシ
化合物などを添加することが知られ【いる、しかし、架
橋性の結合剤を用いると、■　磁性体を分散させた樹脂
溶液の貯蔵安定性が悪い、即ち、ポットライフが短かい
と−・５欠点を有し磁性塗液物性の均一性、ひいては、
磁気テープの均質性が来【ないという欠点及び、■塗布
乾燥後に塗膜の硬化のために熱処理工程が必要であり、
製品化までに長時間を要するという大きな欠点を有して
いた。

これらの欠点を藺止するため、アタリル酸エステル系の
オリゴマーと毫）！−をバインダーとして用い電子線照
射によって硬化せしめる磁気材料の製造方法が特公昭４
７−１２４２５号１％開昭４７−１５１０４号、特開昭
５０−７７、［３号、特開ｌ８５６−２５２５５号等に
開示され【いるＯ近年磁気記録材料は長時間記−１軽量
化のために支持体を薄くすることが要求され、またビデ
オテープレコーダーオーディオチー／レコーダー等の記
鍮凋生装置の多機能化によって磁気記録材料は以前にも
増して胃酷な条件で使用できることが要求され【いる、
ｌ！米の電子線硬化を用いる方法では、磁気テープが走
行中に折れてしまったりレコーダー内でａＳ層が剥落し
テープの走行経路を汚しｃＬまったりしてまたカレンダ
ーによる平滑此処理工Ｓ″ｔ％磁性層が剥落することが
あったりして良好な磁気記録材料は得られなかったｅ本
発明者は電子線硬化バインダーの利点を生かしつつ上記
間層を克服すぺ（鋭意研究を重ねた結果本発明に到達し
たものである。

本発明の目的は、第１に耐摩耗性の優れた磁気記録材料
を提供することであり、ｊ１２にレコーダー内で磁性塗
膜の剥落しない磁気記録材料を提供することであり、第
３Ｋｌｉ性層平滑化工程で１１１！１塗暎の剥落しない
磁気記録材料を提供することであり、１Ｉ１４に１Ｋｍ
変換ｌｌｌ１性の良好な磁気記録材料を提供することで
あり、第５に磁性塗濠の貯蔵安定性が良好で均質な磁気
記録材料を提供することであり、第６ＫＩＩ！膜の硬化
のための熱処理工程が不要な磁気記録材料を提供するこ
とである。

本発明の上記の目的は、電子１１による重合が可能な不
飽和結合を有する化合物と強磁性微粉末及前記化合物を
溶解する有機溶剤を含む組成物を下塗層を有する支持体
上に塗布し電子線照射により重合硬化せしめたことを特
徴とする磁気記録材料によって達成される。

本発明で用いられる下塗層は後で詳述するが通常用いら
れる全ての下塗層として用いられている素材を用いるこ
とができる。４１に炭素−炭素不飽和結合を有する下塗
層を用いたとき磁性層と支持体との間に強固な密着力が
得られ、従来の電子線硬化パイン〆一を用いたときの欠
点が克服され。

走行経路を汚すことなく、また製造中にカレンダー四−
ルを汚すこともなくなった。またカレンダー、−（）ｓ
−ル汚れがなくなったので、高い圧力で平滑化Ｊ６３１
が可能となりこのためａ性層表面の平滑性が向上し電磁
変換特性が食中に向上した。この理由としては本来化学
的に不活性である下塗層か電子線照射によつ【磁性層と
強固に一次結合したためであると推定される。またこの
方法では下塗層と磁性層の硬化が同時に行なわれるため
、他の下塗層を用いる場合に比し、工程的にもいちぢる
しく有剰である。

電子Ｉ１ｗｃよる重合が可能な不飽和結合を有する化合
物としては、例えばビ蟲ルないしビニリデン炭素・炭素
二重納会を好ましくは複数個有する化金物であり、アク
タ宵イル基、アクリルア叱ド基、アリル基、ヒニルエー
テル基、ヒニルチオエーテル基等を含む化合物及び不飽
和ポリエステルである。

