JP2007173814A - 圧力シールドを組み入れたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】物品を保持し移動させるように構成された可動の物品支持体と、物品、物品支持体、またはそれら両方上に向けるべき放射ビームを制御するように構成された放射制御システムであって、物品が、測定、露光、またはその両方の目的で、可動物品支持体によって放射制御システムに対して移動される、放射制御システムと、圧力波に起因する放射制御システムの変位の抑制を補助するように、放射制御システムから機械的に分離され、物品支持体によって誘起される圧力波をシールドする圧力シールド13とを有する。
【選択図】図4
Description
Claims (21)
- 物品を保持し移動させるように構成された可動の物品支持体と、
前記物品、前記物品支持体、またはそれら両方上に向けるべき放射ビームを制御するように構成された放射制御システムであって、前記物品が、測定、露光、またはその両方の目的で、前記可動物品支持体によって、前記放射制御システムに対して移動される、放射制御システムと、
圧力波に起因する前記放射制御システムの変位の抑制を補助するように、前記放射制御システムから機械的に分離され、前記物品支持体によって誘起される前記圧力波をシールドする圧力シールドと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記圧力シールドが、前記放射制御システムの前記放射ビームの通路を提供する、請求項1に記載の装置。
- 前記圧力シールドが貫通孔を有する、請求項2に記載の装置。
- 前記圧力シールドが、光学的パワーが低い、またはゼロの、ほぼ透明なプレートを備える、請求項2に記載の装置。
- 前記圧力シールドが、前記放射制御システムと共有の計測フレームに取り付けられたプレートを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記圧力シールドが、前記放射制御システムと直接的に共有されない静止フレームに取り付けられたプレートを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記可動物品支持体が、前記圧力シールドによって前記放射制御システムから実質的にシールドされる、請求項1に記載の装置。
- 前記放射制御システムが、パターン化された放射ビームを前記物品のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記放射制御システムが、前記物品、前記物品支持体、またはその両方の一部分上に測定ビームを投影するように、あるいは、前記物品、前記物品支持体、またはその両方の一部分から伝わる測定ビームを検出するように構成された測定システムを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記測定システムが、アライメントシステム、レベルセンサシステム、またはその両方を備える、請求項9に記載の装置。
- 前記測定システムが、干渉測定システムを備える、請求項9に記載の装置。
- 前記物品支持体が、パターニングデバイスを保持するように構成され、前記パターニングデバイスが、前記放射ビームの断面内にパターンを付与するように構成された、請求項1に記載の装置。
- 前記物品支持体が、基板を保持して、パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分上で受け取るように構成された、請求項1に記載の装置。
- パターンを基板に転写するように構成されたリソグラフィ装置であって、
可動かつ基板またはパターニングデバイスを保持するように構成されたテーブルと、
圧力波に起因する、変位の影響を受けやすいデバイスの変位を実質的に抑制するように、前記デバイスに直接接続せずに、前記テーブルの移動によって誘起される前記圧力波から前記デバイスをシールドする圧力シールドとを備える、
リソグラフィ装置。 - 前記変位の影響を受けやすいデバイスが、パターン化された放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムを備える、請求項14に記載の装置。
- 前記圧力シールドが、前記変位の影響を受けやすいデバイスへの、またそのデバイスからの放射ビームに対する通路を提供する、請求項14に記載の装置。
- 前記圧力シールドが、前記変位の影響を受けやすいデバイスが接続された計測フレームに取り付けられたプレートを備える、請求項14に記載の装置。
- 前記圧力シールドが、前記変位の影響を受けやすいデバイスに直接接続されない静止フレームに取り付けられたプレートを備える、請求項14に記載の装置。
- 基板またはパターニングデバイスを保持するテーブルを移動させるステップと、
圧力波によって引き起こされる、変位の影響を受けやすいデバイスの変位を実質的に抑制するように、前記テーブルの前記移動によって誘起される前記圧力波から前記デバイスをシールドするステップと、
パターンを基板に転写するステップと、
を含むデバイス製造方法。 - 前記変位の影響を受けやすいデバイスが、前記パターンを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムを備える、請求項19に記載の方法。
- 前記変位の影響を受けやすいデバイスが、前記テーブル、前記基板、または前記パターニングデバイスの一部分上に測定ビームを投影するように、あるいは、前記テーブル、前記基板、または前記パターニングデバイスの一部分から伝わる測定ビームを検出するように構成された測定システムを備える、請求項19に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/314,156 US7492441B2 (en) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | Lithographic apparatus and device manufacturing method incorporating a pressure shield |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007173814A true JP2007173814A (ja) | 2007-07-05 |
Family
ID=38193233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006338721A Pending JP2007173814A (ja) | 2005-12-22 | 2006-12-15 | 圧力シールドを組み入れたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7492441B2 (ja) |
JP (1) | JP2007173814A (ja) |
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JP6429989B2 (ja) | 2014-08-15 | 2018-11-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及び方法 |
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2005
- 2005-12-22 US US11/314,156 patent/US7492441B2/en active Active
-
2006
- 2006-12-15 JP JP2006338721A patent/JP2007173814A/ja active Pending
-
2009
- 2009-01-16 US US12/355,262 patent/US8218128B2/en active Active
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---|---|
US20090190111A1 (en) | 2009-07-30 |
US8218128B2 (en) | 2012-07-10 |
US20070146656A1 (en) | 2007-06-28 |
US7492441B2 (en) | 2009-02-17 |
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