JPS6021582A - レ−ザ温調装置 - Google Patents
レ−ザ温調装置Info
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- JPS6021582A JPS6021582A JP58128770A JP12877083A JPS6021582A JP S6021582 A JPS6021582 A JP S6021582A JP 58128770 A JP58128770 A JP 58128770A JP 12877083 A JP12877083 A JP 12877083A JP S6021582 A JPS6021582 A JP S6021582A
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- laser
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ管を有するレーザ装置、特に外部鐘形レ
ーザ装置に関するものである。
ーザ装置に関するものである。
今日、レーザ管を有するレーザ装置は計測器、分析器、
通信機、画像記録装置、画像読取装置、ホログラフィ−
１溶接装置、レーザメス等の医療装置、核融合等の様々
な分野で使用されていることは周知の通りである。
通信機、画像記録装置、画像読取装置、ホログラフィ−
１溶接装置、レーザメス等の医療装置、核融合等の様々
な分野で使用されていることは周知の通りである。
レーザ装置の一つとして気体レーザ装置があり、この気
体レーザ装置のうちでも、レーザ管とは独立した、Ｖ−
ザ光を発振せしめるための一対の外部鏡が柱状のレーザ
管の軸方向に設けられた外部鐘形レーザ装置が知られて
いる。
体レーザ装置のうちでも、レーザ管とは独立した、Ｖ−
ザ光を発振せしめるための一対の外部鏡が柱状のレーザ
管の軸方向に設けられた外部鐘形レーザ装置が知られて
いる。
この外部鐘形レーザ装置においては、レーザ光を発する
レーザ管を保持するマウントと外部鏡とは同一の基板上
に設置されている。
レーザ管を保持するマウントと外部鏡とは同一の基板上
に設置されている。
このように構成されているレーザ装置において、レーザ
光を発するためにレーザ管に電圧が印加されると、レー
ザ管の中央部付近からは多大な熱が発せられる。このレ
ーザ管から発せられた熱はレーザ管のマウントを介して
基板に伝達することにより、あるいは熱対流、熱輻射に
より熱がレーザ管の周辺部の基板に伝達するが、レーザ
管の中央部が最も多（熱を発するので、基板の中央部即
ちレーザ管の中央部が位置する部分と、基板の周辺部即
ち外部鏡が設置される部分においては温度差が生じる。
光を発するためにレーザ管に電圧が印加されると、レー
ザ管の中央部付近からは多大な熱が発せられる。このレ
ーザ管から発せられた熱はレーザ管のマウントを介して
基板に伝達することにより、あるいは熱対流、熱輻射に
より熱がレーザ管の周辺部の基板に伝達するが、レーザ
管の中央部が最も多（熱を発するので、基板の中央部即
ちレーザ管の中央部が位置する部分と、基板の周辺部即
ち外部鏡が設置される部分においては温度差が生じる。
この場合、レーザ管の中央部を保持するマウントが最も
高温で、レーザ管の端部な保持するマウントが最も低温
となり、基板の上記中央部を保持するマウントに接する
部分が高温で上記端部な保持するマウントに接する部分
が低温となる温度勾配が基板に生じる。このように基板
に温度勾配が生じると、基板の熱膨張の違いから外部鏡
がレーザ管の軸方向から位置ずれを起こし、レーザ装置
から発生されるレーザ光の強度が低下したり、最悪の場
合にはレーザ発振が行なわれなくなるという問題が発生
する。従って、このような問題を解消するために、従来
から例えば月に一回定期的に外部鏡の位置を調整するこ
とが行なわれている。しかしながら、このような外部鏡
の位置補正は極めて面倒であるとともに、このような位
置補正を行なっても、レーザ装置使用時に基板の温度勾
配による外部鏡の位置ずれが発生することを防止しうる
ものでないことは明らかである。
高温で、レーザ管の端部な保持するマウントが最も低温
となり、基板の上記中央部を保持するマウントに接する
部分が高温で上記端部な保持するマウントに接する部分
が低温となる温度勾配が基板に生じる。このように基板
に温度勾配が生じると、基板の熱膨張の違いから外部鏡
がレーザ管の軸方向から位置ずれを起こし、レーザ装置
から発生されるレーザ光の強度が低下したり、最悪の場
合にはレーザ発振が行なわれなくなるという問題が発生
する。従って、このような問題を解消するために、従来
から例えば月に一回定期的に外部鏡の位置を調整するこ
とが行なわれている。しかしながら、このような外部鏡
の位置補正は極めて面倒であるとともに、このような位
置補正を行なっても、レーザ装置使用時に基板の温度勾
配による外部鏡の位置ずれが発生することを防止しうる
