JP3759640B2 - 単一縦モード周波数可変レーザー発振器の発振周波数安定化装置及び方法と周波数掃引可能なレーザー発振装置及び方法 - Google Patents

単一縦モード周波数可変レーザー発振器の発振周波数安定化装置及び方法と周波数掃引可能なレーザー発振装置及び方法 Download PDF

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、パルスレーザーで励起される単一縦モード周波数可変レーザー発振器の周波数安定化法及びその装置と周波数掃引可能なレーザー発振装置及び方法に関するものである。産業上の利用分野としては、分光、光計測、光化学反応等の分野に利用できる。
【0002】
【従来技術】
高繰返しポンプレーザーによって励起される単一縦モード色素レーザー発振器の従来の周波数制御法としては、小長井主税、佐藤俊雄による「ウラン濃縮用色素レーザーシステムの波長制御」(レーザー研究第22巻第8号第9〜18頁、平成6年8月刊行)に記載されているように、機械掃引法が用いられてきた。この方法は、色素レーザー発振器の構成要素であるグレーティング及びエタロンの周波数選択角度と共振器長を同期して機械的に制御することにより単一縦モードの安定化(即ち発振周波数の安定化)及び掃引を行う方法である。
【0003】
しかしながら、この方法では、エタロンの制御方法及び制御角度を決定する為に、ロックイン増幅器を用いたフェイズ・ロックド・ループ(PLL)を利用した位相検波法によるフィードバックループが必要となる。その結果、装置が複雑になると同時に高価な物になる。更に、ロックイン増幅器を用いたフィードバックループのため、周波数を安定化させるのに時間を要し、また周波数掃引時間も遅くなる。
【0004】
また、G.Bollen,H.J.Kluge及びK.Wallmerothによる”High−power pulsed dye laser withFourier−limited bandwidth”(J.Opt.Soc.Am.B/Vol.4,No.3,/March 1987刊行,第329〜336頁)には、色素レーザー発振器そのものは単一縦モードで発振させないでマルチモードで発振させ、外部エタロンを用いて周波数の狭帯域化を付加的に行うことで単一縦モードのみを取り出し、結果的に単一縦モード発振を達成させている色素レーザー発振システムが開示されている。このシステムにおいては、色素レーザー発振器が配設されている密閉された容器内のガスの圧力を変えることにより周波数を変える周波数掃引法を用いており、周波数の安定化は、上記の狭帯域の外部エタロンにより行っている。狭帯域の外部エタロンの通過ロスが大きいため、色素レーザー発振器でのレーザー出力に比して外部エタロンを透過した出力が著しく小さくなる。その結果、外部エタロンでの出力を大きく取るため、色素レーザー発振器の出力を増大させる必要があり、それに伴い色素レーザー発振器を駆動するためのポンプレーザーとしてピークパワーの高いものが必要不可欠になる。従って、一般的にピークパワーの低い高繰返しのポンプレーザーを用いた色素レーザーの発振は、不可能に近い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、従来技術におけるこのような様々な問題点を解消し、構成が単純で経済的であり、また周波数掃引を高速で行うことができる単一縦モード周波数可変レーザー発振器の発振周波数安定化装置及び方法と周波数掃引可能なレーザー発振装置及び方法とを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、所定の気体を内部に含む密閉された容器の内部に配置された単一縦モードで発振する周波数可変レーザー発振器の発振周波数を安定化する本発明の装置は、前記気体の圧力及び温度を測定する手段と、前記測定する手段により異なる時間に測定された圧力及び温度とに基づいて前記気体の屈折率を一定にするための圧力の補正量を計算する手段と、前記の計算された圧力の補正量に応じて前記気体の圧力を変化させる手段とを備えることを特徴とする。
【0007】
上記目的を達成するため、所定の気体を内部に含む密閉された容器の内部に配置された単一縦モードで発振する周波数可変レーザー発振器の発振周波数を安定化する本発明の方法は、前記気体の圧力及び温度を測定するステップと、異なる時間に測定された圧力及び温度とに基づいて前記気体の屈折率を一定にするための圧力の補正量を計算するステップと、前記の計算された圧力の補正量に応じて前記気体の圧力を変化させるステップとを備えることを特徴とする。
【0008】
上記目的を達成するため、所定の気体を内部に含む密閉された容器と、前記容器の内部に配置され単一縦モードで発振する周波数可変レーザー発振器とを有し、前記周波数可変レーザー発振器は、周波数選択手段と、ビーム拡大手段と、発振媒体手段と、出力結合手段とを含み、かつ前記周波数選択手段に含まれるグレーティングと前記出力結合手段間の光路長により規定される共振器長を有する、本発明のレーザー発振装置は、所望の掃引発振周波数に対応する前記気体の圧力値と屈折率とを逐次計算する手段と、前記計算する手段により逐次計算された圧力値に応じて前記気体の圧力を変化させる圧力変化手段と、前記の逐次計算された気体の屈折率に基づいて単一縦モードを維持するように前記共振器長を変化させる手段と、前記気体の圧力の変化に起因する前記ビーム拡大手段のレーザー光の屈折角の変化を補正するため、前記周波数選択手段の前記ビーム拡大手段に対して設定された角度を前記の逐次計算された気体の屈折率に応じて変化させる手段とを備えることを特徴とする。
