JPS63111686A - 空調装置 - Google Patents
空調装置Info
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- JPS63111686A JPS63111686A JP61256985A JP25698586A JPS63111686A JP S63111686 A JPS63111686 A JP S63111686A JP 61256985 A JP61256985 A JP 61256985A JP 25698586 A JP25698586 A JP 25698586A JP S63111686 A JPS63111686 A JP S63111686A
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- gas
- cooling
- laser
- cooled
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- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 title 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 5
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/042—Arrangements for thermal management for solid state lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は空調装置にかかるものであり、例えばアライ
メント用に利用されるレーザ発振手段を安定に動作させ
るための空調装置に関するものである。
メント用に利用されるレーザ発振手段を安定に動作させ
るための空調装置に関するものである。
[従来の技術]
集積回路製造用の露光装置では、例えばレチクルとウェ
ハとのアライメントを行うために、レーザ発振手段が備
えられている場合がある。
ハとのアライメントを行うために、レーザ発振手段が備
えられている場合がある。
このレーザ発振手段は、その動作を安定して行わせる必
要から、冷却を行って一定雰囲気に保つ必要がある。
要から、冷却を行って一定雰囲気に保つ必要がある。
従来の空調装置では、適宜のヂャンバや工場建屋など(
以下、単に「筐体」と総称する)に収容された露光装置
とともに、レーザ発振手段の冷却も行われている。すな
わち、レーザ発振手段は、露光装置とともに該筐体内て
一定温度雰囲気に保たれており、レーザ光源のみを独自
に一定温度に保つ手段は特に設けられていない。
以下、単に「筐体」と総称する)に収容された露光装置
とともに、レーザ発振手段の冷却も行われている。すな
わち、レーザ発振手段は、露光装置とともに該筐体内て
一定温度雰囲気に保たれており、レーザ光源のみを独自
に一定温度に保つ手段は特に設けられていない。
[発明が解決しようとする問題点コ ′しかし
ながら以上のような従来の空調装置では、他の被冷却装
置部分、例えば露光装置を冷却した気体がレーザ発振手
段に当ることかあるため、レーザ発振手段の冷却が良好
に行われなくなるという不都合がある。
ながら以上のような従来の空調装置では、他の被冷却装
置部分、例えば露光装置を冷却した気体がレーザ発振手
段に当ることかあるため、レーザ発振手段の冷却が良好
に行われなくなるという不都合がある。
また、レーザ発振手段自体が熱源となり、ここて暖めら
れた気体か他の被冷却装置部分に熱的に影響を及ぼすと
いう不都合もある。
れた気体か他の被冷却装置部分に熱的に影響を及ぼすと
いう不都合もある。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、被冷
却装置とともに筺体内に収容されたレーザ発振手段を、
他の装置部分に悪影響を及ぼずことなく良好に冷却して
その動作の安定化を図ることかできる空調装置を提供す
ることを、その目的とするものである。
却装置とともに筺体内に収容されたレーザ発振手段を、
他の装置部分に悪影響を及ぼずことなく良好に冷却して
その動作の安定化を図ることかできる空調装置を提供す
ることを、その目的とするものである。
[問題点を解決するための手段]
この発明にかかる空調装置は、筐体内の他の部分から陽
動してレーザ発振手段を収容する容器と、この容器内に
冷却された冷却気体を導入する気体導入手段と、前記容
器内でレーザ発振手段の冷却に寄与した気体を筺体外部
に排出する気体排出手段とを備えることにより、上記問
題点を解決したものである。
動してレーザ発振手段を収容する容器と、この容器内に
冷却された冷却気体を導入する気体導入手段と、前記容
器内でレーザ発振手段の冷却に寄与した気体を筺体外部
に排出する気体排出手段とを備えることにより、上記問
題点を解決したものである。
[作用]
この発明においては、レーザ発振手段が容器内に収容さ
れているため、他の被冷却装置部分からの気体による悪
影響が低減される。
れているため、他の被冷却装置部分からの気体による悪
影響が低減される。
レーザ発振手段の冷却は、気体導入手段によって容器内
に導入された冷却気体によって行われる。
に導入された冷却気体によって行われる。
そして、レーザ発振手段の冷却に寄与した気体は、気体
排出手段によって、他の被冷却装置部分に影響を及ぼす
ことなく、筺体外に排出される。
排出手段によって、他の被冷却装置部分に影響を及ぼす
ことなく、筺体外に排出される。
[実施例コ
以下、本発明の実施例を、添付図面を参照しながら詳細
に説明する。
に説明する。
