JP2001250759A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハステージで発生した熱による空気ゆら
ぎの悪影響を受けることなく、ウエハの焦点位置検出を
行うことができる露光装置を提供する。 【解決手段】 投影光学系ＵＬとウエハＷ及びウエハＷ
を載置しているウエハステージ１８の間に遮蔽板２７を
設け、遮蔽板２７により、投影光学系ＵＬ及び投影光学
系ＵＬとウエハＷとの光軸方向の焦点位置を検出する焦
点位置検出系ＯＰが構成する光学系空間と、ウエハＷ及
びウエハＷを載置しているウエハステージ１８が構成す
るステージ空間とを分離し、遮蔽板２７によって遮られ
た前記光学系空間及び前記ステージ空間に温度制御され
た空気を送風する、又は吸引する空調手段３２，３４，
３６，３３，３５，３７を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、位置検出装置及び
それを用いたデバイスの製造方法に関し、例えばＩＣや
ＬＳＩ等の半導体デバイスやＣＣＤ等の撮像デバイスや
液晶パネル等の表示デバイスや磁気ヘッド等のデバイス
を製造する工程のうち、リソグラフィ工程において使用
される投影露光装置に関する。特に、オートフォーカス
が空気ゆらぎに起因して精度劣化を起こす問題を解決す
ることができる露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体素子や液晶表示素子製造の
リソグラフィ工程では、原版であるマスク又はレチクル
（以下、レチクルと称す）のパターンを投影光学系を介
して感光性の基板（例えば、表面にレジスト層が形成さ
れたウエハやガラスプレート）上に転写する装置とし
て、ステップ・アンド・リピート方式の投影型露光装置
（ステッパ）、及びステップ・アンド・スキャン方式の
投影型露光装置（スキャン）が多用されている。

【０００３】この種の露光装置では、ウエハがチャック
に吸着されてウエハステージ上に載置されており、ウエ
ハステージごとウエハを移動させてウエハ上の被露光位
置を変えながら投影露光を繰り返している。

【０００４】ウエハの相対位置を計測するためには、ウ
エハステージに固定された反射鏡に周波数が安定された
レーザビームを投射するレーザ干渉計によりステージ位
置の計測が行われている。

【０００５】一般に、レーザ干渉計を用いるにあたって
は、空気の密度変化（屈折率変化）によって波長が変動
し、測定誤差を生じることを防止するために、干渉計を
空気の温度、湿度がコントロールできる特別なチャンバ
に配置して温度±０．１℃、湿度±１５％程度に空調制
御されている。

【０００６】また、レーザ干渉計を配置しているステー
ジ空間には、投影光学系の露光フィールド内の中央の計
測点あるいは複数の計測点でのウエハの焦点位置（高
さ）検出するために、ウエハ表面に対して送光系から光
を斜めに照射し、その反射光を受光系が受光する、いわ
ゆる斜入射式の焦点位置検出系が備えられている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】通常、露光装置を覆う
チャンバ内では、従来の技術で示したように温度、圧力
及び湿度等を所定の値に保つために空調されている。し
かし、ステージ駆動用のモータ、露光照明光等の熱源が
多く、空気のゆらぎ原因となっている。また、ステージ
の移動により測定用ビームに対するチャンバ吹出し口か
らの風の当り方の条件が変わることや、熱源によって暖
まった空気を攪拌してしまうことによってもステージ空
間の温度が変動してしまい、空気のゆらぎ（空気ゆら
ぎ）が生じることになる。すると、一定条件にチャンバ
内を空調した場合でも、かなりの容積を有するチャンバ
内の温度を完全に均一にすることが困難となる。このた
め、局所的に温度が異なる空気の塊が存在し、この塊が
ウエハステージの位置計測を行う干渉計や焦点位置検出
系の測定ビームを横切ることが原因で、要求される精度
に影響を与えない程度にまで温度による空気ゆらぎを低
減することはできなかった。