【0009】
上記目的を達成するため、所定の気体を内部に含む密閉された容器と、前記容器の内部に配置され単一縦モードで発振する周波数可変レーザー発振器とを有し、前記周波数可変レーザー発振器は、周波数選択手段と、ビーム拡大手段と、発振媒体手段と、出力結合手段とを含み、かつ前記周波数選択手段に含まれるグレーティングと前記出力結合手段間の光路長により規定される共振器長を有する、レーザー発振装置を単一縦モードで周波数を掃引する本発明の方法は、所望の掃引発振周波数に対応する前記気体の圧力値と屈折率とを逐次計算するステップと、前記計算する手段により逐次計算された圧力値に応じて前記気体の圧力を変化させるステップと、前記の逐次計算された気体の屈折率に基づいて単一縦モードを維持するように前記共振器長を変化させるステップと、前記気体の圧力の変化に起因する前記ビーム拡大手段のレーザー光の屈折角の変化を補正するため、前記周波数選択手段の前記ビーム拡大手段に対して設定された角度を前記の逐次計算された気体の屈折率に応じて変化させるステップとを備えることを特徴とする。
【0010】
【作用】
本発明の単一縦モード周波数可変レーザー発振器の発振周波数安定化装置及び方法は、上記のように構成されていることにより、前記測定する手段により異なる時間に測定された圧力及び温度とに基づいて前記気体の屈折率を一定にするための圧力の補正量が計算される。当該計算された圧力の補正量に応じて前記気体の圧力のみが変化させられることにより、気体の屈折率が一定に維持され、その結果発振周波数が一定に維持される。
【0011】
本発明の周波数掃引可能な単一縦モードレーザー発振装置及び方法は、所望の掃引発振周波数に対応する前記気体の圧力値と屈折率とが逐次計算され、当該逐次計算された圧力値に応じて前記気体の圧力が変化させられる。また、前記の逐次計算された気体の屈折率に応じて単一縦モードを維持するように前記共振器長が変化させられる。更に、前記気体の圧力の変化に起因する前記ビーム拡大手段のレーザー光の屈折角の変化を補正するため、前記周波数選択手段の前記ビーム拡大手段に対して設定された角度が前記の逐次計算された気体の屈折率に応じて変化させられる。
【0012】
【実施例】
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
【0013】
図1は、本発明の一実施例である単一縦モード周波数可変レーザー発振装置の構成を概略示す図である。図1において、10は単一縦モードレーザー発振器を、12はその中に単一縦モードレーザー発振器10が配設された密閉構造を有する圧力容器を、14はこの圧力容器12に充填されているガスをそれぞれ示す。なお、ここでのガスは、空気等を含む種々の気体の総称であり、本実施例では空気である。更に、図1において、16は圧力容器12内に充填されたガス14の圧力及び温度を測定するガス圧力・温度測定部を、18は圧力容器12内の圧力を変える圧力変調部を、20は周波数選択角度を任意の角度に設定するため周波数選択素子を駆動する周波数選択素子駆動部を、22は単一縦モードレーザー発振器10の共振器長を変えるための共振器長駆動部を、24は16〜22で示される要素をコントロールするためのパーソナルコンピュータをそれぞれ示す。パーソナルコンピュータ24は、後述する制御を行う制御プログラムを格納するROMとワークエリアを有するRAMと、ROMから読出された制御プログラムを実効するCPUとを含む。
【0014】
単一縦モードレーザー発振器10は、グレーティング30とエタロン32とを含む周波数選択素子34と、2つのプリズム36及び38とから成るビーム拡大器40と、両側をガラス41で挟まれ色素溶液が入れられたレーザー発振媒体42と、出力カプラー44とを含む。エタロン32は、両側にガラス321が配設され、中央部には気体を入れる気体貯留部322が設けられ、この気体貯留部322は外部のガス14と連通しており、その結果ガス14と同じものが入っている。
【0015】
圧力容器12は、レーザービームを外部に放出するためのウインドウ50が設けられている。なお、圧力容器12には、図示されていないが、ポンプ光導入ウインドウとポンプ光集光用レンズも設けられている。グレーティング30及びエタロン32のそれぞれには周波数選択素子駆動部20により駆動されそれぞれの角度を変えるためのステッピングモーター52及び54が取り付けられている。出力カプラー44には、共振器長駆動部22に駆動され矢印で示されるレーザービームの方向に沿って出力カプラー44を移動させるピエゾ駆動素子56が取り付けられている。
【0016】
単一縦モードレーザー発振器10の置かれた環境の温度変化によって生じる、30〜44によって示される要素の各々の位置変化を最小に抑える為に、これらの要素は、図示されていない膨張係数の小さなスーパーインバーの台に取り付けられている。
【0017】
圧力変調部18は、ステッピングモーターと、それにより駆動される圧力シリンダーとで構成されている。当該圧力シリンダーは圧力容器12に接続されており、圧力シリンダーの内部圧力は、ステッピングモーターによるシリンダーシャフトの回転で変化させる。周波数選択素子駆動部20は、グレーティング30及びエタロン32の周波数選択角度を任意の角度に設定する為それらに取り付けられたステッピングモーター52及び54を駆動する。共振器長駆動部22は、共振器長を変化させる為出力カプラー44の位置をピエゾ駆動素子56を駆動して変化させる。周波数選択素子駆動部20及び共振器長駆動部22は、レーザー発振周波数の掃引を行う場合必要となる。
【0018】
初めに、発振周波数を安定化する動作について説明する。図示されていないポンプレーザーからのレーザー光が矢印により示されるレーザービームの方向に対して直交する方向からレーザー発振媒体42に対して入射されると、グレーティング30と出力カプラー44との間にエタロン32、ビーム拡大器40及びレーザー発振媒体42を介して定在波が生じ、レーザー光を発振する。この発振したレーザー光の周波数状態(縦モード)は、圧力容器12内のガス14の屈折率変化に依存する。この屈折率は、ガス14の圧力と温度とが変化すると変化する。従って、ガス14の圧力と温度が変化しても、単一縦モードからマルチモード(複数の発振周波数状態)に移行させない、いわゆる単一縦モード発振の安定化を行う為には、この屈折率が一定値になるように制御すればよい。そのため、パーソナルコンピュータ24で得られた屈折率を逐次比較する事で、初期状態からの偏位量を相殺するように圧力変調部18を用いてガス圧力を変化させて、その屈折率が一定になるように制御する。
【0019】
詳細には、ガス14が本実施例のように空気の場合、空気の屈折率はエドレンの式において、標準空気での炭酸ガス含有率を10%、水蒸気圧を10Torrとすると、以下の式で与えられる。
【0020】
【数1】
Figure 0003759640
ここで、ηairは空気屈折率を、λは波長(μm)を、Pは空気圧力(Torr)を、Tは空気温度(℃)をそれぞれ表す。
【0021】
波長と発振周波数とは反比例する関係にあるので、この式(1)から屈折率が変化すれば波長即ち発振周波数が変化することが分かる。
【0022】
また、この式(1)から、圧力及び温度による空気屈折率の変化量は、次式で与えられる。
【0023】
【数2】
Figure 0003759640
例えば、570nmの波長における空気屈折率は圧力により、
【数3】
Figure 0003759640
で変化する。
【0024】
また、温度によっても
【数4】
Figure 0003759640
の変化が生じる。
【0025】
従って、単一縦モードレーザー発振器10がガス(空気)14のある圧力と温度の環境下で所望の周波数で発振している場合と、次いで、ガス(空気)14の圧力及び温度が変化した場合とのそれぞれの場合について、ガス(空気)14の圧力と温度をガス圧力・温度測定部16により測定して圧力変化量ΔP及び温度変化量ΔTを求める。次に、求めた圧力変化量ΔPと温度変化量ΔTと式(2)とから空気の屈折率の変化量Δηairを求める。この空気屈折率の変化量Δηairを外部から温度を変えることをせずに外部から圧力のみを変化させて相殺するに要する圧力変化量ΔPは、式(2)において温度一定即ちΔT=0で、先に求めた空気屈折率の変化量Δηairの負のものを代入して求めることができる。
【0026】
パーソナルコンピュータ24は、ガス圧力・温度測定部16で得られた測定圧力及び温度を用いて、上記のようにして、ガス(空気)14の圧力及び温度が変化しても発振周波数が一定となるのに要する圧力変化量を計算する。圧力変調部18は、当該計算された圧力変化量に応じてステッピングモータを回転して圧力シリンダーを駆動し、ガス(空気)14の圧力を所要圧力変化量だけ変化させる。このようにしてガス(空気)14の屈折率は一定に制御され、その結果発振周波数も一定に制御される。なお、ガス圧力・温度測定部16による圧力及び温度を測定する間隔は、例えばパーソナルコンピュータ24から出力されるクロック信号による一定時間間隔でもよく、また圧力及び/又は温度を常時測定して所定量偏倚したときパーソナルコンピュータ24が取り込むようにしてもよい。
【0027】
以上述べたようなガス圧力・温度測定部16、パーソナルコンピュータ24及び圧力変調部18から成る本発明の発振周波数安定化装置及び方法は前述した従来の機械掃引法より単一縦モードレーザーの周波数安定化を廉価で簡潔に行うことができ、また従来技術が用いた位相検波法が不要のため従来より短い時間で周波数が安定化する。
【0028】
次に、発振周波数を掃引する動作について説明する。発振周波数の掃引を行う場合には、圧力変調部18による圧力変化(従来の圧力掃引法)に同期して、周波数選択素子駆動部20による角度補正及び共振器長駆動部22による共振器長補正を行うことで、単一縦モードを維持したまま、発振周波数を変化させることが可能になる。
【0029】
