JPS60250331A - 液晶素子の製造方法 - Google Patents
液晶素子の製造方法Info
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- JPS60250331A JPS60250331A JP10775484A JP10775484A JPS60250331A JP S60250331 A JPS60250331 A JP S60250331A JP 10775484 A JP10775484 A JP 10775484A JP 10775484 A JP10775484 A JP 10775484A JP S60250331 A JPS60250331 A JP S60250331A
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- JP
- Japan
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- substrate
- liquid crystal
- rubbing
- film forming
- oriented film
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133351—Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は液晶素子の製造方法に関し、ざらに詳しくは曲
面形状の液晶素子において、液晶の分子軸の配向を均一
なものとするラビング処理工程に特徴を有する製造方法
に関する。
面形状の液晶素子において、液晶の分子軸の配向を均一
なものとするラビング処理工程に特徴を有する製造方法
に関する。
本発明の方法によって製造した液晶素子は、ドアミラー
、フェンダミラー、ムーンルーフ等における光透過率可
変部材、その他曲面形状の液晶表示板として利用するこ
とができる。
、フェンダミラー、ムーンルーフ等における光透過率可
変部材、その他曲面形状の液晶表示板として利用するこ
とができる。
[従来の技術]
近年、曲面形状の液晶素子が望まれている。例えば、反
射鏡部が凸面鏡等の曲面形状である液晶防眩反射鏡の光
透過率可変部材として用いるためである。ここに液晶防
眩反1j鏡とは、反射鎖部前方(光源に近い側をいう)
に光透過率可変部材としての液晶素子を配置し、該液晶
素子の可視光透過率を制御することにより該防眩反射鏡
の反射率を制御するものである。
射鏡部が凸面鏡等の曲面形状である液晶防眩反射鏡の光
透過率可変部材として用いるためである。ここに液晶防
眩反1j鏡とは、反射鎖部前方(光源に近い側をいう)
に光透過率可変部材としての液晶素子を配置し、該液晶
素子の可視光透過率を制御することにより該防眩反射鏡
の反射率を制御するものである。
上記曲面形状の液晶防眩反射鏡において、もし前記光透
過帯可変部材として平面形状の液晶素子を用いると、非
防眩時における反射は、前記反射鏡部(凸面鏡等の曲面
形状)で生じ、防眩時においては、前記平面形状の液晶
素子の前方側基板(平面鏡)で生ずるという不都合も発
生し得る。
過帯可変部材として平面形状の液晶素子を用いると、非
防眩時における反射は、前記反射鏡部(凸面鏡等の曲面
形状)で生じ、防眩時においては、前記平面形状の液晶
素子の前方側基板(平面鏡)で生ずるという不都合も発
生し得る。
従って前記光透過帯可変部材としては、前記反射。
鎖部の曲率に合致する曲率を有し、該反射鏡部と一体的
に構成され得る液晶素子が望ましい。
に構成され得る液晶素子が望ましい。
しかし、従来曲面形状の液晶素子は、あまり製造されて
いない。その理由の1つは、曲面形状の基板端面上に形
成された配向膜上に信頼性の高いラビング処理(液晶の
分子軸を特定方向に配向させるための処理)を施すこと
が困難であるということにめられる。
いない。その理由の1つは、曲面形状の基板端面上に形
成された配向膜上に信頼性の高いラビング処理(液晶の
分子軸を特定方向に配向させるための処理)を施すこと
が困難であるということにめられる。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明は上記事情に鑑み案出されたものであり、曲面形
状の液晶素子を提供するべく、液晶素子製造工程におけ
るラビング工程の信頼性を高めんとするものである。
状の液晶素子を提供するべく、液晶素子製造工程におけ
るラビング工程の信頼性を高めんとするものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明はラビング工程に特徴を有し、とりわけ該ラビン
グ工程において用いるラビングロールの形状に特徴を有
するものである。
グ工程において用いるラビングロールの形状に特徴を有
するものである。
第1図は本発明のラビング工程において用いるラビング
ロール1及び該ラビングロール1によってラビングされ
る基板2の形状の一例を示す斜視図である。
ロール1及び該ラビングロール1によってラビングされ
る基板2の形状の一例を示す斜視図である。
即ち、本発明は、一対の基板の各一端面上に所定パター
ンの電極をそれぞれ形成し、該各一端面上の少なくとも
該電極上に配向膜20を形成し、該配向膜20にラビン
グ処理を施し、その後前記一対の基板の配向膜形成面を
相対向させ、該一対の基板間に液晶を封入して液晶素子
を得る液晶素子の製造方法において、 前記ラビング処理は、ラビングロール1の回転軸を含む
断面における該ラビングロール1の回転接触面形状が、
該ラビングロール1の進行方向A及び前記基板の配向膜
形成面に垂直な方向の断面における該配向膜形成面形状
と合致するラビングロール1を用い、 該ラビングロール1を、その回転接触面が前記基板の配
向膜形成面と接触するようにして回転させつつ、かつ該
配向膜形成面上を移動させて行なうことを特徴とする製
造方法である。
ンの電極をそれぞれ形成し、該各一端面上の少なくとも
該電極上に配向膜20を形成し、該配向膜20にラビン
グ処理を施し、その後前記一対の基板の配向膜形成面を
相対向させ、該一対の基板間に液晶を封入して液晶素子
を得る液晶素子の製造方法において、 前記ラビング処理は、ラビングロール1の回転軸を含む
断面における該ラビングロール1の回転接触面形状が、
該ラビングロール1の進行方向A及び前記基板の配向膜
形成面に垂直な方向の断面における該配向膜形成面形状
と合致するラビングロール1を用い、 該ラビングロール1を、その回転接触面が前記基板の配
向膜形成面と接触するようにして回転させつつ、かつ該
配向膜形成面上を移動させて行なうことを特徴とする製
造方法である。
基板2は液晶素子の用途に応じた曲面形状をなし、その
材質としては、一般にガラス、プラスデック等の透光体
が用いられる。電極は液晶に電界を印加する端子であり
、液晶素子の用途に応じたパターンで、各基板内端面上
に形成(もし液晶素子を防眩ミラーの光透過帯可変部材
として用いる場合は、基板内端面全面に形成)する。電
極は一般にI T’ O、酸化錫、酸化インジウム等の
璋明材判のスパッタリング、あるいは電子ビーム蒸着に
よって形成する。なお液晶素子をミラーに用いる場合は
、一方の基板の電極はアルミニウム、ニッケル、銀、ク
ロム等を蒸着し、該電極を反射鏡部として兼用してもよ
い。配向膜20は基板間に封入する液晶の分子軸を特定
方向に配向させるものであり、ポリイミド、ポリアミド
、3iQz、等を用い、厚さ500〜2000人として
前記基板の前記電極を形成した側の面に形成する。配向
膜20は例えばポリイミド溶液を前記端面上にオフセッ
ト印刷し、あるいはポリイミド溶液に該端面を浸しくデ
ィッピング)、あるいはポリイミド溶液を該端面上の中
心部にたらし、該中心部を中心として基板を回転させて
(スピンナー)形成する。
材質としては、一般にガラス、プラスデック等の透光体
が用いられる。電極は液晶に電界を印加する端子であり
、液晶素子の用途に応じたパターンで、各基板内端面上
に形成(もし液晶素子を防眩ミラーの光透過帯可変部材
として用いる場合は、基板内端面全面に形成)する。電
極は一般にI T’ O、酸化錫、酸化インジウム等の
璋明材判のスパッタリング、あるいは電子ビーム蒸着に
よって形成する。なお液晶素子をミラーに用いる場合は
、一方の基板の電極はアルミニウム、ニッケル、銀、ク
ロム等を蒸着し、該電極を反射鏡部として兼用してもよ
い。配向膜20は基板間に封入する液晶の分子軸を特定
方向に配向させるものであり、ポリイミド、ポリアミド
、3iQz、等を用い、厚さ500〜2000人として
前記基板の前記電極を形成した側の面に形成する。配向
膜20は例えばポリイミド溶液を前記端面上にオフセッ
ト印刷し、あるいはポリイミド溶液に該端面を浸しくデ
ィッピング)、あるいはポリイミド溶液を該端面上の中
心部にたらし、該中心部を中心として基板を回転させて
(スピンナー)形成する。
ラビング処理は液晶分子軸に配向の方向を与えるもので
あり、該ラビング処理を施すことにより、液晶の分子軸
は前記基板と平行に配向する。本発明では第1図に示す
ように配向膜形成面と合致する形状の回転接触面10を
有するラビングロール1を用いてラビング処理を施す。
あり、該ラビング処理を施すことにより、液晶の分子軸
は前記基板と平行に配向する。本発明では第1図に示す
ように配向膜形成面と合致する形状の回転接触面10を
有するラビングロール1を用いてラビング処理を施す。
即ち、ラビングロール1を逆回転(矢印B方向)させつ
つ、図の矢印Aの方向へ進行させる。ラビングロール1
の回転速度、進行速度及びラビング回数は、所望の液晶
素子に要求される配向の強さによって定まる。
つ、図の矢印Aの方向へ進行させる。ラビングロール1
の回転速度、進行速度及びラビング回数は、所望の液晶
素子に要求される配向の強さによって定まる。
一般には回転速度200〜1000jGil/m i
n1進行速度1〜100CIIl/5eC1ラビング回
数1〜20回程度である。
n1進行速度1〜100CIIl/5eC1ラビング回
数1〜20回程度である。
このようにしてラビング処理を施した一対の基板を相対
向させて配置し、該基板間に液晶を封入し液晶素子を得
る。なお、基板間間隔(一般に8μ〜100μ)を一定
に保持するために、基板間には球状、又は柱状のグラス
ファイバー、ガラスピーズ、アルミナ粉末等のスペーサ
を設ける。該スペーサの粒径としては、前記基板間間隔
に応じたものを用い、圧縮空気で前記基板に吹きつけた
り、あるいはエタノール等の溶媒に分散させ、スピンナ
で塗布またはスプレーにより塗布して形成する。
向させて配置し、該基板間に液晶を封入し液晶素子を得
る。なお、基板間間隔(一般に8μ〜100μ)を一定
に保持するために、基板間には球状、又は柱状のグラス
ファイバー、ガラスピーズ、アルミナ粉末等のスペーサ
を設ける。該スペーサの粒径としては、前記基板間間隔
に応じたものを用い、圧縮空気で前記基板に吹きつけた
り、あるいはエタノール等の溶媒に分散させ、スピンナ
で塗布またはスプレーにより塗布して形成する。
[作用]
本発明の製造方法におけるラビング工程では、ラビング
ロール1の回転接触面と、基板2の配向膜形成面どが全
面に渡って均一に接触する。従って配向膜に均一に方向
性を与えることができる。
ロール1の回転接触面と、基板2の配向膜形成面どが全
面に渡って均一に接触する。従って配向膜に均一に方向
性を与えることができる。
ラビングロール1の回転軸を含む断面における該ラビン
グロール1の回転接触面形状と、該ラビングロールの進
行方向及び前記基板の配向膜形成面に垂直な断面におけ
る該配向膜形成面形状とが合致するからである。
グロール1の回転接触面形状と、該ラビングロールの進
行方向及び前記基板の配向膜形成面に垂直な断面におけ
る該配向膜形成面形状とが合致するからである。
[実施例]
以下本発明を具体的実施例に基づき説朗する。
第1実施例
第2図及び第3図は本第1実施例によって製造する液晶
素子の第1基板(光源に近い入射側の基板)の内端面へ
のラビング処理の説明図であり、第4図及び第5図は第
2基板(光源から遠い後方側の基板)の内端面へのラビ
ング処理の説明図である。ここに、第2図及び第4図は
、ラビングロール11.12のそれぞれの回転軸101
の方向からラビングロール11.12及び基板21.2
2をそれぞれ見た図であり、第3図及び第5図はラビン
グロール11.12のそれぞれの進行方向から該ラビン
グロール11.12及び基板21.22を見た図である
。
素子の第1基板(光源に近い入射側の基板)の内端面へ
のラビング処理の説明図であり、第4図及び第5図は第
2基板(光源から遠い後方側の基板)の内端面へのラビ
ング処理の説明図である。ここに、第2図及び第4図は
、ラビングロール11.12のそれぞれの回転軸101
の方向からラビングロール11.12及び基板21.2
2をそれぞれ見た図であり、第3図及び第5図はラビン
グロール11.12のそれぞれの進行方向から該ラビン
グロール11.12及び基板21.22を見た図である
。
本実施例は、凸面鏡の光透通帯可変部材としての液晶素
子を製造する場合であり、従って第3図及び第5図に示
す基板21.22の曲率は等しい。
子を製造する場合であり、従って第3図及び第5図に示
す基板21.22の曲率は等しい。
以下の手順により本発明を実施した。
(1)電極形成
第1基板21の内端面210及び第2基板22の内端面
220にそれぞれ透明電極をITOを用いスパッタリン
グによって250人の厚さに形成し lこ 。
220にそれぞれ透明電極をITOを用いスパッタリン
グによって250人の厚さに形成し lこ 。
(2)配向膜形成
前記電極を形成したそれぞれの内端面2101220に
それぞれポリイミドの配向膜を印刷によって厚さ800
人に形成した。
それぞれポリイミドの配向膜を印刷によって厚さ800
人に形成した。
(3)ラビング処理
(第1基板) ′
第2図、第3図に示すように中央部が脹れた略楕円体形
状のラビングロール11を用いて第1基板21の内端面
210に形成された配向膜にラビング処理を施した。こ
こにラビングロール11の回転接触面の軸方向の曲率と
第1基板21の同方向の曲率とは、前記回転接触面と前
記配向膜形成面とが均一に接触し得る曲率である。尚ラ
ビングは、ラビングロール11の回転速度500回/m
in 、進行速度10 c+n/ sec 1ラビング
回数10で行なった。
状のラビングロール11を用いて第1基板21の内端面
210に形成された配向膜にラビング処理を施した。こ
こにラビングロール11の回転接触面の軸方向の曲率と
第1基板21の同方向の曲率とは、前記回転接触面と前
記配向膜形成面とが均一に接触し得る曲率である。尚ラ
ビングは、ラビングロール11の回転速度500回/m
in 、進行速度10 c+n/ sec 1ラビング
回数10で行なった。
く第2基板)
第4図第5図に示づように中央部がくびれだラビングロ
ール12を用いて、第2基板22の内端面220に形成
された配向膜に、第1基板と同様にしてラビング処理を
施した。ラビングロール12の回転接触面の軸方向の曲
率と第2基板22の同方向の曲率との関係は、第1基板
の場合と同様である。
ール12を用いて、第2基板22の内端面220に形成