【０００８】とりわけ、投影光学系の下端部両サイドに
投光系、受光系が設けられている斜入射方式の焦点位置
検出系においては、空気にさらされる光路が長いため、
空気ゆらぎの影響を受け易い。

【０００９】本発明は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、ウエハステージで発生した熱による空気ゆ
らぎの悪影響を受けることなく、ウエハの焦点位置検出
を行うことができる露光装置を提供することを課題とす
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段及び作用】上記課題を解決
するために、本発明の露光装置は、原版に形成されたパ
ターンの像を投影光学系を介して基板上に転写する露光
装置において、前記投影光学系と、前記基板及び該基板
を載置している基板ステージの間に遮蔽板が設けられ、
前記遮蔽板は、前記投影光学系及び前記投影光学系と前
記基板との光軸方向の焦点位置を検出する焦点位置検出
系が構成する光学系空間と、前記基板及び該基板を載置
している基板ステージが構成するステージ空間とを分離
し、前記遮蔽板によって遮られた前記光学系空間及び前
記ステージ空間の各々に空調気体を送風及び／又は吸引
する空調手段を有することを特徴とする。

【００１１】本発明においては、前記光学系空間におけ
る前記投影光学系及び前記焦点位置検出系を前記遮蔽板
と遮蔽部材で覆い、前記投影光学系及び前記焦点位置検
出系の光路を前記遮蔽板と前記遮蔽部材とによる空間内
に収め、該空間を前記空調手段により送風及び／又は吸
引することができる。また、前記空調手段により送風さ
れた空調気体の吹出し方向は、前記焦点位置検出系の光
束の光路に対して垂直方向であることが望ましい。

【００１２】また、前記遮蔽板は、前記投影光学系の露
光光束及び前記焦点位置検出系の光束が通過する部分に
穴が空けられたものであることが望ましい。また、前記
穴付近に前記空調手段を配置させ、前記ステージ空間か
らの暖まった空気が該穴から前記光学系空間へ進入する
ことを防ぐことができる。また、前記穴の部分に光学部
材が設けられることが望ましい。

【００１３】また、前記空調気体が送風される吹出し口
付近及び／又は吸引する吸込み口付近、前記投影光学系
の露光光束の光路付近、並びに前記焦点位置検出系の光
束の光路付近のいずれか１箇所以上に温度センサ及び／
又は風速センサを設けることができる。

【００１４】また、前記空調手段は、前記空調気体の温
度及び／又は風速を制御する制御部を有し、前記制御部
は、前記温度センサ及び／又は前記風速センサからの検
出値に応じて、前記空調手段により送風される空調気体
の温度を制御する温度可変手段と、前記空調手段の吹出
し口からの送風量及び／又は前記空調手段の吸込み口か
らの吸引量を制御する風速可変手段とをそれぞれ制御す
ることができる。

【００１５】また、前記空調手段の吹出し口に空調気体
の吹出し面積を微小な面積に細分化する細分化手段を配
置させ、該細分化手段により前記吹出し口の内部を通過
する空気の温度を均一し、かつ層流とすることができ
る。

【００１６】そして、前記遮蔽板は、断熱材からなる
か、又は断熱効果を有する構造であることが望ましい。

【００１７】更に、前記露光装置を用いてデバイスを製
造することができる。上記の露光装置によれば、基板ス
テージの駆動部の熱によって発生する空気ゆらぎを焦点
位置検出系の光路及びその周辺で抑制することができ
る。従って、焦点位置検出系の計測精度を向上させるこ
とができる。

【００１８】

【実施例】次に、本発明の実施例について具体的に説明
する。 ［露光装置の実施例］図１は、本発明の適用対象である
露光装置の全体の構成例を示す側面図である。図１にお
いて、１は水銀ランプである。水銀ランプ１からの露光
光ＩＬは楕円鏡２で焦光された後に、インプットレンズ
３でほぼ平行光束に変換される。楕円鏡２とインプット
レンズ３との間にシャッタ４が配置され、駆動モータ５
によりそのシャッタ５を閉じることにより、露光光ＩＬ
のインプットレンズ３に対する供給を停止することがで
きる。６は装置全体の動作を制御する主制御系を示し、
主制御系６が駆動モータ５の動作を制御する。なお、水
銀ランプ１の他に、ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザ等の
パルスレーザ光源又はその他の光源を使用できる。

【００１９】インプットレンズ３から射出された露光光
ＩＬは、オプティカルインテグレータとしてのフライア
イレンズ７に入射し、フライアイレンズ７の射出側（レ
チクルＲ側）の焦平面に多数の２次光源が形成される。
また、この２次光源の形成面には可変開口絞り８が配置
されている。

【００２０】前記可変開口絞り８の開口部、すなわち２
次光源より射出された露光光ＩＬは、第１リレーレンズ
９、可変レチクルブラインド１０及び第２リレーレンズ
１１を経て主コンデンサレンズ１２に入射する。主コン
デンサレンズ１２により適度に集光された露光光ＩＬが
ミラー１３でほぼ鉛直下方に反射されて、ほぼ均一な照
度で原版であるレチクルＲを照明する。この場合、可変
レチクルブラインド１０はレチクルＲと共役な面に配置
され、レチクルＲに対する露光光ＩＬの照明視野絞りと
して機能する。主制御系６は、駆動装置１４を介して可
変レチクルブラインド１０の開口部の形状を所定の状態
に設定する。

【００２１】レチクルＲのパターン領域を通過した露光
光ＩＬは、投影光学系ＵＬにより基板であるウエハＷ上
のショット領域に集束され、これによりレチクルＲのパ
ターンがウエハＷのそのショット領域に所定の縮小倍率
で転写される。投影光学系ＵＬのフーリエ変換面（瞳
面）はフライアイレンズ７の２次光源形成面と共役であ
る。

【００２２】レチクルＲはレチクルホルダ１５上に保持
され、レチクルホルダ１５はレチクルステージ１６上に
載置されている。レチクルＲは、レチクルステージ１６
に構成されているレチクル基準マークに対して位置決め
されている。

【００２３】ウエハＷはウエハホルダ１７上に保持さ
れ、ウエハホルダ１７はウエハステージ１８上に載置さ
れている。ウエハステージ１８は、投影光学系ＵＬの光
軸に垂直な面内でウエハＷを２次元的に位置決めするＸ
Ｙステージ及び投影光学系ＵＬの光軸に平行な方向にウ
エハＷを位置決めするＺステージ等より構成されてい
る。

【００２４】ウエハステージ１８はＸＹステージの上面
に移動ミラー１９を配置し、レーザ干渉計２０からのレ
ーザ光を移動ミラー１９で反射することにより、ウエハ
ステージ１８の投影光学系ＵＬの光軸に垂直な面内での
座標を検出することができる。この座標情報を主制御系
６、及び後述の座標計測回路２１に供給する。主制御系
６は、供給された座標をモニタしつつ、ウエハステージ
駆動部２２を介してウエハステージ１８の位置決めを制
御する。

【００２５】２３はＴＴＬ（Ｔｈｒｏｕｇｈ Ｔｈｅ
Ｌｅｎｓ）方式のアライメント光学系を示す。このアラ
イメント光学系２３からのアライメント光を投影光学系
ＵＬに導くためのミラー２４が、レチクルＲと投影光学
系ＵＬとの間に配置されている。また、ウエハＷの各シ
ョット領域の近傍にはそれぞれＸ軸用のアライメントマ
ーク（ウエハマーク）及びＹ軸用のウエハマークが形成
されている。そして、ウエハＷの所定のショット領域の
座標を計測する場合には、アライメント光学系２３から
のアライメント光をミラー２４及び投影光学系ＵＬを介
してそのショット領域のＸ軸用のウエハマークに照射
し、このウエハマークから反射（又は回折）される光束
を投影光学系ＵＬ及びミラー２４を介してアライメント
光学系２３で受光する。アライメント光学系２３では、
そのウエハマークからの光束を用いて、そのウエハマー
クのＸ座標に対応する位置信号を検出して座標計測回路
２１に供給する。

【００２６】座標計測回路２１には、レーザ干渉計２０
で計測された現在のウエハステージ１８のＸ座標及びＹ
座標が常時供給されている。従って、座標計測回路２１
は、ウエハＷのそのショット領域のＸ軸用のウエハマー
クのウエハステージ１８上でのＸ座標を求めることがで
きる。同様に、アライメント光学系２３は、ウエハＷの
Ｙ軸用のウエハマークに対するアライメント光も発生し
ている。そのため、座標検出回路２１は、ウエハＷのそ
のショット領域のＹ軸用のウエハマークのウエハステー
ジ１８上でのＹ座標を求めることができる。これらＸ軸
用のウエハマークの座標及びＹ軸用のウエハマークの座
標により、そのショット領域の２次元的な座標が特定さ
れる。

【００２７】投影光学系ＵＬの下端部両サイドには、焦
点位置検出系であるＡＦ送光系２５とＡＦ受光系２６と
が配置されている。ＡＦ送光系２５は、斜め下方に向け
られており、ウエハＷ表面に向けてＡＦ光を発する。Ａ
Ｆ受光系２６は、ウエハＷ表面で反射してきたＡＦ光を
受光し、その光入射位置（ウエハＷ表面高さ）を検出す
る。このＡＦ信号に基づいて、ウエハステージ１８のＺ
ステージを動かして投影光学系の焦点がウエハＷ表面に
来るようにオートフォーカスをかける。なお、本発明が
適用される露光装置の全体構造は図１に示されるものに
限定されず、公知の他の全体構造を有する露光装置にも
適用できる。

【００２８】図２は、本実施例の露光装置のウエハステ
ージ及び投影光学系周辺の構成を示した図である。図２
（ａ）は紙面垂直方向をＹ軸とし装置正面から見た断面
図であり、図２（ｂ）は紙面垂直方向をＸ軸とした装置
右側面から見た断面図である。ここで、図２における図
１と同一の符号は、図１と同様の構成要素を示す。

【００２９】本実施例の露光装置は、投影光学系ＵＬと
ウエハステージ１８上に載置されているウエハＷとの間
に遮蔽板２７を設けている。この遮蔽板２７は、図２に
示すように、焦点位置検出系ＯＰを支持している定盤２
８に支持されている。

【００３０】本実施例の露光装置の遮蔽板２７によって
分離された光学系空間及びステージ空間には、吹出し口
３２，３４等を有する空調手段により空調された気体が
流れ込む。

【００３１】遮蔽板２７は、ウエハステージ１８を支持
しているステージ基盤２９から支持されていてもよい。
この遮蔽板２７により、ウエハステージ１８の駆動によ
り発生した熱が、暖かい空気の塊となって投影光学系Ｕ
Ｌ及び焦点位置検出系ＯＰを配置している空間（光学系
空間）に伝わることを防止している。また、この遮蔽板
２７の材質は、断熱材からなるか、もしくは図３に示す
ような構造が望ましい。ここで、図３（ａ）及び（ｂ）
は、本実施例に係る遮蔽板２７の断面形状を示す拡大図
である。図３に示すように、遮蔽板２７は２枚の板で丸
パイプ又は角パイプを挿んだ断面構造であり、間に空気
の層を作ることによって断熱効果を図っているものが望
ましい。図２に示すように、この遮蔽板２７には、投影
光学系ＵＬの露光光が通過する部分、及び焦点位置検出
系ＯＰのＡＦ光の通過する部分に穴が空いている。

【００３２】図４は、本実施例に係る遮蔽板２７とウエ
ハＷ間に設けた空調手段を示す拡大図である。ここで、
図４における図１及び図２と同一の符号は、図１及び図
２と同様の構成要素を示す。

【００３３】また、上記した穴から暖まった空気が光学
系空間に進入することを防止するために、図４に示すよ
うに、遮蔽板２７の穴付近に吹出し口３０及び吸込み口
３１を有する空調手段を設けることができる。この空調
手段により、空気を送風、吸引することで、空気の層を
作り、ステージ空間（遮蔽板２７によって分けられたウ
エハＷ及びウエハステージ１８等の配置された空間）で
発生した暖まった空気をこの吸込み口３１で吸引するこ
とによって、光学系空間に進入することを防止してい
る。ここで、図４の矢印は空調手段による空気及びステ
ージ空間で発生した暖まった空気の流れを示している。

【００３４】更に、ステージ空間で発生した暖まった空
気の光学系空間への進入を防止する他の構成として、遮
蔽板２７に設けた穴に、光学部材である平面板を設ける
ことも効果的である。ここで、平面板を設けることによ
り光学性能に悪膨響が及ばないように、平面板の角度等
を微調整する必要がある。

【００３５】また、図２において遮蔽板２７を設けるこ
とで、２つに分割したステージ空間と光学系空間は、ス
テージ空間用空調（吹出し口３２、吸込み口３３）、光
学系空間用空調（吹出し口３４、吸込み口３５）と個別
に空調手段を設けることができる。この結果、従来より
空調容積が縮小できるため、空調効率を向上させること
ができる。

【００３６】更に、３８は遮蔽板２７とともに用いられ
て投影光学系ＵＬ及び焦点位置検出系ＯＰを覆う遮蔽部
材である。つまり、光学系空間を投影光学系ＵＬ、焦点
位置検出系ＯＰ、遮蔽板２７を遮蔽部材３８を用いて結
合することができる。そして、光路を略密閉空間内に収
めて吹出し口３６、吸込み口３７を有する空調手段を設
けることによって、ＡＦ光に関してはより空調容積を縮
小できるため、空調効率を更に向上させることができ
る。

【００３７】このように、遮蔽板２７と遮蔽部材３８で
投影光学系ＵＬ、焦点位置検出系ＯＰを結合すること
は、剛性が不足し易い焦点位置検出系ＯＰの投光側と受
光側の光束を出射、受光する先端部分を補強し、振動に
よる計測精度の低下を防止する効果もある。

【００３８】次に、本実施例の空調手段について詳細に
説明する。図２及び図４より、空調手段である空調装置
によって温度調整され、且つ風速分布が均一化された空
気は、吹出し口３０，３２，３４，３６から送風され
る。吹出し口付近内部には、細分化手段である細分化部
材を配置し、内部を通過する空気の温度の均一化及び層
流化を図る構成とすることが望ましい。かかる細分化部
材は、空気を層流とするために、空気の流れと平行に空
気を細分化する構成となっている。即ち、細分化部材の
形状としては、例えば、図５に示されるように角パイプ
を並べたものが例示される。空気を層流するためにはこ
の細分化部材は空気の流れ方向に一定以上の長さを有す
ることが望ましい。ここで、図５は、本実施例に係る空
調手段の吹出し口３０，３２，３４，３６の形状を示す
斜視図である。

【００３９】また、細分化部材は、空気の温度の均一化
を促進するために、熱伝導性が良く、熱容量の大きい材
料、例えば、金属等で構成するのが望ましい。細分化部
材と空気との接触面積を大きくするために、空気の流れ
に対する抵抗が大きくなり過ぎない範囲で空気流の断面
をできるだけ細分することが望ましい。更に、ゴミ防止
用の空気濾過フィルタを吹出し口に取付けることが望ま
しい。

【００４０】空気の吹出し方向は、図２に示すように、
焦点位置検出系ＯＰの光路に対して垂直方向から当てる
ことが望ましい。これにより、光束のどの部分に対して
も常に温度且つ風速が均一化された空気を当てることが
できるので有効である。吸込み口３１（図４），３３，
３５，３７では、吹出し口３０（図４），３２，３４，
３６から層流化されて送風された空気が光束を通過する
まで層流状態を維持できるように、吸引している。

【００４１】また、焦点位置検出系ＯＰのＡＦ光を略密
閉空間に収めた空調部の吹出し口３６、吸込み口３７の
断面形状は、投影光学系ＵＬの鏡筒部等が層流化された
空気の障害物となり乱流することなく、焦点位置検出系
ＯＰの光路全域に対して層流化された空気が通過できる
ことを考慮した形状であることが望ましい。

【００４２】また、吹出し口３２，３４，３６及び／又
は吸込み口３３，３５，３７付近には、温度センサ及び
風速センサを設けることができる。これらの各センサに
より、常時、空気の温度及び風速をモニタしている。こ
れらのセンサ取付け部に関しては、光束の近傍でもよ
い。

【００４３】そして、各センサで得られた情報（検出
値）を空調装置の制御部（不図示）にフィードバックす
ることにより、常に一定な温度及び風速の空気を流し、
光学系空間部内を定常状態に維持することができる。更
に、この制御部は安定な温度及び風速の空気とするた
め、温度センサ及び風速センサからの測定値に応じて、
空調手段が送風する空気の温度を変化させる温度可変手
段（不図示）と、吹出し口３０（図４），３２，３４，
３６からの送風量及び／又は吸込み口３１（図４），３
３，３５，３７からの吸引量を可変させる風速可変手段
（不図示）とを制御している。

【００４４】なお、本実施例では、空調気体として空気
を用いたが、他の気体を用いることも可能である。

【００４５】［デバイス製造方法の実施例］次に、上記
説明した露光装置を利用したデバイスの製造方法の実施
例を説明する。図６は、微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等
の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等）の製造の流れを示す。ステップ
１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行う。ス
テップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成し
たマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）
ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディン
グ）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含
む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、
これが出荷（ステップ７）される。

【００４６】図７は、上記ウエハプロセスの詳細な流れ
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多
重に回路パターンが形成される。

【００４７】本実施例のデバイス製造方法を用いれば、
従来は製造が難しかった高集積度のデバイスを低コスト
に製造することができる。

【００４８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ウエハやウエハステージ等が配置されている
ステージ空間において、投影光学系とウエハステージの
間に遮蔽板を用いて２つの空間に分離し、空調手段によ
って空調することにより、空調容積が縮小でき、空調効
率を向上させることができる。更には、ウエハステージ
の駆動部の熱によって発生する空気ゆらぎを空調手段に
より焦点位置検出系の光路及びその周辺で抑制すること
ができる。その結果、面位置検出系の計測精度を向上さ
せることが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の適用対象である露光装置の全体の構
成例を示す側面図である。

【図２】 本発明の一実施例に係る露光装置のウエハス
テージ１８及び投影光学系周辺の構成を示した図であ
る。 （ａ）紙面垂直方向をＹ軸とし装置正面から見た断面図
である。 （ｂ）紙面垂直方向をＸ軸とした装置右側面から見た断
面図である。