ものでないことは明らかである。
従って、本発明の目的は、外部鏡影レーザ装置において
、使用時において発生する基板の不均一な温度上昇によ
って発生する外部鏡の位置ずれが生じることを防止しう
るレーザ温調装置を提供することにある。
、使用時において発生する基板の不均一な温度上昇によ
って発生する外部鏡の位置ずれが生じることを防止しう
るレーザ温調装置を提供することにある。
本発明のレーザ温調装置は、レーザ管を収Ｓするケース
内において、基板上に複数のマウントによってレーザ管
を保持して設置し、この各マウント、マウント近傍の基
板上もしくはレーザ管に温度センサを取り伺げて、取り
付けられた部分の温度を検出するとともに、この温度セ
ンサによって温度を検出される各部分またはその近傍を
通る空気流を作り出すようにケースに複数の通風手段を
設け、温度センサの出力に応じて通風手段を適宜作動さ
せて各部分の温度を一定レベルに維持するようにしたこ
とを特徴とするものである。
内において、基板上に複数のマウントによってレーザ管
を保持して設置し、この各マウント、マウント近傍の基
板上もしくはレーザ管に温度センサを取り伺げて、取り
付けられた部分の温度を検出するとともに、この温度セ
ンサによって温度を検出される各部分またはその近傍を
通る空気流を作り出すようにケースに複数の通風手段を
設け、温度センサの出力に応じて通風手段を適宜作動さ
せて各部分の温度を一定レベルに維持するようにしたこ
とを特徴とするものである。
本発明によれば、レーザ装置使用時において、レーザ管
の発熱が中央部で太き（、両端で小さくなることによっ
て、このレーザ管を保持するマウントおよびマウントが
取り付けられる基板の温度がレーザ管の保持位置に対応
して異なるのを防止することができる。すなわち、Ｖ−
ザ管、マウントもしくはマウント近傍の基板上に取り付
けられた複数の温度センサにより各部分の温度を検出し
、いずれかの部分の温度が所定値を起えた時にはこの部
分に対応する通風手段を作動させて、この部分を通る空
気流を作り出したり、この空気流を増大させたりするこ
とによって温度を所定値以下に抑え、各部分の温度を所
定レベルに保持することができる。このため、レーザ装
置使用時には、常に基板上の温度勾配を一定に保つこと
ができ、基板の熱膨張の相違による変形を防止し、レー
ザ管の軸方向の位置ずれを抑えることができる。また基
板上の温度勾配が一定になるまでの時間を短縮すること
ができる。
の発熱が中央部で太き（、両端で小さくなることによっ
て、このレーザ管を保持するマウントおよびマウントが
取り付けられる基板の温度がレーザ管の保持位置に対応
して異なるのを防止することができる。すなわち、Ｖ−
ザ管、マウントもしくはマウント近傍の基板上に取り付
けられた複数の温度センサにより各部分の温度を検出し
、いずれかの部分の温度が所定値を起えた時にはこの部
分に対応する通風手段を作動させて、この部分を通る空
気流を作り出したり、この空気流を増大させたりするこ
とによって温度を所定値以下に抑え、各部分の温度を所
定レベルに保持することができる。このため、レーザ装
置使用時には、常に基板上の温度勾配を一定に保つこと
ができ、基板の熱膨張の相違による変形を防止し、レー
ザ管の軸方向の位置ずれを抑えることができる。また基
板上の温度勾配が一定になるまでの時間を短縮すること
ができる。
以下、本発明のレーザ温調装置を好ましい１実施例に基
づいて詳細に説明する。
づいて詳細に説明する。
第１図は、本発明のレーザ温調装置の好ましい１実施例
を示す斜視図、第２図はこのレーザ温調装置の平面図で
あり、両図を併用して説明する。
を示す斜視図、第２図はこのレーザ温調装置の平面図で
あり、両図を併用して説明する。
レーザ管１は３個のマウント２ａ、２ｂ。
２ｃにより保持されて基板３上に設置されている。レー
ザ管１の軸方向でレーザ管１の両端より少し離れて１対
のレーザ発振を行なうための外部鏡４ａ、４ｂも基板３
上に設置されている。レーザ管１と外部鏡４ａ、４ｂｉ
’！、、これらが設置される基板３とともにケース５内
に収容されている。このケース５の側壁にはケース５内
に空気を流入するための空気流入口６がこの空気流入口
６より流入した空気がレーザ管１の中央部にあたる位置
に設けられる。他方、ケース５の空気流入口６が設けら
れたのと反対側の側壁には空気流入口６から流入した空
気がレーザ管１のマウン） ２ ａ。
ザ管１の軸方向でレーザ管１の両端より少し離れて１対
のレーザ発振を行なうための外部鏡４ａ、４ｂも基板３
上に設置されている。レーザ管１と外部鏡４ａ、４ｂｉ
’！、、これらが設置される基板３とともにケース５内
に収容されている。このケース５の側壁にはケース５内
に空気を流入するための空気流入口６がこの空気流入口
６より流入した空気がレーザ管１の中央部にあたる位置
に設けられる。他方、ケース５の空気流入口６が設けら