第1図には、本発明の一実施例か示されており、第2図
には、この実施例の主要部分が拡大して示されている。
には、この実施例の主要部分が拡大して示されている。
これら第1図および第2図において、筐体10の内部に
は、露光装置12か収容されている。この露光装置12
の適宜肩部には、レーザ発振器14が配貨されている。
は、露光装置12か収容されている。この露光装置12
の適宜肩部には、レーザ発振器14が配貨されている。
筐体10の側方適宜位置には、空気の吸入口16と排気
口18とか各々設りられている。そして、吸入口16側
には、空気冷却用の空調器20が設けられている。
口18とか各々設りられている。そして、吸入口16側
には、空気冷却用の空調器20が設けられている。
この空調器20によって冷却された空気は、−方におい
て、本体用送風装置22により露光装置12の方に送ら
れ、他方において、ダクト24に送られるようになって
いる。
て、本体用送風装置22により露光装置12の方に送ら
れ、他方において、ダクト24に送られるようになって
いる。
このダクト24は、レーザ発振器14が収容されている
容器26に、送風装置28を介して接続されている。こ
の送風装置28は、適当な速度でレーザ発振器14に冷
却空気(クリーン・エア)を送るためのものである。
容器26に、送風装置28を介して接続されている。こ
の送風装置28は、適当な速度でレーザ発振器14に冷
却空気(クリーン・エア)を送るためのものである。
レーザ発振器14は、適宜の架台30上に固定されてお
り、そのレーザ光は、バイブ32を介して露光装置12
の方に出力されるようになっている。バイブ32は、レ
ーザ光が外部に露出しないようにするためのものである
。
り、そのレーザ光は、バイブ32を介して露光装置12
の方に出力されるようになっている。バイブ32は、レ
ーザ光が外部に露出しないようにするためのものである
。
次に、上述した容器26には、レーザ発振器14をはさ
んで略反対側に、排気ダクト34が接続されており、こ
の排気ダクト34は、排気装置38を介して排気口18
に接続されている。
んで略反対側に、排気ダクト34が接続されており、こ
の排気ダクト34は、排気装置38を介して排気口18
に接続されている。
次に、上記実施例の全体的作用について説明する。吸入
口16から吸入された空気は、空調器20の作用により
、適宜の温度、湿度となるように調整される。そして、
この冷却空気は、一方において、本体用送風装置22に
より露光装置12の方へ送られ(矢印FA参照)、他方
において、ダクト24の方へ送られる(矢印FB参照)
。
口16から吸入された空気は、空調器20の作用により
、適宜の温度、湿度となるように調整される。そして、
この冷却空気は、一方において、本体用送風装置22に
より露光装置12の方へ送られ(矢印FA参照)、他方
において、ダクト24の方へ送られる(矢印FB参照)
。
矢印FA方向の冷却空気は、露光装置12を冷却し、そ
の後排気装置36の作用により、筐体10外に排気され
る。このとき、露光装置12を冷却した空気はレーザ発
振器14の方向に流れる。しかし、容器26の作用によ
り、該空気が直接レーザ発振器14に当るのが防止され
る。
の後排気装置36の作用により、筐体10外に排気され
る。このとき、露光装置12を冷却した空気はレーザ発
振器14の方向に流れる。しかし、容器26の作用によ
り、該空気が直接レーザ発振器14に当るのが防止され
る。
矢印FB方向の冷却空気は、タクト24を通過し、更に
は、送風装置28によって容器26内に導かれる(矢印
FC参照)。そして、ここでレーザ発振器14を冷却す
る。
は、送風装置28によって容器26内に導かれる(矢印
FC参照)。そして、ここでレーザ発振器14を冷却す
る。
レーザ発振器14を冷却した空気は、排気ダク)・34
を通過して、排気装置36により、排気口18から筐体
10外部に排気される(矢印FD、FE参照)。
を通過して、排気装置36により、排気口18から筐体
10外部に排気される(矢印FD、FE参照)。
なお、本発明は何ら上記実施例に限定されるものではな
く、例えばレーザ発振器としては、ガスレーザ、半導体
などの固体レーザなと種々のものが適用可能である。
く、例えばレーザ発振器としては、ガスレーザ、半導体
などの固体レーザなと種々のものが適用可能である。
また、上記実施例では、被冷却装置として露光装置が筐
体内に収容されている場合を示したが、その他、ウェハ
のレーザ加工装置や、検査測定装置などに刻してもこの
発明は適用されるものである。
体内に収容されている場合を示したが、その他、ウェハ
のレーザ加工装置や、検査測定装置などに刻してもこの
発明は適用されるものである。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれは、レーザ発振手段
を容器内に収容することとしたので、筐体内の他の被冷
却装置部分の冷却に寄与した空気による悪影響が低減さ
れるという効果がある。
を容器内に収容することとしたので、筐体内の他の被冷
却装置部分の冷却に寄与した空気による悪影響が低減さ
れるという効果がある。
また、冷却空気を、気体導入手段によって直接語容器内
に導入すこととしたので、レーザ発振手段の冷却を良好
に行って安定したレーザ発振を行うことができ、このレ
ーザ光を用いる位置測定ないし位置決めの精度の向上を
図ることができるという効果がある。
に導入すこととしたので、レーザ発振手段の冷却を良好
に行って安定したレーザ発振を行うことができ、このレ
ーザ光を用いる位置測定ないし位置決めの精度の向上を
図ることができるという効果がある。
更に、レーザ手段の冷却に寄与した空気を、気体排出手
段によって筐体外に排出することとしたので、該空気に