【図３】 本実施例に係る遮蔽板２７の断面形状の一例
（ａ），（ｂ）を示す拡大図である。

【図４】 本実施例に係る遮蔽板２７とウエハＷ間に設
けた空調手段を示す拡大図である。

【図５】 本実施例に係る空調手段の吹出し口３０，３
２，３４，３６の形状を示す斜視図である。

【図６】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。

【図７】 図６におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。

【符号の説明】

１：水銀ランプ、２：楕円鏡、３：インプットレンズ、
４：シャッタ、５：駆動モータ、６：主制御系、７：フ
ライアイレンズ、８：可変開口絞り、９：第１リレーレ
ンズ、１０：可変レチクルブラインド、１１：第２リレ
ーレンズ、１２：コンデンサレンズ、１３，２４：ミラ
ー、１４：可変レチクルブラインド１０用駆動装置、１
５：レチクルホルダ、１６：レチクルステージ、１７：
ウエハホルダ、１８：ウエハステージ、１９：移動ミラ
ー、２０：レーザ干渉計、２１：座標計測回路、２２：
ウエハステージ１８用駆動部、２３：アライメント光学
系、２５：ＡＦ送光系、２６：ＡＦ受光系、Ｒ：レチク
ル、Ｗ：ウエハ、ＩＬ：露光光、ＵＬ：投影光学系、２
７：遮蔽板、２８：定盤、２９：ステージ基盤、３０：
吹出し口（遮蔽板２７とウエハＷ間）、３１：吸込み口
（遮蔽板２７とウエハＷ間）、３２：吹出し口（ステー
ジ空間）、３３：吸込み口（ステージ空間）、３４：吹
出し口（光学系空間）、３５：吸込み口（光学系空
間）、３６：吹出し口（ＡＦ光用）、３７：吸込み口
（ＡＦ光用）、３８：遮蔽部材、ＯＰ：焦点位置検出
系。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 原版に形成されたパターンの像を投影光
   学系を介して基板上に転写する露光装置において、 前記投影光学系と、前記基板及び該基板を載置している
   基板ステージの間に遮蔽板が設けられ、前記遮蔽板は、
   前記投影光学系及び前記投影光学系と前記基板との光軸
   方向の焦点位置を検出する焦点位置検出系が構成する光
   学系空間と、前記基板及び該基板を載置している基板ス
   テージが構成するステージ空間とを分離し、 前記遮蔽板によって遮られた前記光学系空間及び前記ス
   テージ空間の各々に空調気体を送風及び／又は吸引する
   空調手段を有することを特徴とする露光装置。
2. 【請求項２】 前記光学系空間における前記投影光学系
   及び前記焦点位置検出系を前記遮蔽板と遮蔽部材で覆
   い、前記投影光学系及び前記焦点位置検出系の光路を前
   記遮蔽板と前記遮蔽部材とによる空間内に収め、該空間
   を前記空調手段により送風及び／又は吸引することを特
   徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 【請求項３】 前記空調手段により送風された空調気体
   の吹出し方向は、前記焦点位置検出系の光束の光路に対
   して垂直方向であることを特徴とする請求項１又は２に
   記載の露光装置。
4. 【請求項４】 前記遮蔽板は、前記投影光学系の露光光
   束及び前記焦点位置検出系の光束が通過する部分に穴が
   空けられたものであることを特徴とする請求項１又は２
   に記載の露光装置。
5. 【請求項５】 前記穴付近に前記空調手段を配置させ、
   前記ステージ空間からの暖まった空気が該穴から前記光
   学系空間へ進入することを防ぐことを特徴とする請求項
   ４に記載の露光装置。
6. 【請求項６】 前記穴の部分に光学部材が設けられるこ
   とを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
7. 【請求項７】 前記空調気体が送風される吹出し口付近
   及び／又は吸引する吸込み口付近、前記投影光学系の露
   光光束の光路付近、並びに前記焦点位置検出系の光束の
   光路付近のいずれか１箇所以上に温度センサ及び／又は
   風速センサを設けることを特徴とする請求項１〜６のい
   ずれかに記載の露光装置。
8. 【請求項８】 前記空調手段は、前記空調気体の温度及
   び／又は風速を制御する制御部を有し、前記制御部は、
   前記温度センサ及び／又は前記風速センサからの検出値
   に応じて、前記空調手段により送風される空調気体の温
   度を制御する温度可変手段と、前記空調手段の吹出し口
   からの送風量及び／又は前記空調手段の吸込み口からの
   吸引量を制御する風速可変手段とをそれぞれ制御するこ
   とを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
9. 【請求項９】 前記空調手段の吹出し口に空調気体の吹
   出し面積を微小な面積に細分化する細分化手段を配置さ
   せ、該細分化手段により前記吹出し口の内部を通過する
   空気の温度を均一し、かつ層流とすることを特徴とする
   請求項１〜８のいずれかに記載の露光装置。
10. 【請求項１０】 前記遮蔽板は、断熱材からなるか、又
    は断熱効果を有する構造であることを特徴とする請求項
    １〜９のいずれかに記載の露光装置。
11. 【請求項１１】 請求項１〜１０のいずれかに記載の露
    光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデ
    バイス製造方法。