図2は、共振器長の補正について説明するための発振周波数の掃引の概念図である。図2の参照番号で図1のものと同じものは同一の要素を示す。モード数は、定在波の数を示し、1つの波は波線の一周期で定義する。実効共振器長Leffは、図1のグレーティング30から出力カプラー44までのレーザー共振器内の各光学素子を通過するレーザー光の伝播長を真空における値に換算して示した長さである。図中の波線は、レーザー発振器10内の定在波を示す。a)は、モード数=11の単一縦モードで発振している初期の状態であると仮定する。四角で囲った固定部100は、図1において321、36、38及び41で示されるガラスの部分の全体とレーザー発振媒体42の部分との総体に相当し、これらの屈折率はガス圧力の変化に依存しない。発振周波数の掃引を行う為に、圧力のみを増加させていくと固定部100を除くレーザー共振器内のガスで満たされた部分の屈折率のみが増加し、実効共振器長がb)で表されるように長くなる。しかしながら、圧力の増加に伴う実効共振器長の増加のみでは、後述するように、レーザー発振周波数の状態を表すモード数を初期の11に維持することは出来なく、モード数は10と1つ減少した値に変化してしまう。a)の状態であるモード数=11、すなわち初期の単一縦モード発振を維持した状態で周波数掃引を行う為には、モード数11が必要とする実効共振器長を示すc)とb)との差△Leffだけ共振器長を補正する必要がある。
【0030】
単一縦モードレーザー発振器10内に配置された周波数選択素子34のグレーティング30及びエタロン32の圧力変化による選択周波数の変化は、それぞれ次のように表される。
【0031】
グレーティング30について、
【数5】
Figure 0003759640
エタロン32について
【数6】
Figure 0003759640
ここで、νGratingはグレーティングの選択周波数を、νEtalonはエタロンの選択周波数を、cは光速度をそれぞれ表す。なお、その他の記号は前述したものと同様である。
【0032】
式(5)及び式(6)は、グレーティングとエタロンの波長は同一であることから同一の式となり、従って同一の圧力環境下では、同じ周波数変化を生じる。例えば、波長570nm、温度20℃におけるこの値は、
【数7】
Figure 0003759640
となり、レーザー発振周波数の変化1GHz当たりの圧力変化量は、約−5.4Torr/GHzとなる。
【0033】
これに対して、単一縦モードレーザー発振器10による縦モードの発振周波数νCavityの変化は、
【数8】
Figure 0003759640
なる。以下に示すように、この縦モードの発振周波数の変化ΔνCavityは周波数選択素子による周波数変化ΔνGratingあるいはΔνEtalonとの間に差が生じる。
【0034】
波長570nm、温度20℃でのこの縦モードの発振周波数の変化量の値は、
【数9】
Figure 0003759640
となる。この縦モードの発振周波数の変化ΔνCavity=−105.5MHz/Torrと周波数選択素子による周波数変化ΔνGrating=ΔνEtalon=−185.5MHz/Torrとの間の差が、レーザー発振周波数の状態を単一モードからマルチモードへ変化させてしまう。モード変化を起こさせないためには、次式で示す共振器長変化で補正する必要がある。
【0035】
【数10】
Figure 0003759640
ここで、Leffは有効共振器長で次式により表される。
【0036】
【数11】
eff=ηglassglass+ηairair+ηdyedye (11)
ここで、Lglassは固定部100のうちのガラスの部分の長さ、即ち、図1において321、36、38及び41で示されるガラスの部分の全体の長さである。なお、当該ガラスは通常石英ガラスで作られている。Ldyeは図1のレーザー発振媒体42の入れられている色素溶液の長さである。また、ηglassは石英ガラスの屈折率を、ηdyeは色素溶液の屈折率をそれぞれ表す。
【0037】
この計算結果から共振器長の補正量は、周波数変化1GHz当たり−110.0nmと計算される。なお、式(10)のδLeffが図2に示されるΔLeffに相当する。
【0038】
従って、周波数掃引のためパーソナルコンピュータ24が指示する圧力の増加(又は減少)方向の変化に応答して圧力変調部18のステッピングモータが回転して圧力シリンダーが駆動されてガス(空気)14の圧力が増加(又は減少)へと変化するにつれて即ち同期して、共振器長駆動部22はパーソナルコンピュータ24が指示する圧力の増加(又は減少)方向の変化に応答してピエゾ駆動素子56を駆動し式(10)に従って出力カプラー44を有効共振器長が増加(又は減少)するように移動させる。
【0039】
次に、図3を用いてグレーティング及びエタロンでの発振周波数選択角度の補正について説明する。図3の参照番号で図1のものと同一のものは同一の要素を示す。この補正は、圧力の変化によって生じるビーム拡大器40でのレーザー光の屈折角変化を相殺する為の補正である。プリズム38、36を通過する光の伝播方向は、その入射面及び出射面内外の材質であるガラス38、36とガス14の屈折率比に依存する。周波数を掃引するため圧力を変化させると、前述のようにガス14の屈折率は変化する。この結果、ビーム拡大器40から出射する光の出射角度は、初期の状態から異なった角度になる。グレーティング及びエタロンにおいて選択されるレーザー発振周波数は、これらの素子に入射する光の入射角度によっても変化する。図3においては、発振周波数の掃引を開始する初期のレーザー光伝播状態を実線102で、掃引中の任意の状態を破線104で各々示す。ビーム拡大器40の出口における両者の差を△θで表す。この△θが補正量となる。このビーム拡大器40からの出射角度の変化は、グレーティング30及びエタロン32への入射角度変化と同一であることから周波数選択角度の補正が必要となる。