れたのと反対側の側壁には空気流入口６から流入した空
気がレーザ管１のマウン） ２ ａ。
２ｂ、２ｃを通過して空気が流出するように、すなわち
第２図において矢印Ａ、 、 Ｂ 、 Ｃで示すように
空気が流れるように３個所に空気流出ロアａ、７ｂ、７
ｃが設けられているとともに、この３つの空気流出ロア
ａ、７ｂ、７ｃには空気流を作り出すためのファン８
ａ、 ８ ｂ。
第２図において矢印Ａ、 、 Ｂ 、 Ｃで示すように
空気が流れるように３個所に空気流出ロアａ、７ｂ、７
ｃが設けられているとともに、この３つの空気流出ロア
ａ、７ｂ、７ｃには空気流を作り出すためのファン８
ａ、 ８ ｂ。
８ｃが設けられている。また、レーザ管１を保持する３
個のマウント２ａ、２ｂ、２ｃにはそれぞれマウントの
温度を検出する温度センサとしてサーミスタ］Ｏａ、１
０ｂ、１０ｃ が取り付けられていて、このサーミスタ
１０ａ。
個のマウント２ａ、２ｂ、２ｃにはそれぞれマウントの
温度を検出する温度センサとしてサーミスタ］Ｏａ、１
０ｂ、１０ｃ が取り付けられていて、このサーミスタ
１０ａ。
１０ｂ、１０ｃの出力がケース５の外方に置かれた制御
回路１３に入力ライン１２ａ、１２ｂ。
回路１３に入力ライン１２ａ、１２ｂ。
１２ｃを介して入力されるようになっている。
一方、制御回路１３は上記ファン８ａ、８１〕。
８ｃと出力ライン１１ ａ 、 １．１ ｂ 、 １
］ ｃにより接続していてファン８ａ、８ｂ、８ｃ駆動
用の信号が出力されるようになっている。
］ ｃにより接続していてファン８ａ、８ｂ、８ｃ駆動
用の信号が出力されるようになっている。
このように構成されたンーザ装置において、レーザ光を
発するためにレーザ管１に電圧を印加せしめ、レーザ光
９を生ぜしめると、レーザ管１の中央部が最も高温にな
り、レーザ管１の両端部は中央部に比して低い温度でレ
ーザ管１の温度が上昇し始める。このため、レーザ管１
のほぼ中央部を保持するマウント２ｂが最も高温になり
、両端近くを保持するマウント２ａ 、２ｃはマウント
２ｂより低温になる。さらに、マウント２ ａ 、 ２
１） 、 ２ ｃを介してＶ−ザ管１から発生した熱が
伝導して、基板３も中央のマウン）２ｂ近傍が最も高温
となる。このまま、レーザ管１の発振を続けると７−ザ
管１の中央部と両端の温度差を生じたまま全体に温度が
上昇し、基板３も中央部と両端部で温度差が生じたまま
温度上昇し、このため熱膨張の差によって基板３が変形
し、外部鏡４ａ、４ｂに位置ずれが発生する恐れがある
。
発するためにレーザ管１に電圧を印加せしめ、レーザ光
９を生ぜしめると、レーザ管１の中央部が最も高温にな
り、レーザ管１の両端部は中央部に比して低い温度でレ
ーザ管１の温度が上昇し始める。このため、レーザ管１
のほぼ中央部を保持するマウント２ｂが最も高温になり
、両端近くを保持するマウント２ａ 、２ｃはマウント
２ｂより低温になる。さらに、マウント２ ａ 、 ２
１） 、 ２ ｃを介してＶ−ザ管１から発生した熱が
伝導して、基板３も中央のマウン）２ｂ近傍が最も高温
となる。このまま、レーザ管１の発振を続けると７−ザ
管１の中央部と両端の温度差を生じたまま全体に温度が
上昇し、基板３も中央部と両端部で温度差が生じたまま
温度上昇し、このため熱膨張の差によって基板３が変形
し、外部鏡４ａ、４ｂに位置ずれが発生する恐れがある
。
しかしながら、本実施例においてはサーミスタ１０ａ、
１０ｂ、１０ｃにより各マウント２ａ。
１０ｂ、１０ｃにより各マウント２ａ。
２ｂ、２ｃの温度を検出し、各マウントの温度が所定値
を超えた時には、それに対応するファンを回転させてこ
の温度が高くなったマウントを冷却し、各マウントの温
度差を小さくする。このことにより、マウント２ａ 、
２ｂ 。
を超えた時には、それに対応するファンを回転させてこ
の温度が高くなったマウントを冷却し、各マウントの温
度差を小さくする。このことにより、マウント２ａ 、
２ｂ 。
２Ｃを介してレーザ管１の熱が伝わる基板３上の温度勾
配も一定になり基板３の変形が抑えられる。具体的には
、中央部のマウン）２ｂが最も高温になり易いのである
が、このマウン）２ｂの温度が上昇して所定値以上にな
った時、ファン８ｂを回転させて、空気流入口６からマ
ウント２ｂのまわりを通り空気流出ロアｂに至る第２図
において矢印Ｂで示す空気流を作り出し、マウン）２ｂ
が過熱するのを防ぐ。
配も一定になり基板３の変形が抑えられる。具体的には
、中央部のマウン）２ｂが最も高温になり易いのである
が、このマウン）２ｂの温度が上昇して所定値以上にな
った時、ファン８ｂを回転させて、空気流入口６からマ
ウント２ｂのまわりを通り空気流出ロアｂに至る第２図
において矢印Ｂで示す空気流を作り出し、マウン）２ｂ
が過熱するのを防ぐ。
このようにして、基板３および各マウントの温度分布を
均一にするのであるが、サーミスタ１０ａ、１０ｂ、ｌ
ｏｃの検出温度が所定値を超えた時にファン８ａ、８ｂ