特に好ましくは、アタリ−イル、メタクリルイル基を直
鎖の両末端に有する化合物であり、これらはＡ、Ｖｒａ
ｎｃｋｅｎ　’Ｆａｔｉｐｅｃ　（ｏｎｇｒ＊ｇｇ”　
１１　１９（１９７２）Ｋ引用され【いる６例えば。

ＯＨｚ＝ＧＨ−ＧＯ！−ＣＨ２０ＨＯＨＯＯＨ であり１例示した化合物のポリエステル骨格がポリフレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、／ジエーテル骨格。ポ
リカーボネート骨格であってもあるいはこれらの混合さ
れた骨格でもよい、また例示した化金物の末端がメタタ
ｌａイル基でもよい・分子量は約１０００〜２００００
が好ましい。

更に、不飽和の炭素−炭素不飽和結合を分子内に有する
毫ツマ−を添加することができる・、かかる毫ノ！−と
しては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
１２．アクリル酸メチル及びその同族体であるアクリル
酸アル中ルエステル、メタクリル酸メチル及びその同族
体であるメタクリル蒙アルキルエステル、スチレン及び
その同族体テアルα−メチルスチレｙ、β−タールスチ
レンなど、アク９ｏニトリル、メタク９ｖ−エ）リル、
アクリルアセト、メタタ曹ルアミド、酢酸ビニル、シー
−オン酸ビニになどが挙げられる・分子内に不飽和結合
が２個以上あつ【もよい、この化合物の例としては「感
光性樹脂データー集」（株）綜合化学研究所昭和４３年
１２月刊行２３５〜２３６頁に掲載されている化合物が
挙げられる・特Ｋ。

ポリオールの不飽和エステル類１例えばエチレンジアク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、グリ
セ賞−ルトリメタクリレート、エチレンジメタクリレー
ト、はンタエ９スリ）−ルテ）ツメタフリレートなど及
び工Ｉキシ環を有する！リンジルメーク１Ｊレートなど
が好ましい０分子内に不飽和結合か１個の化合智と２個
以上の化合物を混合して用いてもよい。

モノマーを添加する場合ポリマーとの比は、ポリ！−／
七ツマー＝２７８以上が好ましい、この範囲を外れると
硬化に多大なエネルギーが必要とされる。更に塩酢ビ系
共重合体、＊線素系樹脂。

ブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ブタン系樹脂等の
熱可塑性樹脂を添加してもよい、ただし熱可塑性樹脂は
電子ｌＩＫよって重合する化合物の総和の６倍の重量を
超えてはならない、これ以上添加するとａ性層のＩｔｊ
Ｐ耗性が悪化する。強ａｍＳ末としては１強磁性酸化鉄
微粉末、強磁性二酸化り■ム微粉末、強磁性合金粉末な
どが使用できる・強磁性酸化鉄、二酸化り賞ムの針状比
は、２７１〜２０７１程度、好ましくは５／１以上平均
長は１２〜２．０μｍｌｃ程度の範囲が有効である。強
磁性合金粉末は金属分が７５ｖｔ、−以上であり、金属
分の８０ｖｔ−以上が強磁性金属（Ｊ２１］ち、Ｆｅ、
ｃｏ。

Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆ＠−Ｃ
ｏ−Ｎ１）　？’長径が約１０μｍ以下の粒子である・ 有機溶剤としては、ア竜トン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系
；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ジチル、乳酸エチル、
酢酸！リーールモノエチルエーテル等のエステル系；エ
ーテル、／９コールジメチルエーテル、１９１−ルモノ
エチルエーテル、ジオキサン等の！リコールエーテル系
；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；
エチレンクーライド、エチレンクーライド、四塩化炭素
、りｗｗホルム、エチレンクーライドリン。

ジクールベンゼン等の塩素化炭化水素等のものが選択し
て使用できる。

本発明の組成物は、ポリマー（モノ！−を併用する場合
は、−リマーと篭ツマ−の総和）７強磁性粉末か重量比
で２７１〜１／２０が好ましく、更に好ましくは１７１
〜１／１０である。この範囲を外れると電気４Ｉ性が大
中に低下したり耐摩耗性の大巾な低下が生じる。

また１本発明の塗布組成液には、潤滑剤、分散剤、研摩
剤、防錆剤、帯電防止剤などの添加剤を加えてもよいｅ
特に潤滑剤は、飽和反び不飽和の高級脂肪酸、脂肪酸エ
ステル、高級脂肪酸アミド、高級アルコール、シリコン
オイル、鉱油、食物油。

フッソ系化合物などがあり、これらは塗布液調製時に添
加してもよく、また乾燥後あるいは平滑化処理後あるい
は電子＊＊化後に有機溶剤に溶解しであるいはそのまま
ａＢ層表面に塗布あるいは。

噴霧してもよい。

塗布組成物を調製するＷ！には１強ａＳＳ末及び上述の
各成分は全て同時に、あるいは個々順次に混練機に投入
される。このとき分散剤をａ性粉末と共に添加してもよ
い。

前記の支持体の素材としては、−リエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−す７タレー）勢の、１９
エステル類：／ジエチレン、ポリプロピレン等のポリす
レフイン類；セルリーストリアセテート、セルロースダ
イアセテ−酬、セル四−スアセテートゾチレート、七ル
ーースアセテートプｖｓｔオネート等のセルー−ス誘導
体；−ツ塩化ビニル、１１塩化ビニリゾｙ等のビニル系
樹脂；ポリカーボネート、４リイ叱「、ボリア建トイ々
ド等プラスチツタな用いることができる一本発明の下塗
層としてはたとえばポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、
Ｉ９７ツ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ｊ＃ｆす酢酸
ピＪＬル、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリブー♂しｙ
、臭素化ポリエチレン、塩化ツム、塩化ビ！ルーエチレ
ン共重合体、塩化ビニル−シーピレン典型・金体、塩化
ビニルースチレン典型合体、塩化ピ！ルーイソゾチレン
共重合体、塩化ビニル−塩化ビ墨すデン典型金体、塩化
ビニル−スチレン−無ボマレイン酸三元共重合体、塩化
ビニル−スチレン−アクｌｊａニトリル典型合体−塩化
ビ具ループタジエｙ共重合体、塩化ビニル−イソプレン
共重合体、塩化ビニル−塩素化ゾロビレ／共重合体、塩
化ビニル−塩化ビニリゾ／−酢酸ビエル三元共重合体、
塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル
−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビエルーメタタリ
ル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル
共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデ
ン−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビＳ−リゾｙ
−ずクリａ　二）リル典型合体、塩化ビニリデンーアク
リル酸エステル共重合体、りａ四エチルビニルエーテル
−アクリル酸エステル共重合体、ボッフッ化ビニリデン
、などの含ハロゲン金成樹脂、４リエチレン、ｄＩリプ
習ピレン、ポリブテン、ポ９−３−メチル！テンなどの
α−オレフィン共重合体、エチレンープ四ピレン共１合
体、エチレン−プロピレン−１，４−ヘキサジエン共重
合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、：ｌポリｌテン
−１−プロピレン、ブタジエンーアタリロエトリル共重
合体などのポリオレフィン、およびこれらの共重合体と
ハ四ダン含有樹脂とのブレンド品、アクリル酸エステル
−アクリ謂二）リル共−合体、アタｖ〃酸エステルース
チレン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニト
リル共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合
体、−リ°アルキルアクリレート、（アクリル酸−アク
リル酸ブチル）共重合体、アクリル酸エステル−ブタジ
ェン−スチレン共重合体、メタタリル酸エステルーブタ
ジェン−スチレン共重合体、あるいは１重量比が６７／
２５／７１５であるメタクリル酸メチル／アクリル酸エ
チル／２−Ｖ−ドー命シエテにアクリレート／メタクリ
ル酸、重量比７２／１７／７１５のメタクリル酸メチル
／アクリル酸エチル／２−ヒトーキシエチルアタリレー
ト／メタクリル酸、重量比７０／２０／７／３のメタタ
ＩＪｋ−酸メチに／アクリル酸エチル／２−にドはキシ
エチルアクリレート／メタクｌｙ酸および重量比７０／
２０／７／３のメタクリル瞭メチル／アクリル酸ブチル
／２−ヒト四キシエチルアクリレ−）／メタクリル酸の
各重合体。

などの如きアクリル樹脂、あるいは、ポリスチレン、ス
チレンと他の単量体（例えば無水マレイン酸、シタジエ
ン、アタリａｘ）リルなと）との共重合体、アクリロニ
トリル−ブタジェン−スチレン共重合体、または、ポリ
アセタール樹脂、ポリビニルアルコールまたは、これら
の樹脂類のブレンド品、ゾロツタ共重合体、グラフト共
重合体、ポリアンド樹脂、ポリビエルゾチツール、セル
ｐ−ス誘導体、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコー
ルなどのビニル重合物を始めとして、其他ポリカーボネ
ート、ＩＩＩ警エーテルなどの縮合系高分子仕合物、天
然！ム、ゾチルゴム、ネオゾレンＪム、スチレンー！タ
ジエｙ典型合！為などの！ム類、又はシリコン！ム、Ｉ
リウレタン、天然あるいは人造！ム、ボリア擢ド、ウレ
タンエラスト！−、ナイ四ンーシ９ｗン系樹脂、轟ト■
セル票−スー４９ア電ド樹脂、などのアクリル系、メタ
タリル系、ポリオレフィン系、ポ層ア擢ド系、ポリエス
テル系、ｌリフレタン系、１１１９カーボネート系、！
ム系、セル費−ス系の樹脂、またはこれらノ樹脂類のブ
レンド品、ゾロツタ共重合体、グラフト共重合体、など
を併用することもできる。下塗溶媒は水でもさしつかえ
ないが、必ＩＩＫ応じて、有機溶媒もしくは、水と有機
溶媒などの組合せも使用できる。

上記下塗層としてＩＦ＃に好ましいのは、炭素−炭素不
飽和結合を含むものであり、これらの例としては、アク
リ四二トリループタジエｙ共重合体塩化ビニリデン−ブ
タジェン共重合体、アクリル酸エステル−シタジエン−
スチレン共重合体、塩化ビエルーイソプｖｙ共重合体、
あるいは１４ｆＩＪウレタン、ポリエステル、ポリエス
テルなどのオリゴ！−をアクリレート化した化金物など
を挙げることができる。下塗層の厚みとしては［Ｌ０５
〜ｔＯμ好ましくは０．１〜α５μである。

支持体上へ下塗層を塗布する方法及び下塗層上へ磁気記
碌層を塗布する方法としてはエアードクターツーシ、グ
レー「ツー）、エアナイフフート。

スクイズコート、含浸コニｈ、ｖバースーールコ−）、
）ランスファーロールプート、ｆ９’ｌヤコート、キス
コート、キャストコート、スプレィコート、スピンコー
ド、／（−：Ｉ−）等が利用でき。

その他の方法も可能であり、これらの具体的説明は「コ
ーティング工学」２５３頁〜２７７頁（昭和４６年３月
２０日朝倉書店発行）Ｋ詳細に記載されている。

磁性層の厚味は乾燥厚味で約０．５〜１５μｍの範囲と
なるよ５ＫＩｋ布する。この乾燥厚味は磁気記録体の用
途、形状、規格などｋより決められる。

このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は
、必要により、前記のように層中の磁性粉末を配向させ
る処理を施し乾燥する・配向処理は下記の条件で行なう
ことができる・配向磁場は交流または直流で約５００−
５０００Ｃ程度である６強礁性聯末の配向方向は、その
用途により定められる。即ち、サウンドテープ、小製ビ
デオテープ、メ４１−テープなどの場合にはテープの長
さ方向に平行であり、放送用ビデオテープなとの場合に
は長さ方向に対して、５０°乃至９０°の傾きをもって
配向される。

配向後の磁性層の乾燥温度は約５０〜１２０Ｃ程度、好
ましくは７０〜１００Ｃ，特に好ましくは８０〜９０Ｃ
で、空気流量は１〜５Ｋｊ／ｍ２゜好ましくは２〜３Ｋ
Ｊ／ｍ冨　で、乾燥４間は約３０秒〜１０分間程度、好
ましくは１〜５分である・ 乾燥前に塗膜表面のスムーズニンダ処理を施してもよい
、この方法としてはマグネットスムーザ−、スム−ズ二
ンダフィル、スム−ズ二ンググレード、スムーズエンダ
ゾランケツＦ等の方法が必！！に応じて使用される。

又、本発明の支持体は帯電防止、転写防止−ワク７ラツ
ターの防止、磁気記鍮体の強度向上、パック爾のマット
化等の目的で、磁性層を設けた側の反対のｗ（パック画
）がいわゆるバックコート（１ｍｃｋｃｏａｔ）　　さ
れていてもよい・これらの非磁性支持体の厚みはフィル
ム、テープ、−ノート状の場合は約１〜５０μｍ程度好
ましくは２〜２５μｍである。又、ディスク、ガード状
の場合は０．５〜２蘭程度であり、ドラム状の場合は円
筒状とし、使用するレコーダーに応じその聾は決められ
る。

ｉ性層表面の平滑化処理には鏡面ロールと鏡面ロールと
によるカレンダ亨ング逃理あるいは鏡面ロールと弾性四
−ルとによるカレンダリング処理が用いられる・ 例えば鏡面ロールとし【はメタルロール、弾性ロールと
してはコツトン四−ルまたは合成樹脂（たとえばナイ田
ン、４９ウレタンなど）ロールを用いることができる。

カレンダーの条件は約２５〜１００時／ａｕのロール間
圧力、で、約１Ｏ−１５０Ｃ，特に好ましくは３０〜１
００Ｃの温度で、５〜２００冨／ｗｉｎの処理温度で１
〜３０′段で行なうのが好ましい。温度及び圧力がこれ
らの上限以上になると磁性層が剥落したり支持体が変形
したり悪影響がある。又、処理速度が約５　ｗｓ　／　
ｍｎ以下だと１１ｗ平滑化の効果が得られなく、約２０
０　ｍ　／　ｗｉｎ以上だと処理操作が困難となる。平
滑化処理は電子線照射の前に行ってもよいし、照射後に
行ってもよい、好ましくは電子線照射は２回以上に分割
して照射することであり平滑化処理の前及び後で電子線
照射をそれぞれ１回以上施すことが好ましい。

電子線加速器としてはパンデダラーフ型のスキャエン！
方式１、ダブルスキャエンダ方式あるいはカーテンビー
ム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出
力か得られるカーテンビーム方式である。電子線特性と
し【は、加速電圧が１００〜１０００ＫＶ　、　好ｔｕ
＜ハ１５０〜３００ＫＶであり、吸収線量とし【１５〜
２０メガラッド好ましくは２〜１０メガラツドである。

加速電圧が１００　ＫＶ以下の場合は、エネルギーの透
過量が不足し１０００ＫＶを超えると１倉に使われるエ
ネルギー効率が低下し経済的でない・吸収線量として、
０．５メガツツド以下では硬化反応が不充分で磁性層強
度が得られず、２０メガツツド以上になると、硬化ＫＩ
！用噛れるエネルギー効率が低下したり、被照射体が発
熱ｔ、、　４ＨＣプツステイツり支持体が変形するので
好ましくない、電子線の照射は有機溶剤の乾燥前でもよ
いし、また乾燥後に行ってもよい、また平滑化処理前に
電子線照射しズもよいし平滑化処理後に施してもよい。