【0040】
周波数選択素子34における所要の角度補正量は次のようにして求めることが可能である。
【0041】
異なる媒質中を進む光の屈折角を表すスネルの式は次のとおりである。
【0042】
【数12】
ηairsinθ1=ηglasssinθ2 (12)
ここで、θ1は入射角度を、θ2は屈折角度をそれぞれ表す。
【0043】
式(12)から、ビーム拡大器40を構成する1番目のプリズム38を透過するレーザー光の圧力変化に伴う屈折角度の変化は、次式のようになる。
【0044】
【数13】
Figure 0003759640
ここで、Xは
【数14】
Figure 0003759640
であり、θ1(1st)は1番目のプリズム38への入射角度を、θ4(1st)は1番目のプリズム38の出射面での屈折角度をそれぞれ表す。
【0045】
この角度変化は、2番目のプリズム36への入射角度変化を引き起こすので、次式が成り立つ。
【0046】
【数15】
Figure 0003759640
ここで、θ1(2nd)は2番目のプリズム36への入射角度を表す。
【0047】
これらの式より、ビーム拡大器40を通過した(即ち2番目のプリズム36を通過した)レーザー光の圧力変化に伴う屈折角度の変化は、次式のとおりである。
【0048】
【数16】
Figure 0003759640
ここで、θ4(2nd)は2番目のプリズム36の出射面での屈折角度を表す。
【0049】
式(16)より、2番目のプリズム36の出射面での屈折角度θ4(2nd)の変化は、次式のようになる。
【0050】
【数17】
Figure 0003759640
式(17)におけるΔηairは、波長570nm、温度20℃において、式(7)に基づくレーザー光の空気圧力に対する発振周波数の変化量−5.4Torr/GHzと、式(3)とから
【数18】
Δηair=−1.9386×10-6 /GHz (18)
となり、従って、
【数19】
Δθ4(2nd)=132μdeg./GHz (19)
となる。
【0051】
従って、周波数掃引時にビーム拡大器40で生じるこの角度変化を相殺するように、周波数選択素子34のビーム拡大器40に対する角度を変化させて補正する必要がある。
【0052】
詳細には、周波数を掃引するためパーソナルコンピュータ24が指示する圧力の増加(又は減少)方向の変化に応答して圧力変調部18のステッピングモータが回転して圧力シリンダーが駆動されてガス(空気)14の圧力が増加(又は減少)へと変化するにつれて即ち同期して、周波数選択素子駆動部20は、パーソナルコンピュータ24が指示する圧力の増加(又は減少)方向の変化に応答してステッピングモータ52及び54を駆動して式(19)に従ってグレーティング30及びエタロン32の各角度を変える。
【0053】
なお、例えばガス14の温度が一定に保たれるような短い時間内に周波数の掃引を行う場合、即ち、ガス14の圧力のみで掃引中の発振周波数が決まる場合には、ガス圧力・温度測定部16は必ずしも必要でなく、パーソナルコンピュータ24が掃引周波数に対応する所要圧力を計算して、その計算結果の指示値を適時圧力変調部18、周波数選択素子駆動部20及び共振器長駆動部22に付与すればよい。しかし、例えば1時間に1GHz掃引するというゆっくりとした掃引の場合には、ガス14の温度が掃引中に変化するので、その温度変化を加味して圧力変調部18を制御する必要がある。かかる場合には、掃引中にガス圧力・温度測定部16によりガス14の温度を測定して、前述の発振周波数の安定化と同様にパーソナルコンピュータ24において温度の変化を含めて所望の掃引周波数となる圧力を計算して、圧力変調部18を制御する。更に、掃引周波数の精度を上げるため、ガス圧力・温度測定部16により測定された圧力を用いて所望の掃引周波数となる圧力を補正してもよい。
【0054】
前述したように構成された実施例の実験模式図を図4に示す。図4において、200は、図1に示される構成を有する単一縦モード周波数可変レーザー発振装置の全体を示し、202は図1の単一縦モードレーザー発振器10に相当する部分を、204はその発振したレーザー光の周波数を制御する部分(図1の16〜24、及び52〜56)を示す。実験においては発振器として、ヘンシュ型単一縦モード色素レーザー発振器を使用している。210は、ヘンシュ型単一縦モード色素レーザー発振器202を励起させるためのポンプレーザーで、6.5kHzの高い繰返し数で発振するピークパワーの低い銅蒸気レーザーである。220は、ヘンシュ型単一縦モード色素レーザー発振器202で発振した色素レーザー光の周波数状態を観測する為のスペクトラムアナライザーである。なお、共振器内ガスとして空気を用いた。また、単一モード発振を行う為に、色素レーザーの共振器長は可能な限り短くしている。
【0055】