、８ｃを駆動させるための回路図の１例を第３図に示し
、これについて説明する。この回路図は１個のサーミス
タとこのサーミスタに対応する１個のファンの駆動の系
（例えば、サーミスタ１０’ａとファン８ａ）を示し、
第１図に示した例の場合には、このような系が３個必要
となる。
均一にするのであるが、サーミスタ１０ａ、１０ｂ、ｌ
ｏｃの検出温度が所定値を超えた時にファン８ａ、８ｂ
、８ｃを駆動させるための回路図の１例を第３図に示し
、これについて説明する。この回路図は１個のサーミス
タとこのサーミスタに対応する１個のファンの駆動の系
（例えば、サーミスタ１０’ａとファン８ａ）を示し、
第１図に示した例の場合には、このような系が３個必要
となる。
３個の固定抵抗２０ｂ、２０ｃ、２０ｄと１個のサーミ
スタ２０ａからなるブリッジ回路２０の向かい合う２つ
の端子に電源２１の定電圧が加えられ、他の向かい合う
２つの端子はライン２２ａ、２２ｂを介して差動アンプ
２２に接続している。ここで、サーミスタ２０ａが検出
する温度が所定値（例えば４２°０）の時に、ライン２
２ａの電位とライン２２ｂの電位とが等しくなるように
固定抵抗２０ｂ。
スタ２０ａからなるブリッジ回路２０の向かい合う２つ
の端子に電源２１の定電圧が加えられ、他の向かい合う
２つの端子はライン２２ａ、２２ｂを介して差動アンプ
２２に接続している。ここで、サーミスタ２０ａが検出
する温度が所定値（例えば４２°０）の時に、ライン２
２ａの電位とライン２２ｂの電位とが等しくなるように
固定抵抗２０ｂ。
２０ｃ、２０ｄの抵抗値が設定されている。このため、
サーミスタ２０ａの検出温度が所定値より低い時はサー
ミスタ２０ａの抵抗値は増大して○側に入力されるライ
ン２２ａの電位は高くなり差動アンプ２２の出力は負の
値となり、一方、サーミスタ２０ａの検出温度が所定値
より高い時はサーミスタ２０ａの抵抗値は減少し、ライ
ン２２ａの電位は低くなるので差動アンプ２２の出力は
正の値となる。
サーミスタ２０ａの検出温度が所定値より低い時はサー
ミスタ２０ａの抵抗値は増大して○側に入力されるライ
ン２２ａの電位は高くなり差動アンプ２２の出力は負の
値となり、一方、サーミスタ２０ａの検出温度が所定値
より高い時はサーミスタ２０ａの抵抗値は減少し、ライ
ン２２ａの電位は低くなるので差動アンプ２２の出力は
正の値となる。
この場合、サーミスタ２０ａの抵抗値は温度の上昇とと
もに減少するため、差動アンプ２２の出力はサーミスタ
２０ａの温度が所定値以下で負、所定値の時に零、所定
値を超せば正となり、しかも温度が高くなるとともに出
力も大きくなる。この差動アンプ２２の出力は、２つに
分けられ、一方は微分積分アンプ２３を介して加算アン
プ２４に入力し、他方はそのまま加算アンプ２４に入力
する。加算アンプで加算された上記入力は比例出力回路
２５にお（られ、この比例出力回路２５から加算アンプ
２４からの出力に比例してファンの回転数な変化させる
信号をファンドライバ２６に送出する。ファンドライバ
２６は上記信号を受けて加算アンプ２４の出力に比例し
てファン２７を回転させる。なお、微分積分アンプ２３
はＰＩＤ制御をなすためのもので、比例動作に積分動作
を加えて比例動作におけるオフセットを除（とともに、
比例動作に微分動作を加えてファン回転数を変化させる
時の応答性を改善している。このようにして、サーミス
タ２０ａが所定温度以下ではファン２７を作動させず（
春動７〉ブ２２の出力が零または負の時はファンを作動
させない）、サーミスタ２０ａが所定温度を超えた時、
その超えた大きさ及び速度に応じてファン２７を回転さ
せることができサーミスタ２０ａを空冷できるので、サ
ーミスタ２０ａが検出する温度をほぼ一定の温度に保つ
ことができる。よって、第１図の例ではサーミスタ１０
ａ、１０ｂ、ｌＯｃに対応して７アン７ａ、７ｂ、７ｃ
を作動させて、サーミスタ１０ａ、１０ｂ、１０ｃに検
出される温度を一定に保つことができる。サーミスタ］
Ｏａ、１０ ｂ、１０ ｃの検出される温度、すなわ
ち第１図の例ではマウン）２ａ。
もに減少するため、差動アンプ２２の出力はサーミスタ
２０ａの温度が所定値以下で負、所定値の時に零、所定
値を超せば正となり、しかも温度が高くなるとともに出
力も大きくなる。この差動アンプ２２の出力は、２つに
分けられ、一方は微分積分アンプ２３を介して加算アン
プ２４に入力し、他方はそのまま加算アンプ２４に入力
する。加算アンプで加算された上記入力は比例出力回路
２５にお（られ、この比例出力回路２５から加算アンプ
２４からの出力に比例してファンの回転数な変化させる
信号をファンドライバ２６に送出する。ファンドライバ
２６は上記信号を受けて加算アンプ２４の出力に比例し
てファン２７を回転させる。なお、微分積分アンプ２３
はＰＩＤ制御をなすためのもので、比例動作に積分動作
を加えて比例動作におけるオフセットを除（とともに、
比例動作に微分動作を加えてファン回転数を変化させる
時の応答性を改善している。このようにして、サーミス
タ２０ａが所定温度以下ではファン２７を作動させず（
春動７〉ブ２２の出力が零または負の時はファンを作動
させない）、サーミスタ２０ａが所定温度を超えた時、
その超えた大きさ及び速度に応じてファン２７を回転さ
せることができサーミスタ２０ａを空冷できるので、サ
ーミスタ２０ａが検出する温度をほぼ一定の温度に保つ
ことができる。よって、第１図の例ではサーミスタ１０
ａ、１０ｂ、ｌＯｃに対応して７アン７ａ、７ｂ、７ｃ
を作動させて、サーミスタ１０ａ、１０ｂ、１０ｃに検
出される温度を一定に保つことができる。サーミスタ］
Ｏａ、１０ ｂ、１０ ｃの検出される温度、すなわ
ち第１図の例ではマウン）２ａ。
２ｂ、２Ｃの温度が一定になれば基板３上の温度分布も
均一になる。
均一になる。
このようにして、基板３上の温度分布をほぼ均一もしく
は常に一定の温度勾配に保つことができ、基板の熱膨張
の違いから生じる外部鏡４ａ、４ｂの位置ずれが防止さ
れる。
は常に一定の温度勾配に保つことができ、基板の熱膨張
の違いから生じる外部鏡４ａ、４ｂの位置ずれが防止さ
れる。
なお、ファン８ａ、８ｂ、８ｃはサーミスタ１０ ａ、
１０ ｂ、１０ Ｃと連動して、回転、停止を繰り返す
ようにしてもよいし、あるいは第３図のようにサーミス
タ１０ａ、１０ｂ。
１０ ｂ、１０ Ｃと連動して、回転、停止を繰り返す
ようにしてもよいし、あるいは第３図のようにサーミス
タ１０ａ、１０ｂ。
１０ｃの出力レベルに応じてファン８ａ、８ｂ。
８Ｃの回転速度をコントロールするようにしてもよい。
さらに、温度センサはサーミスタに限られるものではな
いし、温度センサを取り付ける位置も、レーザ管１、も
しくは基板３上でもよい。ただし温度センサによって検
知された部分を冷却する空気流を作り出せるように、各
ファンの位置が温度センサに対応していなければならな
い。また、空気流入口が複数であってもよいことは無論
である。
いし、温度センサを取り付ける位置も、レーザ管１、も
しくは基板３上でもよい。ただし温度センサによって検
知された部分を冷却する空気流を作り出せるように、各
ファンの位置が温度センサに対応していなければならな
い。また、空気流入口が複数であってもよいことは無論
である。
なお、各ファンと温度センサはその対応が明確であれば
前述の実施例のように１−１の対応でなくともよい。例
えば、温度センサ２個に対してファンが３個でもよく、
この場合の制御例を第４図のブロック図を用いて説明す
る。ここで、便宜上、２個の温度センサ３１゜３３に対
して３個のファン３９，４０．４１による風量（冷却効
果）の影響度を、ファン３９はセンサ３１に対してのみ
影響し、ファン４０はセンサ３１とセンサ３３に等しく
影響しく各々に５０％ずつの影響度）、ファン４１はセ
ンサ３３にのみ影響すると考える。
前述の実施例のように１−１の対応でなくともよい。例
えば、温度センサ２個に対してファンが３個でもよく、
この場合の制御例を第４図のブロック図を用いて説明す
る。ここで、便宜上、２個の温度センサ３１゜３３に対
して３個のファン３９，４０．４１による風量（冷却効
果）の影響度を、ファン３９はセンサ３１に対してのみ
影響し、ファン４０はセンサ３１とセンサ３３に等しく
影響しく各々に５０％ずつの影響度）、ファン４１はセ
ンサ３３にのみ影響すると考える。
センサ３１により検出された温度に応じ、第３図で説明
したようなアンプ系３２によって、温度に比例する信号
がファンドライバ３６および加算アンプ３５に出力され
る。このためファンドライバ３６によってファン３９は
センザ３１の検出温度に比例して回転が制御される。一
方、センサ３３により検出された温度に応じてアンプ系
３４により検出温度に比例する信号が加算アンプ３５お
よびファンドライバ３８に送られる。このため、ファン
４１はファンドライバ３８によってセンサ３３の検出温
度に応じて回転が制御される。また、加算アンプ３５に
送られるアンプ系３２とアンプ系３４の出力はここで平
均直が算出され、この平均値に応じた信号をファンドラ
イバ３７に出力する。このため、ファン４０はセンサ３
１とセンサ３３の両方の検出温度に応じてその回転が制
御される。なお、ここでは便宜上ファン４０はセンサ３
１とセンサ３３に対する冷却効果の影響を等しいとした
が、これが異なる時は、加算アンプ３５への入力に重み
づげをして加算すればよい。以上のようにして温度セン
サが２個でファンが３個の時でも温度制御ができる。す
なわち、複数の温度センサと複数のファンがあれば本発
明のレーザ温調装置を得ることができる。
したようなアンプ系３２によって、温度に比例する信号
がファンドライバ３６および加算アンプ３５に出力され
る。このためファンドライバ３６によってファン３９は
センザ３１の検出温度に比例して回転が制御される。一
方、センサ３３により検出された温度に応じてアンプ系
３４により検出温度に比例する信号が加算アンプ３５お
よびファンドライバ３８に送られる。このため、ファン
４１はファンドライバ３８によってセンサ３３の検出温
度に応じて回転が制御される。また、加算アンプ３５に
送られるアンプ系３２とアンプ系３４の出力はここで平
均直が算出され、この平均値に応じた信号をファンドラ
イバ３７に出力する。このため、ファン４０はセンサ３
１とセンサ３３の両方の検出温度に応じてその回転が制
御される。なお、ここでは便宜上ファン４０はセンサ３
１とセンサ３３に対する冷却効果の影響を等しいとした
が、これが異なる時は、加算アンプ３５への入力に重み
づげをして加算すればよい。以上のようにして温度セン
サが２個でファンが３個の時でも温度制御ができる。す
なわち、複数の温度センサと複数のファンがあれば本発
明のレーザ温調装置を得ることができる。
さらに、レーザ装置の使用」−、レーザ装置の発振の立
ち上がり時間は早い方が良いのであるが、この立ち上が
り時間を早めるには、レーザ管１およびマウント２ａ、
２ｂ、２ｃを予めある温度以上にしておくことが望まし
く、このためにケース５の内部あるいはレーザ管１のマ
ウント２ａ、２ｂ、２ｃにヒータを設けることや、ケー
ス５に断熱材を使用することが有効である。この場合レ
ーザ管１の端部はど温度上昇が遅いのでレーザ管１の端
部に特に容量の大きいヒータを設けることがさらに有効
である。
ち上がり時間は早い方が良いのであるが、この立ち上が
り時間を早めるには、レーザ管１およびマウント２ａ、
２ｂ、２ｃを予めある温度以上にしておくことが望まし
く、このためにケース５の内部あるいはレーザ管１のマ
ウント２ａ、２ｂ、２ｃにヒータを設けることや、ケー
ス５に断熱材を使用することが有効である。この場合レ
ーザ管１の端部はど温度上昇が遅いのでレーザ管１の端
部に特に容量の大きいヒータを設けることがさらに有効
である。
なお、このような温調手段を有する本発明のレーザ装置
においても、レーザ管１を発振するためにレーザ管１に
電圧印加な行なうと、れば、レーザ装置の立上り時のレ
ーザパワーの出力特性を改善するとともに、定常状態に
おいても安定した高出力を得ることができる。
においても、レーザ管１を発振するためにレーザ管１に
電圧印加な行なうと、れば、レーザ装置の立上り時のレ
ーザパワーの出力特性を改善するとともに、定常状態に
おいても安定した高出力を得ることができる。
以−］−、、詳細に説明したように、本発明のレーザ温
調装置を使用すれば、使用時におけるレーザ管の発熱に
よって外部鏡の位置ずれが発生することを防止すること
ができ、半永久的に外部鏡の位置調整を行なうことなく
レーザ装置を使用することができ、レーザ発振光のパワ
ー位置、方向安定性が向上し、実用上の利用価値は極め
て高い。
調装置を使用すれば、使用時におけるレーザ管の発熱に
よって外部鏡の位置ずれが発生することを防止すること
ができ、半永久的に外部鏡の位置調整を行なうことなく
レーザ装置を使用することができ、レーザ発振光のパワ
ー位置、方向安定性が向上し、実用上の利用価値は極め
て高い。
第１図は本発明のレーザ温調装置の一実施例を示す概略
斜視図、 １・・・レーザ管 ２ａ、 ２ｂ、 ２ｃ ＝−マウｙ ト３・・・基 板
４ａ、４ｂ・・・外部鏡５・・・ケース ６・・・空
気流入ロ アａ、７ｂ、７ｃ・・・空気流出口 ８ａ、８ｂ、８ｃｍ−−７７７ ９・・・レーザ光
斜視図、 １・・・レーザ管 ２ａ、 ２ｂ、 ２ｃ ＝−マウｙ ト３・・・基 板
４ａ、４ｂ・・・外部鏡５・・・ケース ６・・・空
気流入ロ アａ、７ｂ、７ｃ・・・空気流出口 ８ａ、８ｂ、８ｃｍ−−７７７ ９・・・レーザ光
Claims (1)
- 複数のマウントにより保持されて基板上に設置されるレ
ーザ管と、とのレーザ管を収容するケースと、前記各マ
ウント、この各マウント近傍の基板上もしくは前記レー
ザ管に取り付けられて前記各マウント、この各マウント
近傍の基板上もしくは前記レーザ管の温度を検出する複
数の温度センサと、前記ケースに設けられる複数の通風
手段とからなるレーザ温調装置において、前記通風手段
が前記温度センサに温度を検出される各部分またはその
近傍を通る空気流を作り出すように設置され、前記温度
センサの出力に応じて前記通風手段を作動させ、前記各
部分の温度を所望の一定レベルに維持するようにしたこ
とを特徴とするレーザ温調装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58128770A JPS6021582A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | レ−ザ温調装置 |
| US06/630,198 US4573159A (en) | 1983-07-15 | 1984-07-12 | Temperature-controlled laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58128770A JPS6021582A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | レ−ザ温調装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6021582A true JPS6021582A (ja) | 1985-02-02 |
Family
ID=14993037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58128770A Pending JPS6021582A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | レ−ザ温調装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4573159A (ja) |
| JP (1) | JPS6021582A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6296843U (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-20 | ||
| JPS63111686A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-16 | Nikon Corp | 空調装置 |
| JP2014206759A (ja) * | 2009-10-16 | 2014-10-30 | オリンパス株式会社 | 多光子励起型レーザ走査型顕微鏡 |
| JP2016081993A (ja) * | 2014-10-14 | 2016-05-16 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ共振器、レーザ加工装置及びレーザ共振器の除湿方法 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5943584A (ja) * | 1982-09-03 | 1984-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ装置 |
| US4730323A (en) * | 1986-02-07 | 1988-03-08 | Seaton Norman T | Laser frequency drift control device and method |
| US4734916A (en) * | 1986-03-20 | 1988-03-29 | Laser Corporation Of America | Laser oscillating apparatus |
| BG47632A1 (en) * | 1987-11-30 | 1990-08-15 | Univ Sofijski | Method and device for determining moment of switching of system for active thermostabilizing of resonator lenght in frequency stabilized lasers |
| JPH02101207U (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-13 | ||
| US5550853A (en) * | 1994-12-21 | 1996-08-27 | Laser Physics, Inc. | Integral laser head and power supply |
| JP3759640B2 (ja) * | 1995-06-30 | 2006-03-29 | 日本原子力研究所 | 単一縦モード周波数可変レーザー発振器の発振周波数安定化装置及び方法と周波数掃引可能なレーザー発振装置及び方法 |
| US5748656A (en) | 1996-01-05 | 1998-05-05 | Cymer, Inc. | Laser having improved beam quality and reduced operating cost |
| US6008264A (en) | 1997-04-30 | 1999-12-28 | Laser Med, Inc. | Method for curing polymeric materials, such as those used in dentistry, and for tailoring the post-cure properties of polymeric materials through the use of light source power modulation |
| US5901167A (en) * | 1997-04-30 | 1999-05-04 | Universal Laser Systems, Inc. | Air cooled gas laser |
| US6282013B1 (en) | 1997-04-30 | 2001-08-28 | Lasermed, Inc. | System for curing polymeric materials, such as those used in dentistry, and for tailoring the post-cure properties of polymeric materials through the use of light source power modulation |
| US6602074B1 (en) | 1997-10-29 | 2003-08-05 | Bisco, Inc. | Dental composite light curing system |
| US6116900A (en) * | 1997-11-17 | 2000-09-12 | Lumachem, Inc. | Binary energizer and peroxide delivery system for dental bleaching |
| US6200134B1 (en) | 1998-01-20 | 2001-03-13 | Kerr Corporation | Apparatus and method for curing materials with radiation |
| US6414828B1 (en) * | 1999-03-17 | 2002-07-02 | Lambda Physik Ag | Laser ventilation system |
| US6157661A (en) * | 1999-05-12 | 2000-12-05 | Laserphysics, Inc. | System for producing a pulsed, varied and modulated laser output |
| US6421361B1 (en) * | 1999-06-22 | 2002-07-16 | Ceramoptec Industries, Inc. | Tunable diode laser system for photodynamic therapy |
| US9066777B2 (en) | 2009-04-02 | 2015-06-30 | Kerr Corporation | Curing light device |
| US9072572B2 (en) | 2009-04-02 | 2015-07-07 | Kerr Corporation | Dental light device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0060631B1 (en) * | 1981-02-25 | 1985-12-27 | Lexel Corporation | Cooling of laser parts |
| US4387462A (en) * | 1981-06-16 | 1983-06-07 | Joseph Markus | Single-frequency stabilized laser |
-
1983
- 1983-07-15 JP JP58128770A patent/JPS6021582A/ja active Pending
-
1984
- 1984-07-12 US US06/630,198 patent/US4573159A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6296843U (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-20 | ||
| JPS63111686A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-16 | Nikon Corp | 空調装置 |
| JP2014206759A (ja) * | 2009-10-16 | 2014-10-30 | オリンパス株式会社 | 多光子励起型レーザ走査型顕微鏡 |
| JP2016081993A (ja) * | 2014-10-14 | 2016-05-16 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ共振器、レーザ加工装置及びレーザ共振器の除湿方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4573159A (en) | 1986-02-25 |
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