平滑化処理前に電子線照射し更に平滑化処理後にもう一
度照射することが好ましい。

以下に本発明を実施例および比較例により更に具体的に
説明する。尚、以下の実施例および比較例において「部
」はすべて「重量部」を示すや実施例１ 厚み１５μのポリエチレンテレフタレートフィルムに４
Ｉ開昭５１−１１４１２０号の実施例２に開示された乳
化重合物（シタジエン／アクリロニトリル／メタアクリ
ル酸共重合物）４部を蒸留水１００部に分散し、ＰＭ：
’１’上に２Ｑｄ／ｍ！塗布し１２０Ｃで１０分間乾燥
した・ 磁性塗液の作成 γ−Ｆｅａｒｓ　　　　　　　　　　　　１００１Ｂウ
レタン系アクリレート第１ツマ−２０１Ｂ（米国特許第
４．０９２，１７３号の実施例１と同様にし【調製した
） ジエヅレンダリコールジアクリレート　　　　　　　１
０部メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　２５
０部ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　１部ブ
チルステアレー）　　　　　　　　　　　　１部上記成
分をボール叱ルで５０時間混練して磁性塗液な得た。磁
性塗液を前述の下塗済ＰＩＣＴ　　支持体上にドクター
プレーＰを用いて乾燥膜厚が６μになるように塗布し＝
ノルド磁石を用いて配向させたのち、溶剤を乾燥（１０
（１１分間）させた。

このあとでコツトン藁−ルと鏡面ｐ−ルの群からなる５
段のカレンダーで平滑化処理（四−ル温度４０Ｃ，圧力
１００ｍ／ａｍ”）を行った・次いで加速電圧２００　
ＫＶ、ビーム電流１ＱｍＡで５　Ｍ　ｒａｄの吸収線量
になるように照射したー　このｇｙプルを、４１とする
ー 実施例２ 実施例１においてウレタンアクリレートオリ！マー（商
品名　東亜舎成製！−１１００）のメチルエチルクトン
ｓｒｓ液を下塗液の代りに用いて実施した。得られたサ
ンプルをム２とする・実施例６ 実権例１において下塗液を特開昭５１−５８４６９号の
実施例ＩＫ［示されたエマルジョン溶液（スチレン／ｎ
−メチルアクリレート／グリシジルアクリレート共重合
体の２−溶液）にかえて同様に実施した。得られた磁気
テープをサンプル、４３とする。

実施例４ 実施例１において下塗液を特開昭５１−１３５５２６号
の合成例ＩＫＭ示されたラテックス（塩化ビニリデン／
メチルアクラレート／ヒドロキシエチルアクリレート共
重合物）の４−水溶液Ｋかえて同様ＫＳｊＬ施した。得
られた磁気テープをサンプル腐４とする。

実施例５ 実施例Ｉにおいて塩化ビニリデン／アクリ−ニトリル共
重合物（商品名ＤＣＷＣｈｅｍ　Ｇｏ製ナツンレジンＦ
１２０）のメチルエチルケシン５１Ｇｉｌｔを下ｔＩｋ
液の代りに用い実−した・得られた磁気テープをサンプ
ル／Ｉ６５とする。

実施例６ 実施例Ｉにおいて下塗液をポリエステル樹脂（エチレン
グリプール／イノフタルｌｌ１２／テレフタル酸共重合
体）Ｋ代えて同様に実施した。得られた磁気テープをサ
ンプルＩ６６とする。

比較例１ 実施例１において、下塗処理を施こさなかった。

得られた磁気テープをサンプル／１６７とする・結果を
第１表に示す・ 菖１表 家庭用ビデオテープレコーダー（ａ下電器産業株式会社
製、マクー−ド８Ｂ）ｔ−用い、くり返し１００回走行
させた。

好ましい実施態様としては以下のことが挙げられる。

（１１％許請求の範囲に於て、電子線照射による重合が
可能な不飽和結合を有する化合物がポリウレタンアクリ
レートである磁気記録材料。

（２、特許請求の範Ｓに於て、下塗層が炭素−炭素不飽
和結合を有する化合物を含む磁気記録材料。

（３１特許請求の範１１に於て、下塗層がゾタンジエン
典型合体、ｊＩｔリウレタンアクリレートオリ！マーで
ある磁気記録材料。

（４１特許請求の範囲に於て、加巡電圧１００〜１００
０ＫＶで吸収線量が１５〜１０メガツツドとなるように
電子線照射した磁気記録材料。

（はか３名）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電子線照射による重合が可能な不飽和結合を有する化合
   物、核化合物を溶解する有機溶剤及び強磁性微粉末を含
   む組成物を下塗層を有する支持体上に塗布し、電子線照
   射により重合硬化せしめたことを特徴とする磁気配録材
   料。