1時間の観測結果から、周波数の安定性は100MHz/時間以下であった。更に、周波数掃引については、約30GHzの周波数幅にわたって単一縦モードを維持しつつ、発振周波数を変化させることが可能であった。
【0056】
この場合の、レーザーの発振周波数に対する色素レーザー共振器内圧力変化、周波数選択素子角度の補正量及び共振器長補正量を図5に示す。図5は、レーザー発振周波数と3つの制御量(色素レーザー共振器内圧力変化、周波数選択素子角度の補正量及び共振器長補正量)の関係を示した図である。実線は、空気温度一定、この場合は25℃のときのレーザー発振周波数と空気圧力の関係を示す。垂直に引いた破線は、グレーティング及びエタロンの選択角度の補正量を、水平の一点鎖線は、共振器長補正量を示す。760Torr、0mdeg.、0μmで示される紙面中央の交点Aは、周波数掃引を行う際の初期の単一縦モード発振状態を意味する。この交点Aにおける状態は、中心波長が570nm、グレーティング選択角度が43.1度、エタロン選択角度が0.85度、空気圧力が約770Torr、空気温度が25℃である。単一縦モード発振状態を維持しつつ、周波数掃引を行う為には実線で示された圧力の変化に同期して、これら3つの補正量を実線に沿って変化させることが必要である。例えば、温度一定において、上記交点Aにおける発振周波数から10GHz増加の方向に掃引する場合、交点Aの発振周波数+約3.7GHz(図中のB)では、空気圧力を750Torrにし、グレーティング及びエタロンの選択角度を0.5mdeg.増し、共振器長を約0.4μm減じ、交点Aの発振周波数+約7.1GHz(図中のC)では、空気圧力を約730Torrにし、グレーティング及びエタロンの選択角度を1.0mdeg.増し、共振器長を約0.8μm減じ、交点Aの発振周波数+約8.9GHz(図中のD)では、空気圧力を約720Torrにし、グレーティング及びエタロンの選択角度を約1.2mdeg.増し、共振器長を1.0μm減じ、交点Aの発振周波数+10GHz(図中のE)では、空気圧力を約715Torrにし、グレーティング及びエタロンの選択角度を約1.3mdeg.増し、共振器長を約1.1μm減ずる。なお、交点Aから図中のEの+10GHzまで掃引する場合、単一縦モード発振を維持するため、図中の制御曲線に従って、空気圧力を減少させるの応じて連続的にグレーティング及びエタロンの選択角度を増し、一方共振器長を減ずる。また、掃引中に温度が変化する場合には、図5には示していないが、図中に空気圧力と発振周波数の関係を示す実線が温度をパラメータにして更に引くことができ、温度変化を考慮した線上を空気圧力を変えつつ、グレーティング及びエタロンの選択角度及び共振器長を変えればよい。
【0057】
上述したような方法で測定した結果、測定値は以下の表に示すように計算値とほぼ一致した。
【0058】
【表1】
Figure 0003759640
パーソナルコンピュータ24が掃引周波数に対応する圧力を所望の掃引速度に対応した間隔で逐次計算し、それと共に当該計算された圧力に基づいてガスの屈折率を計算し、更に必要なグレーティング及びエタロンの選択角度の補正量及び共振器長の補正量を計算し、それぞれ求められた値に応じて圧力変調部18、周波数選択素子駆動部20、共振器長駆動部22が駆動される。掃引中に温度変化が生じる場合には、ガス圧力・温度測定部16により測定された温度を用いてパーソナルコンピュータ24において圧力変調部18に指示される圧力が修正され、それに伴いグレーティング及びエタロンの選択角度の補正量及び共振器長の補正量も修正される。更に、掃引周波数の精度を上げるため、ガス圧力・温度測定部16により測定された圧力を用いて上記指示される圧力を補正してもよい。従って、本実施例の掃引法は、従来のものより構成が単純で、経済的であり、しかも応答が早いため高速で周波数掃引を行うことが可能である。
【0059】
なお、本発明の実施例の実験にはヘンシュ型共振器を用いているが、本発明は、かかる共振器に適用が限定されることなく、リトロー型等の単一縦モードを発振するいずれの型の共振器にも適用可能である。
【0060】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したように構成されていることにより、以下のような作用効果を奏する。
【0061】
本発明の単一縦モード周波数可変レーザー発振器の発振周波数安定化装置及び方法は、レーザー共振器内のガスの圧力及び温度から算出されるその屈折率を制御パラメータに用いて、即ち圧力による共振器内ガスの屈折率変化のみを用いて、発振周波数の安定化を図っているため、位相検波法等の複雑なループから成る従来技術より構成が単純で経済的であり、位相検波法が不要のため従来より短時間で周波数が安定化する。
【0062】
本発明の周波数掃引可能な単一縦モードレーザー発振装置及び方法は、圧力のみを変え、それに同期させて周波数選択素子の選択角度と共振器長の補正を行うことにより発振周波数を掃引しているので、従来技術のような位相検波法が不要で、そのため高速で周波数掃引が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である単一縦モード周波数可変レーザー発振装置の構成を概略示す図である。
