JPS6296843U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6296843U JPS6296843U JP18921485U JP18921485U JPS6296843U JP S6296843 U JPS6296843 U JP S6296843U JP 18921485 U JP18921485 U JP 18921485U JP 18921485 U JP18921485 U JP 18921485U JP S6296843 U JPS6296843 U JP S6296843U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- excimer laser
- reduction projection
- projection exposure
- exposure apparatus
- surface plate
- Prior art date
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- Pending
Links
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Description
第1図は本考案の一実施例を示す全体構成図、
第2図は第1図のA―A断面図、第3図および第
4図はそれぞれ従来のエキシマレーザの外観図で
ある。 20…エキシマレーザ、21…レーザチヤンバ
ー、22…ケース、23…フロントミラー、24
…リアミラー、25…エタロン、30…定盤、4
0…フレーム、41,42,43…支持部、44
,45…ポール、50…露光装置、51…プリズ
ム、52…縮小投影レンズ、53…ウエーハ面。
第2図は第1図のA―A断面図、第3図および第
4図はそれぞれ従来のエキシマレーザの外観図で
ある。 20…エキシマレーザ、21…レーザチヤンバ
ー、22…ケース、23…フロントミラー、24
…リアミラー、25…エタロン、30…定盤、4
0…フレーム、41,42,43…支持部、44
,45…ポール、50…露光装置、51…プリズ
ム、52…縮小投影レンズ、53…ウエーハ面。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 光学系を振動発生源と独立して定盤に固定
してなるエキシマレーザと、このエキシマレーザ
からのエキシマレーザ光を光源とする露光手段と
を具えた縮小投影露光装置。 (2) 前記エキシマレーザの光学系は、フロント
ミラー、リアミラーおよび波長選択手段とからな
る実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の縮小投
影露光装置。 (3) 前記波長選択手段はエタロンである実用新
案登録請求の範囲第(2)項記載の縮小投影露光装
置。 (4) 前記振動発生源は前記エキシマレーザのレ
ーザチヤンバーである実用新案登録請求の範囲第
(1)項記載の縮小投影露光装置。 (5) 前記露光手段は前記定盤に固定される実用
新案登録請求の範囲第(1)項記載の縮小投影露光
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18921485U JPS6296843U (ja) | 1985-12-09 | 1985-12-09 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18921485U JPS6296843U (ja) | 1985-12-09 | 1985-12-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6296843U true JPS6296843U (ja) | 1987-06-20 |
Family
ID=31141302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18921485U Pending JPS6296843U (ja) | 1985-12-09 | 1985-12-09 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6296843U (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS498475A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-01-25 | ||
JPS5021582A (ja) * | 1973-06-30 | 1975-03-07 | ||
JPS5023646A (ja) * | 1973-07-02 | 1975-03-13 | ||
JPS5250685U (ja) * | 1975-10-09 | 1977-04-11 | ||
JPS6021582A (ja) * | 1983-07-15 | 1985-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ温調装置 |
-
1985
- 1985-12-09 JP JP18921485U patent/JPS6296843U/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS498475A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-01-25 | ||
JPS5021582A (ja) * | 1973-06-30 | 1975-03-07 | ||
JPS5023646A (ja) * | 1973-07-02 | 1975-03-13 | ||
JPS5250685U (ja) * | 1975-10-09 | 1977-04-11 | ||
JPS6021582A (ja) * | 1983-07-15 | 1985-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ温調装置 |