された配向膜に、第1基板と同様にしてラビング処理を
施した。ラビングロール12の回転接触面の軸方向の曲
率と第2基板22の同方向の曲率との関係は、第1基板
の場合と同様である。
〈4)液晶封入
まず、エタノールに分散した直径14μの球状ガラスピ
ーズをスピンナで基板内端面に塗布し、スペーサを形成
し、その後第1基板の内端面の周囲にシール部材(エポ
キシ樹脂)をスクリーン印刷し、第1基板と第2基板と
を内端面を相対向させて重ね、前記シール部材を焼付け
て接着した。
ーズをスピンナで基板内端面に塗布し、スペーサを形成
し、その後第1基板の内端面の周囲にシール部材(エポ
キシ樹脂)をスクリーン印刷し、第1基板と第2基板と
を内端面を相対向させて重ね、前記シール部材を焼付け
て接着した。
尚シール部材には1か新注入口を設置ノた。次に第1基
板と第2基板とシール部材とで形成される空間を真空に
保ち、前記注入口より液晶を注入させた。液晶としては
メルク社ZL[−1841を用いた。その後前記注入口
をシールし、液晶素子を得た。
板と第2基板とシール部材とで形成される空間を真空に
保ち、前記注入口より液晶を注入させた。液晶としては
メルク社ZL[−1841を用いた。その後前記注入口
をシールし、液晶素子を得た。
第2実施例
第2実施例は、基板がラビングロールの軸方向ばかりで
な(進行方向にも曲面を成す場合である。
な(進行方向にも曲面を成す場合である。
第6図及び第7図は、第2実施例によって製造する液晶
素子の第1基板(光源に近い側の基板)の内端部へのう
どング処理の説明図であり、第8図、第9図は第2基板
(光源から遠い側)の内端部へのラビング処理の説明図
である。第6図、第8図は前記第1実施例の第2図、第
4図に、又第7図、第9図は第3図、第5図にそれぞれ
対応する。
素子の第1基板(光源に近い側の基板)の内端部へのう
どング処理の説明図であり、第8図、第9図は第2基板
(光源から遠い側)の内端部へのラビング処理の説明図
である。第6図、第8図は前記第1実施例の第2図、第
4図に、又第7図、第9図は第3図、第5図にそれぞれ
対応する。
第6図〜第9図かられかるように本第2実施例はラビン
グロールの軸方向に凸面形状であり進行方向には回向形
状である鏡の光透通学可変部材どしての液晶素子を製造
する場合であり、第1基板24と第2基板25どの曲率
は等しい。
グロールの軸方向に凸面形状であり進行方向には回向形
状である鏡の光透通学可変部材どしての液晶素子を製造
する場合であり、第1基板24と第2基板25どの曲率
は等しい。
本第2実施例ではラビング処理に際し、第6図〜第9図
に示づ”にうに、ラビングロールの進行方向における基
板24.25の曲率に合致する曲率を有するガイド31
.32を用い、該ガイド31.32によってラビング【
コール14.15の軸101を支持してラビング処理を
行なった。
に示づ”にうに、ラビングロールの進行方向における基
板24.25の曲率に合致する曲率を有するガイド31
.32を用い、該ガイド31.32によってラビング【
コール14.15の軸101を支持してラビング処理を
行なった。
したがって配向膜にはラビングロールの軸方向ばかりで
なく進行方向にも均一なラビング処理を施ブことができ
た。
なく進行方向にも均一なラビング処理を施ブことができ
た。
なお、ラビング処理以外の工程は前記第1実施例と同様
であるため、説明は省略する。
であるため、説明は省略する。
[発明の効果]
以上数するに本発明は、液晶素子の製造方法にお(プる
ラビング工程において、形状に特徴のあるラビングロー
ルを使用するものである。
ラビング工程において、形状に特徴のあるラビングロー
ルを使用するものである。
上述したように本発明においては、うどングロールとし
てその回転接触面が基板の配向膜形成面の形状と合致す
るものを用いている。従ってラビング処理を均一に行な
うことができ、配向方向のそろった曲面液晶素子を得る
ことができる。該曲面液晶素子は、たとえば凸面鏡の光
透通学可変部材として有用である。
てその回転接触面が基板の配向膜形成面の形状と合致す
るものを用いている。従ってラビング処理を均一に行な
うことができ、配向方向のそろった曲面液晶素子を得る
ことができる。該曲面液晶素子は、たとえば凸面鏡の光
透通学可変部材として有用である。
第1図は本発明のラビング工程を説明する斜視図である
。第2図及び第3図は本発明の第1実施例における第1
基板へのラビング工程の説明図であり、第2図はラビン
グミールの回転軸方向から見た図、第3図はラビングロ
ールの進行方向から見た図である。第4図及び第5図は
本発明の第1実施例にお【プる第2暴板へのラビング工
程の説明図であり、第4図はラビングロールの回転軸方
向から見た図、第5図はラビングロールの進行方向から
児た図である。第6図、第7図は第2実施例における第
1基板へのラビング工程の説明図であり、第8図、第9
図は第2基板へのラビング]二程の説明図である。第6
図、第8図はラビングロールの回転軸方向から見た図で
あり、第7図、第9図は進行方向から見た図である。 1・・・ラビングロール 2・・・基板31.32・・
・ガイド 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図
。第2図及び第3図は本発明の第1実施例における第1
基板へのラビング工程の説明図であり、第2図はラビン
グミールの回転軸方向から見た図、第3図はラビングロ
ールの進行方向から見た図である。第4図及び第5図は
本発明の第1実施例にお【プる第2暴板へのラビング工
程の説明図であり、第4図はラビングロールの回転軸方
向から見た図、第5図はラビングロールの進行方向から
児た図である。第6図、第7図は第2実施例における第
1基板へのラビング工程の説明図であり、第8図、第9
図は第2基板へのラビング]二程の説明図である。第6
図、第8図はラビングロールの回転軸方向から見た図で
あり、第7図、第9図は進行方向から見た図である。 1・・・ラビングロール 2・・・基板31.32・・
・ガイド 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一対の基板の各一端面上に所定パターンの電極をそれぞ
れ形成し、該各一端面上の少なくとも該電極上に配向膜
を形成し、該配向膜にラビング処理を施し、その後前記
一対の基板の配向膜形成面を相対向させ、該一対の基板
間に液晶を封入して液晶素子を得る液晶素子の製造方法
において、前記ラビング処理は、ラビングロールの回転
軸を含む断面における該ラビングロールの回転接触面形
状が、該ラビングロールの進行方向及び前記基板の配向
膜形成面に垂直な方向の断面における該配向膜形成面形
状と合致するラビングロールを用い、 該ラビングロールを、その回転接触面が前記基板の配向
膜形成面と接触するようにして回転させつつ、かつ該配
向膜形成面上を移動させて行なうことを特徴とする製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10775484A JPS60250331A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 液晶素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10775484A JPS60250331A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 液晶素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60250331A true JPS60250331A (ja) | 1985-12-11 |
JPH0560087B2 JPH0560087B2 (ja) | 1993-09-01 |
Family
ID=14467127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10775484A Granted JPS60250331A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 液晶素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60250331A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107632432A (zh) * | 2017-09-16 | 2018-01-26 | 合肥惠科金扬科技有限公司 | 一种液晶模组弯曲装置的支撑机构的制造工艺 |
CN107894680A (zh) * | 2017-12-19 | 2018-04-10 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种配向膜涂布方法及装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS58215629A (ja) * | 1982-06-09 | 1983-12-15 | Canon Inc | 電気光学素子の製造法及びその装置 |
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1984
- 1984-05-28 JP JP10775484A patent/JPS60250331A/ja active Granted
Patent Citations (1)
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JPS58215629A (ja) * | 1982-06-09 | 1983-12-15 | Canon Inc | 電気光学素子の製造法及びその装置 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH0560087B2 (ja) | 1993-09-01 |
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