【図2】共振器長の補正について説明するための発振周波数の掃引の概念図である。
【図3】グレーティング及びエタロンでの発振周波数選択角度の補正について説明するための図である。
【図4】図1に示される実施例の実験模式図である。
【図5】レーザー発振周波数と3つの制御量(色素レーザー共振器内圧力変化、周波数選択素子角度の補正量及び共振器長補正量)の関係を示した図である。
【符号の説明】
10:単一縦モードレーザー発振器
12:圧力容器
14:ガス
16:ガス圧力・温度測定部
18:圧力変調部
20:周波数選択素子駆動部
22:共振器長駆動部
24:パーソナルコンピュータ
30:グレーティング
32:エタロン
34:周波数選択素子
36,38:プリズム
40:ビーム拡大器
42:レーザー発振媒体
44:出力カプラー
52,54:ステッピングモータ
56:ピエゾ駆動素子

Claims (6)

  1. 所定の気体を内部に含む密閉された容器の内部に配置された単一縦モードで発振する周波数可変レーザー発振器の発振周波数を安定化する装置において、
    前記気体の圧力及び温度を測定する手段と、
    前記測定する手段により異なる時間に測定された圧力及び温度とに基づいて前記気体の屈折率を一定にするための圧力の補正量を計算する手段と、
    前記の計算された圧力の補正量に応じて前記気体の圧力を変化させる手段と
    を備えることを特徴とする発振周波数安定化装置。
  2. 所定の気体を内部に含む密閉された容器と、前記容器の内部に配置され単一縦モードで発振する周波数可変レーザー発振器とを有し、
    前記周波数可変レーザー発振器は、周波数選択手段と、ビーム拡大手段と、発振媒体手段と、出力結合手段とを含み、かつ前記周波数選択手段に含まれるグレーティングと前記出力結合手段間の光路長により規定される共振器長を有する、レーザー発振装置において、
    所望の掃引発振周波数に対応する前記気体の圧力値と屈折率とを逐次計算する手段と、
    前記計算する手段により逐次計算された圧力値に応じて前記気体の圧力を変化させる圧力変化手段と、
    前記の逐次計算された気体の屈折率に基づいて単一縦モードを維持するように前記共振器長を変化させる手段と、
    前記気体の圧力の変化に起因する前記ビーム拡大手段のレーザー光の屈折角の変化を補正するため、前記周波数選択手段の前記ビーム拡大手段に対して設定された角度を前記の逐次計算された気体の屈折率に応じて変化させる手段と
    を備えることを特徴とする単一縦モード周波数掃引型レーザー発振装置。
  3. 請求項2記載の単一縦モード周波数掃引型レーザー発振装置において、
    前記気体の圧力と温度とを測定する手段を更に設け、
    前記計算する手段が、前記の測定された圧力と温度とに基づいて所望の掃引発振周波数に対応する前記気体の圧力値と屈折率とを逐次計算することを特徴とする単一縦モード周波数掃引型レーザー発振装置。
  4. 所定の気体を内部に含む密閉された容器の内部に配置された単一縦モードで発振する周波数可変レーザー発振器の発振周波数を安定化する方法において、
    前記気体の圧力及び温度を測定するステップと、
    異なる時間に測定された圧力及び温度とに基づいて前記気体の屈折率を一定にするための圧力の補正量を計算するステップと、
    前記の計算された圧力の補正量に応じて前記気体の圧力を変化させるステップと
    を備えることを特徴とする方法。
  5. 所定の気体を内部に含む密閉された容器と、前記容器の内部に配置され単一縦モードで発振する周波数可変レーザー発振器とを有し、
    前記周波数可変レーザー発振器は、周波数選択手段と、ビーム拡大手段と、発振媒体手段と、出力結合手段とを含み、かつ前記周波数選択手段に含まれるグレーティングと前記出力結合手段間の光路長により規定される共振器長を有する、レーザー発振装置を単一縦モードで周波数を掃引する方法において、
    所望の掃引発振周波数に対応する前記気体の圧力値と屈折率とを逐次計算するステップと、
    前記の逐次計算された圧力値に応じて前記気体の圧力を変化させるステップと、
    前記の逐次計算された気体の屈折率に基づいて単一縦モードを維持するように前記共振器長を変化させるステップと、
    前記気体の圧力の変化に起因する前記ビーム拡大手段のレーザー光の屈折角の変化を補正するため、前記周波数選択手段の前記ビーム拡大手段に対して設定された角度を前記の逐次計算された気体の屈折率に応じて変化させるステップと
    を備えることを特徴とする方法。
  6. 請求項5記載の方法において、
    前記気体の圧力と温度とを測定するステップを更に設け、
    前記計算するステップが、前記の測定された圧力と温度とに基づいて所望の掃引発振周波数に対応する前記気体の圧力値と屈折率とを逐次計算することを特徴とする方法。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10018778A1 (de) * 2000-04-15 2001-10-18 Zeiss Carl Jena Gmbh Verfahren und Anordnung zur Selbstkalibrierung eines diodengepumpten Festkörperlasers, insbesondere eines durchstimmbaren, diodengepumpten Festkörperlasers
US6842286B2 (en) * 2002-09-03 2005-01-11 Agilent Technologies, Inc. Optical system and methods that compensate for changes in atmospheric conditions
US7218443B2 (en) * 2003-02-25 2007-05-15 Toptica Photonics Ag Generation of tunable light pulses
JP2007027458A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Mitsutoyo Corp レーザ装置及びその調整方法
US8905760B2 (en) * 2008-11-04 2014-12-09 Duane C. Keller Methods and systems for progressively treating and controlling oral periopathogens causing systemic inflammations
US8956161B2 (en) 2008-11-04 2015-02-17 Duane C Keller Article and method for controlling oral-originated systemic disease
US8591229B2 (en) 2010-12-16 2013-11-26 Duane C. Keller Devices and methods for creating a positive pressure environment for treatment of oral biofilms associated with periodontal disease

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3596201A (en) * 1970-06-08 1971-07-27 Hughes Aircraft Co Frequency stabilized laser
US4398293A (en) * 1981-09-08 1983-08-09 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Frequency stabilization for two-mode laser
US4429392A (en) * 1981-12-21 1984-01-31 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Laser output controlling device
JPS6021582A (ja) * 1983-07-15 1985-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd レ−ザ温調装置
DE3714503C2 (de) * 1987-04-30 1995-07-27 Lambda Physik Forschung Steuerschaltung für einen gepulsten Gas-Laser und Verfahren zum Initialisieren der Steuerschaltung
CA1313688C (en) * 1987-10-28 1993-02-16 Hitsoshi Wakata Method of stabilizing a wavelength of a laser beam and wavelength stabilizing laser device
US5063568A (en) * 1988-09-05 1991-11-05 Fujitsu Limited Wavelength stabilized light source
GB2224389B (en) * 1988-10-20 1993-04-21 Mitsubishi Electric Corp Laser device with wavelength stabilization control and method of operating the same
US5130998A (en) * 1990-02-21 1992-07-14 Mitsubiski Denki Kaubshiki Kaisha Laser device with oscillation wavelength control
JPH05312646A (ja) * 1992-05-15 1993-11-22 Mitsubishi Electric Corp 波長測定装置およびこれを搭載したレーザ装置
JP3033649B2 (ja) * 1993-06-30 2000-04-17 安藤電気株式会社 光周波数制御装置

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