よる筐体内の他の被冷却装置の各部分に対する悪影響が
低減されるという効果もある。
段によって筐体外に排出することとしたので、該空気に
よる筐体内の他の被冷却装置の各部分に対する悪影響が
低減されるという効果もある。
第1図は本発明の一実施例にかかる空調装置を示す一部
破断した正面図、第2図は第1図の実施例の主要部分を
示す斜視図である。 10・・・筐体、12・・・露光装置、14・・・レー
ザ発振器、16・・・吸入口、18・・・排気口、20
・・・空調器、22・・・本体用送風装置、24・・・
ダクト、26・・・容器、28・・・送風装置、34・
・・排気ダクト、36・・・排気装置。
破断した正面図、第2図は第1図の実施例の主要部分を
示す斜視図である。 10・・・筐体、12・・・露光装置、14・・・レー
ザ発振器、16・・・吸入口、18・・・排気口、20
・・・空調器、22・・・本体用送風装置、24・・・
ダクト、26・・・容器、28・・・送風装置、34・
・・排気ダクト、36・・・排気装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レーザ発振手段が近接して配置された被冷却装置を内部
に有する筐体内を、冷却気体によって所定雰囲気に冷却
調整する空調装置において、前記レーザ発振手段を内部
に収容する容器と、該容器に前記冷却気体を導入して、
前記レーザ発振手段を冷却する気体導入手段と、 冷却に寄与した前記容器内の気体を前記筐体外に排出す
るための気体排出手段とを備えたことを特徴とする空調
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61256985A JP2546243B2 (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | 空調装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61256985A JP2546243B2 (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | 空調装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63111686A true JPS63111686A (ja) | 1988-05-16 |
JP2546243B2 JP2546243B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=17300125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61256985A Expired - Lifetime JP2546243B2 (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | 空調装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2546243B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219238A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置 |
JP2016081993A (ja) * | 2014-10-14 | 2016-05-16 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ共振器、レーザ加工装置及びレーザ共振器の除湿方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4723952U (ja) * | 1971-03-23 | 1972-11-17 | ||
JPS4966372U (ja) * | 1972-09-25 | 1974-06-10 | ||
JPS6021582A (ja) * | 1983-07-15 | 1985-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ温調装置 |
-
1986
- 1986-10-30 JP JP61256985A patent/JP2546243B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4723952U (ja) * | 1971-03-23 | 1972-11-17 | ||
JPS4966372U (ja) * | 1972-09-25 | 1974-06-10 | ||
JPS6021582A (ja) * | 1983-07-15 | 1985-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ温調装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219238A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置 |
JP2016081993A (ja) * | 2014-10-14 | 2016-05-16 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ共振器、レーザ加工装置及びレーザ共振器の除湿方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2546243B2 (ja) | 1996-10-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |