KR102533089B1 - 스테이지 장치 - Google Patents

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KR102533089B1
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잔-제라드 코르넬리스 반 데르 투른
파울루스 마르티누스 후베르투스 비세르스
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에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
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Abstract

본 발명은 스테이지 장치에 관한 것으로서, 상기 스테이지 장치는, 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블 - 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극과, 상기 전극을 상기 전원에 전기적으로 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함함 - ; 및 상기 전기적 접속부의 적어도 일부를 차폐하도록 구성된 전기장 실드를 포함한다.

Description

스테이지 장치
관련 출원에 대한 교차 참조
본 출원은 2018년 12월 20일에 출원된 EP 출원 18214915.3의 우선권을 주장하며, 이는 그 전문이 본원에 참조로 포함된다.
기술분야
본 발명은 스테이지 장치, 특히 전극을 전원에 전기적으로 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하는 스테이지 장치에 관한 것이다.
본 발명은, 예를 들어 리소그래피 장치, 계측 장치, 입자 빔 장치, 전자 빔 장치, 전자 빔 검사 장치 또는 검사 장치의 일부일 수 있는 스테이지 장치에 관한 것이다.
반도체 프로세스에서는, 필연적으로 결함이 발생한다. 이러한 결함들은 심지어 고장까지 디바이스 성능에 영향을 줄 수 있다. 따라서, 장치 수율은 영향을 받을 수 있으며, 이는 비용을 증가시킨다. 반도체 프로세스 수율을 제어하기 위해, 결함 모니터링이 중요하다. 결함 모니터링에 유용한 하나의 툴은 하나 이상의 전자 빔을 사용하여 시료의 타겟 부분을 스캔하는 SEM(주사 전자 현미경)이다.
시료 상에 조사된 전자 빔(들)에 의한 시료 상의 손상을 회피하거나 적어도 감소시키기 위해, 높은 음의 전압이 전자 빔의 경로에 인가되어 전자 빔이 시료 상에 랜딩하기 전에 전자 빔을 감속시킬 수 있다.
고전압은 예를 들어, 모니터링 동안 시료를 지지하고 유지하기 위해 대상물 테이블에 인가될 수 있다. 이러한 고전압은 바람직하게는 대상물 테이블의 정확한 위치설정을 방해할 수 있는 두꺼운 와이어를 통해 제공된다.
본 발명의 목적은 제한된 최대 전기장 강도를 갖는 동시에 제한된 기계적 강성을 갖는 전기적 접속을 제공하는 것, 또는 적어도 전극을 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속을 갖는 대안적인 스테이지 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은 여러 방식으로 기술되거나 정의될 수 있는 혁신적인 전기적 접속을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것이다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블 - 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극 및 전극을 전원에 전기적으로 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함함 -, 및 전기적 접속부의 적어도 일부를 차폐하도록 구성된 전기장 실드를 포함하는 스테이지 장치에 관한 것이다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블(object table)을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것이며, 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극 및 전극을 전원에 전기적으로 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하고, 전기적 접속부는 원형 원주 상에 배열된 하나 이상의 코일, 또는 하나 이상의 와이어를 포함한다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것으로, 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 전극에 전기적으로 연결된 제1 단자를 전원에 전기적으로 연결되는 제2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함한다. 전기적 접속부는 직경을 갖고 전기적 접속부의 제1 단부와 제2 단부 사이의 제1 방향으로의 거리에 걸쳐 있는 하나 이상의 와이어의 공간 배열을 포함한다. 전기적 접속부는, 사용 시에, 하나 이상의 와이어들의 공간 배열에 의해 정의되는 등가 전기적 직경에 의해 부분적으로 결정되고, 실질적으로 직선으로 배열되고 제1 방향으로의 거리에 걸쳐 있을 때 전기적 등가 와이어의 직경과 동일한 전기장을 생성하도록 구성되고, 전기적 등가 와이어는 실질적으로 동일한 최대 강도를 갖는 전기장을 생성할 것이다. 등가 전기적 직경은 하나 이상의 와이어들의 임의의 직경보다 크다.
일 실시예에서, 전기적 접속부는 기계적 강성을 더 포함하며, 이는 제1 방향으로 단위 길이에 대해 전기적 접속부를 압축 또는 신장시키는데 필요한 힘을 나타내며, 이에 대해 등가의 기계적 직경이 결정된다. 등가의 기계적 직경은 실질적으로 직선으로 배열될 때 그리고 제1 방향으로 거리를 가로질러서 기계적으로 등가인 와이어의 직경과 동일하고, 기계적으로 등가의 와이어는 전기적 접속부와 동일한 기계적 강성을 포함할 것이다. 등가 전기적 직경은 등가 기계적 직경보다 크다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것으로, 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 전극에 전기적으로 연결된 제1 단자를 전원에 전기적으로 연결되는 제2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함한다. 이 실시예에서, 전기적 접속부는 길이 및 직경을 각각 갖는 하나 이상의 와이어를 포함하고, 이는 사용시 각각의 와이어의 길이를 따른 위치의 적어도 예를 들어 75%, 80%, 85%, 90%, 95%, 또는 99%에 대해 와이어들 중 하나의 적어도 하나의 와이어 세그먼트가 와이어의 상기 위치의 부근에 배치되도록 배열된다. 근처에 배치되는 것은, 예를 들어 와이어의 직경의 4배, 5배 또는 6배 이하의 거리에서 상기 위치에서 와이어에 수직인 방향으로 배치되는 것으로 정의된다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것으로, 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 전극에 전기적으로 연결된 제1 단자를 전원에 전기적으로 연결되는 제2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함한다. 전기적 접속부는 전기 전도성 물질을 포함하고, 전기적 접속부의 제1 단부와 제2 단부 사이의 제1 방향으로의 거리에 걸쳐 있다. 이 실시예에서, 전기적 접속부는 실질적으로 모든 전기 전도성 물질을 포함하도록 정의되는 가상 인벨로프 볼륨을 더 포함하고, 전기적 접속부의 외부 부분들은 가상 엔벌로핑 볼륨의 외부 경계들을 정의하고, 가상 엔빌로킹 볼륨은 적어도, 예를 들어, 가상 엔벨로프 볼륨의 1%, 5% 또는 10%의 볼륨을 갖는 보이드(void)를 포함한다. 가상 인벨로프 볼륨의 각각의 단면에 대해, 단면 내의 전기 전도성 물질의 총 면적은 상기 단면의 면적보다 작다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것으로, 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 전극에 전기적으로 연결된 제1 단자를 전원에 전기적으로 연결되는 제2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함한다. 전기적 접속부는 직경을 갖고 전기적 접속부의 제1 단부와 제2 단부 사이의 거리에 걸쳐 있는 하나 이상의 와이어를 포함하고, 전기적 접속부는 전기적 접속부에 의해 생성된 최대 전기장 강도가 동일한 직경의 직선 와이어에 의해 생성되고 동일한 거리에 걸쳐있는 최대 전기장 강도보다 작도록 배열된다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것으로, 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 전극에 전기적으로 연결된 제1 단자를 전원에 전기적으로 연결되는 제2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함한다. 이 실시예에서, 전기적 접속부는 전기적 접속부의 제1 단부와 제2 단부 사이에 복수의 루프를 포함하는 적어도 하나의 와이어를 포함하고, 복수의 루프는 서로 실질적으로 평행하게 배열되어, 사용 중에, 인접한 루프의 대응하는 부분이 예를 들어 와이어의 직경의 4배, 5배 또는 6배 이하의 거리에 걸쳐 이격된다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것으로, 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 전극에 전기적으로 연결된 제1 단자를 전원에 전기적으로 연결되는 제2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함한다. 이 실시예에서, 전기적 접속부는 번들 커넥터로서 배열되고 단일 평면에 배열되지 않은 복수의 와이어를 포함하고, 번들 커넥터의 인접한 와이어들 사이의 공칭 거리는 예를 들어 와이어들의 직경의 4배, 5배 또는 6배와 같거나 더 작다.
일 실시예에서, 본 발명은 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치에 관한 것으로, 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 전극에 전기적으로 연결된 제1 단자를 전원에 전기적으로 연결되는 제2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함한다. 전기적 접속부는 복수의 개구를 포함하는 전기 전도성 물질로 제조된 실린더를 포함한다.
또한, 본 발명은 본 발명에 따른 스테이지 장치를 포함하는 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 리소그래피 장치, 계측 장치, 입자 빔 장치, 전자 빔 장치, 전자 빔 검사 장치, 또는 검사 장치이다.
본 발명은 첨부 도면들과 함께 다음의 상세한 설명에 의해 쉽게 이해될 것이며, 동일한 참조 번호들은 동일한 구조적 요소들을 나타낸다.
도 1a 및 도 1b는 본 발명의 실시예에 따른 e-빔 검사 도구의 개략도이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에서 적용될 수 있는 전자 광학 시스템의 개략도이다.
도 4는 본 발명에 따른 EBI 시스템의 가능한 제어 아키텍처를 개략적으로 도시한다.
도 5a는 와이어의 직경의 함수로서 와이어에 의해 생성된 전기장 강도의 그래프를 도시한다.
도 5b는 전기장 세기에 대한 도 6a 내지 도 6e에 도시된 실시예의 효과를 도시한다.
도 6a 내지 도 6e는 전기적 접속부의 실시예를 예시한다.
도7a 내지 도7e는 전기적 접속부의 다른 실시예를 도시한다.
도 8a 내지 도 8c는 전기적 접속부의 다른 실시예를 도시한다.
도 9는 본 발명에 따른 스테이지 장치를 도시한다.
도 10은 전기장 실드의 실시예를 도시한다.
도 11b는 전기적 접속의 다른 실시예를 도시한다.
도 11b는 전기적 접속의 다른 실시예를 도시한다.
도 11c는 전기적 접속의 다른 실시예를 도시한다.
도 11d 내지 도 11f는 전기적 접속의 다른 실시예를 도시한다.
도 12는 전기장의 배치의 실시예를 도시한다.
본 발명은 다양한 수정 및 대안적인 형태가 가능하지만, 그 특정 실시예가 도면에 예로서 도시되어 있으며, 본 명세서에서 상세히 설명될 수 있다. 도면은 일정한 비율로 도시되지 않을 수 있다. 그러나, 도면 및 그에 대한 상세한 설명은 본 발명을 개시된 특정 형태로 제한하도록 의도된 것이 아니라, 오히려, 첨부된 청구범위에 의해 정의된 바와 같은 본 발명의 사상 및 범위 내에 있는 모든 수정, 등가물 및 대안을 포함하도록 의도된다는 것이 이해되어야 한다.
본 발명의 다양한 예시적인 실시예들이 이제 본 발명의 일부 예시적인 실시예들이 도시된 첨부 도면들을 참조하여 더 완전히 설명될 것이다. 도면에서, 층 및 영역의 두께는 명확성을 위해 과장될 수 있다.
본 발명의 상세한 예시적인 실시예들이 본 명세서에 개시된다. 그러나, 본 명세서에 개시된 특정 구조적 및 기능적 세부 사항은 단지 본 발명의 예시적인 실시예를 설명하기 위한 목적을 위한 것이다. 그러나, 본 발명은 많은 대안적인 형태들로 구현될 수 있으며, 본 명세서에 설명된 실시예들만으로 제한되는 것으로 해석되어서는 안 된다.
따라서, 본 발명의 예시적인 실시예들은 다양한 수정들 및 대안적인 형태들이 가능하지만, 그 실시예들은 도면들에서 예로서 도시되고 본 명세서에서 상세히 설명될 것이다. 그러나, 본 발명의 예시적인 실시예들을 개시된 특정 형태들로 한정하려는 의도는 없지만, 반대로, 본 발명의 예시적인 실시예들은 본 발명의 범위 내에 있는 모든 수정들, 등가물들 및 대안들을 커버한다는 것이 이해되어야 한다. 동일한 번호들은 도면들의 설명 전반에 걸쳐 동일한 구성요소들을 지칭한다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, 용어 "시료"는 일반적으로 관심 결함(DOI)이 위치될 수 있는 웨이퍼 또는 임의의 다른 시료를 지칭한다. 시료 및 "샘플"이라는 용어가 본 명세서에서 상호 교환 가능하게 사용되지만, 웨이퍼에 대해 본 명세서에 설명된 실시예는 임의의 다른 시료(예를 들어, 레티클, 마스크, 또는 포토마스크)에 대해 구성 및/또는 사용될 수 있다는 것을 이해해야 한다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, "웨이퍼"라는 용어는 일반적으로 반도체 또는 비반도체 재료로 형성된 기판을 지칭한다. 이러한 반도체 또는 비반도체 재료의 예는 단결정 실리콘, 갈륨 비소, 및 인듐 인화물을 포함하지만 이에 한정되지 않는다. 이러한 기판은 반도체 제조 설비에서 통상적으로 발견 및/또는 처리될 수 있다.
크로스오버라는 용어는 전자 빔이 포커싱되는 지점을 지칭한다.
가상 소스라는 용어는 캐소드로부터 방출된 전자 빔이 "가상" 소스로 다시 추적될 수 있음을 의미한다.
본 발명에 따른 검사 툴은 하전 입자 소스, 특히 SEM, e 빔 검사 툴, 또는 EBDW에 적용될 수 있는 e-빔 소스에 관한 것일 수 있다. 이 기술에서, e-빔 소스는 또한 e-gun(Electron Gun)으로 지칭될 수 있다.
도면들과 관련하여, 도면들은 축척에 맞게 그려진 것이 아니라는 점에 유의한다. 특히, 도면들의 구성요소들 중 일부의 스케일은 구성요소들의 특성들을 강조하기 위해 크게 과장될 수도 있다. 또한, 도면들은 동일한 스케일로 그려지지 않는다. 유사하게 구성될 수 있는 하나 초과의 도면에 도시된 구성요소들은 동일한 참조 번호들을 사용하여 표시되었다.
도면에서, 각각의 컴포넌트 및 모든 컴포넌트 사이의 상대적인 치수는 명확성을 위해 과장될 수 있다. 도면들의 다음의 설명 내에서, 동일하거나 유사한 참조 번호들은 동일하거나 유사한 컴포넌트들 또는 개체들을 지칭하고, 개별 실시예들에 대한 차이들만이 설명된다.
따라서, 본 발명의 예시적인 실시예들은 다양한 수정들 및 대안적인 형태들이 가능하지만, 그 실시예들은 도면들에서 예로서 도시되고 본 명세서에서 상세히 설명될 것이다. 그러나, 본 발명의 예시적인 실시예들을 개시된 특정 형태들로 한정하려는 의도는 없지만, 반대로, 본 발명 예시적인 실시예들은 본 발명의 범위 내에 있는 모든 수정들, 등가물들 및 대안들을 커버한다는 것이 이해되어야 한다.
도 1a 및 도 1b는 예를 들어, 본 발명의 실시예에 따른 것일 수 있는 전자 빔(e-빔) 검사(EBI) 시스템(100)의 평면도 및 단면도를 개략적으로 도시한다. 도시된 실시예는 인클로저(110), 검사될 대상물을 수용하고 검사된 대상물을 출력하기 위한 인터페이스로서 기능하는 한 쌍의 로드 포트(120)를 포함한다. 도시된 실시예는 로드 포트들로 그리고 로드 포트들로부터 대상물들을 핸들링 및/또는 이송하도록 구성되는, 장비 프론트 엔드 모듈(130)인 EFEM으로 지칭되는 대상물 이송 시스템을 더 포함한다. 도시된 바와 같은 실시예에서, EFEM(130)은 EBI 시스템(100)의 로드 포트들과 로드 록(150) 사이에서 대상물들을 이송하도록 구성된 핸들러 로봇(140)을 포함한다. 로드 락(150)은 인클로저(110) 외부에서 그리고 EFEM에서 발생하는 대기 조건들과 EBI 시스템(100)의 진공 챔버(160)에서 발생하는 진공 조건들 사이의 인터페이스이다. 도시된 실시예에서, 진공 챔버(160)는 검사될 대상물, 예를 들어 반도체 기판 또는 웨이퍼 상에 e-빔을 투영하도록 구성된 전자 광학 시스템(170)을 포함한다. EBI 시스템(100)은 전자 광학 시스템(170)에 의해 생성된 e-빔에 대해 대상물(190)를 변위시키도록 구성되는 위치설정 디바이스(180)를 더 포함한다.
일 실시예에서, 위치설정 디바이스는 실질적으로 수평인 평면에 대상물을 위치설정하기 위한 XY-스테이지, 및 수직 방향으로 대상물을 위치설정시키기 위한 Z-스테이지와 같은 다수의 위치설정기들의 케스케이드형 배열을 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 위치설정 디바이스는 비교적 큰 거리에 걸쳐 대상물의 거친(coarse) 위치설정을 제공하도록 구성된 거친 위치설정기 및 비교적 작은 거리에 걸쳐 대상물을 미세 위치설정하도록 구성된 미세 위치설정기의 조합을 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 위치설정 디바이스(180)는 EBI 시스템(100)에 의해 수행되는 검사 프로세스 동안 대상물을 유지하기 위한 대상물 테이블을 더 포함한다. 이러한 실시예에서, 대상물(190)는 정전기 클램프와 같은 클램프에 의해 대상물 테이블 상에 클램핑될 수 있다. 이러한 클램프는 대상물 테이블에 통합될 수 있다.
일 실시예에서, 위치설정 디바이스(180)는 대상물 테이블을 위치설정하기 위한 제 1 위치설정기 및 제 1포지셔터 및 대상물 테이블을 위치설정하기 위한 제 2 위치설정기를 포함한다. 또한, e-빔 검사 툴(100)에 적용되는 바와 같은 위치설정 디바이스(180)는, 대상물 테이블에 열 부하를 생성하도록 구성되는 가열 디바이스를 포함할 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 e-빔 검사 툴 또는 시스템에 적용될 수 있는 전자 광학 시스템(200)의 실시예를 개략적으로 도시한다. 전자 광학 시스템(200)은 전자총(210)으로 지칭되는 e-빔 소스 및 이미징 시스템(240)을 포함한다.
전자총(210)은 전자 소스(212), 서프레서(214), 애노드(216), 어퍼처 세트(218), 및 콘덴서(220)를 포함한다. 전자 소스(212)는 쇼트키 이미터일 수 있다. 더 구체적으로, 일 실시예에서, 전자 소스(212)는 세라믹 기판, 2개의 소스 전극들, 텅스텐 필라멘트, 및 텅스텐 핀을 포함한다. 2개의 소스 전극은 세라믹 기판에 평행하게 고정되고, 2개 소스 전극의 다른 측면은 텅스텐 필라멘트의 2개의 단부에 각각 연결된다. 텅스텐은 약간 굴곡되어 텅스텐 핀을 배치하기 위한 팁을 형성한다. 다음으로, 텅스텐 핀의 표면에 ZrO2를 도포하고, 1300°C로 가열하여, 텅스텐 핀을 용융 피복하고, 또한 텅스텐 핀의 핀 포인트를 개방한다. 용융된 ZrO2는 텅스텐의 일함수를 낮추고 방출된 전자의 에너지 장벽을 감소시킬 수 있고, 따라서 전자 빔(202)이 효율적으로 방출된다. 그리고, 서프레서(214)에 부전기를 인가함으로써, 전자빔(202)이 억제된다. 이에 의해, 퍼짐 각도가 큰 전자 빔이 1차 전자 빔(202)에 억제되므로, 그 휘도가 향상된다. 애노드(216)의 양의 전하에 의해, 전자 빔(202)이 추출될 수 있고, 그 후, 어퍼처 외부의 불필요한 전자 빔을 제거하기 위해 상이한 어퍼처 크기들을 갖는 튜닝가능한 어퍼처(218)를 사용함으로써 전자 빔의 쿨롱 강박력(Coulomb’s compulsive force)이 제어될 수 있다. 전자 빔(202)을 집약시키기 위해, 콘덴서(220)가 전자 빔에 적용되고, 이는 또한 배율을 제공한다. 도 2에 도시된 콘덴서(220)는 예를 들어 전자 빔(202)을 집약시킬 수 있는 정전 렌즈일 수 있다. 한편, 콘덴서(220)는 또한 자기 렌즈일 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같은 이미징 시스템(240)은 블랭커(248), 어퍼처들(242)의 세트, 검출기(244), 편향기들(250, 252, 254, 및 256)의 4개의 세트들, 코일들(262)의 쌍, 요크(260), 필터(246), 및 렌즈 전극(270)을 포함한다. 렌즈 전극(270)은 전자 빔(202)을 지연 및 편향시키기 위해 사용되고, 상부 폴 피스와 샘플(300)의 조합으로 인해 정전 렌즈 기능을 더 갖는다. 또한, 코일(262) 및 요크(260)는 자기 대물 렌즈에 구성된다.
전술한 전자 빔(202)은 전자 핀을 가열하고 애노드(216)에 전기장을 인가함으로써 생성되므로, 전자 빔을 안정화시키기 위해, 전자 핀을 가열하기 위한 긴 시간이 있어야 한다. 사용자 측에서는, 이는 확실히 시간 소모적이고 불편하다. 따라서, 블랭커(248)는 전자 빔(202)을 턴 오프하기 보다는 샘플로부터 멀어지게 일시적으로 편향시키기 위해 집약된 전자 빔에 적용된다.
편향기들(250, 256)은 전자 빔(202)을 큰 시야로 스캔하기 위해 적용되고, 편향기들(252, 254)은 작은 시야로 전자 빔(202)을 스캔하기 위해 사용된다. 모든 편향기들(250, 252, 254, 256)은 전자 빔(202)의 스캐닝 방향을 제어할 수 있다. 편향기(250, 252, 254, 256)는 정전 편향기 또는 자기 편향기일 수 있다. 요크(260)의 개구는 샘플(300)에 대면하고, 이는 자기장을 샘플(30)에 침지시킨다. 한편, 렌즈 전극(270)은 요크(260)의 개구 아래에 배치되므로, 시료(300)가 손상되지 않는다. 전자 빔(202)의 색수차를 보정하기 위해, 지연기(270), 샘플(300), 및 상부 폴 피스는 전자 빔의 색수차를 제거하기 위한 렌즈를 형성한다.
또한, 전자 빔(202)이 샘플(300)에 충돌할 때, 2차 전자가 샘플(300)의 표면으로부터 방출될 것이다. 다음으로, 2차 전자는 필터(246)에 의해 검출기(244)로 지향된다.
도 4는 본 발명에 따른 EBI 시스템의 가능한 제어 아키텍처를 개략적으로 도시한다. 도 1에 도시된 바와 같이, EBI 시스템은 로드 락, 웨이퍼 전달 시스템, 로드/락, 전자 광학 시스템 및 예를 들어 z-스테이지 및 x-y 스테이지를 포함하는 위치설정 디바이스를 포함한다. 예시된 바와 같이, EBI 시스템의 이들 다양한 컴포넌트들은 각각의 제어기들, 즉, 웨이퍼 이송 시스템에 연결된 웨이퍼 이송기 시스템 제어기, 로드/록 제어기, 전자 광학 제어기, 검출기 제어기, 스테이지 제어기를 구비할 수 있다. 이러한 제어기들은 예를 들어 통신 버스를 통해 시스템 제어기 컴퓨터 및 이미지 프로세싱 컴퓨터에 통신가능하게 연결될 수 있다. 도시된 실시예에서, 시스템 제어기 컴퓨터 및 이미지 프로세싱 컴퓨터는 워크스테이션에 연결될 수 있다.
로드 포트는 웨이퍼를 EREM(130)과 같은 웨이퍼 이송 시스템에 로딩하고, 웨이퍼 이송 시스템 제어기는 웨이퍼를 로드 록(150)과 같은 로드/록에 이송하기 위해 웨이퍼 이송을 제어한다. 로드/락 제어기는 예를 들어, 웨이퍼가 e-척으로 또한 지칭되는 클램프, 예컨대 정전 클램프 상에 고정될 수 있는 것과 같이 대상물이 검사되도록, 챔버로의 로드/록을 제어한다. 위치설정 디바이스, 예를 들어 z-스테이지 및 x-y 스테이지는 웨이퍼가 스테이지 제어기에 의해 이동할 수 있게 한다. 일 실시예에서, z-스테이지의 높이는 예를 들어 압전 액추에이터와 같은 압전 컴포넌트를 사용하여 조정될 수 있다. 전자 광학 제어기는 전자 광학 시스템의 모든 조건을 제어할 수 있고, 검출기 제어기는 전자 광학계 시스템으로부터의 전기 신호를 수신하여 이미지 신호로 변환할 수 있다. 시스템 제어기 컴퓨터는 명령들을 대응하는 제어기에 전송한다. 이미지 신호들을 수신한 후, 이미지 프로세싱 컴퓨터는 결함들을 식별하기 위해 이미지 신호들을 프로세싱할 수 있다.
e-빔 검사 툴에 대한 요건이 증가함에 따라, 방출된 전자 빔을 제어하는데 필요한 인가 전압 또는 전압 전위도 증가한다. 따라서, 더 높은 전압 전위는 또한 (소스 및/또는 렌즈) 전극 및 편향기의 적어도 일부에 제공되어야 한다. 종래의 e-빔 툴에서, e- 빔 툴의 동작 전에 이러한 컴포넌트들을 충전하는 것이 충분할 수 있지만, 이것은 고전압 전위에 대해 실용적이지 않다. 따라서, 상기 부품들을 충전하고 부품들을 원하는 전압 전위로 유지하기 위해 전기적 접속부가 요구된다. 본 발명의 맥락에서, 더 높은 전압 전위는 절대값으로서 의미되고, 즉, 이는 포지티브 또는 네거티브 전압일 수 있다는 것에 유의해야 한다.
전기적 접속부는 여러 결과를 수반한다. 첫째로, 사용 중에 전기적 접속부는 고전압 전위에 있고 전기장을 생성한다. 상기 전기장은 e-빔 툴에서의 컴포넌트들, 예를 들어, 커패시터들과 같은 전기적으로 충전가능한 엘리먼트들의 정확한 작동에 영향을 줄 수도 있다. 도 5a는 와이어의 직경(D)의 함수로서 와이어의 표면에서의 전기장 세기(E)의 그래프를 도시한다. 직경(D)이 증가함에 따라, 전기장 강도(E)는 감소한다. 와이어의 표면에서의 전기장 세기(E)가 와이어로부터 방출된 전자의 양을 결정하기 때문에, 상기 전기장은 바람직하게는 낮다. 따라서, 이러한 관점에서, 직경(D)은 바람직하게는 가능한 한 크게 선택된다.
전기적 접속부의 두 번째 결과는 대상물 테이블에 대한 기계적 연결을 형성하여, 그러한 이동 동안 대상물 테이블에 힘을 가함으로써 대상물 테이블의 임의의 이동에 영향을 미친다는 것이다. 상기 힘은 전기적 접속부의 기계적 강성에 의존하며, 이는 바람직하게는 제1 위치설정기의 작동이 가능한 한 적게 왜곡되도록 가능한 한 작다. 와이어의 경우, 기계적 강성은 직경(D)이 증가함에 따라 증가한다. 따라서, 이러한 관점에서, 직경(D)은 바람직하게는 가능한 한 작게 선택된다.
상기 결과들은 전기적 접속부의 설계 또는 선택에 대한 상충하는 요건들을 제시하며, 이는 일반적으로 전기장 세기와 전기적 접속부의 기계적 강성 사이의 절충을 초래할 것이다. 본 발명자들은 전도체의 전기장에 대한 지식을 적용함으로써 이에 대한 개선을 발견하였다. 정전 평형에서, 전도체 내부의 전기장은 모든 과잉 전하가 전도체의 외부 표면 상에 있기 때문에 0이다. 전도체가 예를 들어 공기 또는 진공으로 충전된 비전도성 캐비티 또는 보이드(void)를 갖더라도, 이것이 사실이다. 즉, 캐비티 내에 또는 이 캐비티를 둘러싸는 전도체의 표면 상에 전하가 존재하지 않는다. 전도체의 외부 표면이 클수록, 예를 들어 도 5a의 더 큰 직경(D)의 함수로서 감소된 전기장 강도(E)에 의해 예시되는 바와 같이, 전기장의 최대 강도는 더 작다.
이러한 지식을 사용하여, 다수의 배열들이 설계될 수 있으며, 여기서 전기적 접속부는, 예를 들어, 전기적 접속부의 다수의 와이어들 또는 와이어의 다수의 세그먼트들이, 전기장의 관점에서, 와이어 자체보다 더 큰 직경을 갖는 전도체와 같이 거동하도록 서로 상호작용하여, 감소된 최대 전기장 강도를 초래하도록 배열된다. 다시 말해서, 전기적 접속부는, 전기적 접속부의 와이어 또는 와이어들의 와이어 세그먼트들이, 결과적인 전기장을 결정하기 위해, 상기 와이어 세그먼트들 또는 와이어들 사이에 캐비티를 갖는 단일 전도체로 고려될 수 있을 정도로 서로 충분히 근접하도록 배열될 수 있다. 전기적 접속부의 모든 전도성 물질이 전기적으로 연결되기 때문에, 전하는 정전기 평형(electrostatic equilibrium)을 형성하기 위해 전기적 접속부의 외부 표면에 걸쳐 자체적으로 분포될 수 있다. 한편, 실제 와이어의 직경은 작게 유지될 수 있고, 이에 의해 비교적 낮은 기계적 강성을 유지할 수 있다. 그러한 구성의 예가 도 6a에 도시되어 있으며, 이는 루프를 포함하는 코일로서 배열된 와이어(302)를 포함하는 전기적 접속부(301)를 도시한다.
도 5b는 전기장에 대한 이러한 배열의 효과를 예시하는 3개의 그래프를 도시한다. 상부 그래프는 코일의 루프들의 직경의 함수로서 전기장 세기를 도시하고, 하부 좌측 그래프는 와이어의 직경에 대한 후속 루프들 사이의 거리의 비의 함수로서의 전기장 세기를 도시하며, 하부 우측 그래프는 와이어 직경의 함수로서의 전기장 세기를 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 전기장의 최대 강도는 루프의 직경이 증가함에 따라 그리고 루프가 서로 더 가깝게 배열될 때 감소한다. 루프들의 직경 및 루프들 사이의 와이어 직경에 대한 거리가 일정하게 유지되는 한, 와이어 자체의 직경은 전기장에 제한된 영향을 미친다는 것이 추가로 주목될 수 있다. 그러나, 와이어의 직경은 기계적 강성에 큰 영향을 미치며, 따라서 유리하게는 이러한 배열에서 최대 전기장 강도에 너무 많이 영향을 미치지 않으면서 작게 유지될 수 있다.
또한, 본 발명자들은 전기적 접속부로서 다수의 와이어를 사용함으로써 감소된 전기장 강도의 동일한 효과를 달성하는 것이 가능하다는 것을 발견하였고, 상기 다수의 와이어는 서로 충분히 가깝게 그리고 선택적으로 서로 평행하게 배열되고, 또한 사용시 동일하거나 적어도 실질적으로 동일한 전위 상에 있다. 이러한 구성의 예가 도 7a에 도시되어 있으며, 이는 병렬로 배열된 6개의 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함하는 전기적 접속부(401)를 도시한다.
본 발명은 특히 스테이지 장치에 사용될 수 있는 혁신적인 전기적 접속부에 관한 것이다. 혁신적인 전기적 접속부는 상기 설명된 통찰을 적용하고, 다음의 도면들과 관련하여 도시되는 바와 같이 상이한 방식들로 정의되거나 설명될 수 있다.
도 6a를 참조하면, 본 발명에 따른 전기적 접속부(301)가 개략적으로 도시되어 있고, 본 발명에서 적용되는 바와 같은 전기적 접속부를 설명하거나 규정하는 제1 방식이 주어진다. 전기적 접속부(301)는 직경(306)을 갖고 전기적 접속부의 제1 단부(303)와 제2 단부(204) 사이에서 제1 방향(X)으로 거리(305)에 걸쳐 있는 와이어(302)의 공간 배열을 포함한다. 전기적 접속부(301)는, 사용시, 등가 전기적 직경(307)에 의해 부분적으로 결정되는 전기장을 생성하도록 구성된다. 본 발명에 따르면, 등가 전기적 직경(307)은 와이어(302)의 공간 배열에 의해 정의되고, 직선으로 배열되고 제1 방향(X)으로 거리(305)에 걸쳐 있는, 도 6b에 도시된 전기적 등가 와이어(321)의 직경과 동일하다. 본 발명에 따르면, 전기적 등가 와이어(321)는 전기적 접속부(301)에 의해 생성된 전기장과 동일한 최대 강도를 갖는 전기장을 생성하는 것으로 간주되며, 동일한 전압이 전기적 접속부에 인가될 때 그러하다. 본 발명에 따르면, 등가 전기적 직경(307)은 와이어(302)의 직경(306)보다 크다.
도 7a에 개략적으로 도시된 다른 실시예에서, 본 발명에 따른 전기적 접속은 전기적 접속(401)의 제1 단부(403)와 제2 단부(440) 사이에서, 직경(406)을 갖고 제1 방향(X)으로 거리(405)에 걸쳐 있는 다수의 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 공간 배열을 포함하는 전기적 접속부로 설명될 수 있다. 전기적 접속부(401)는, 사용시, 등가 전기적 직경(407)에 의해 부분적으로 결정되는 전기장을 생성한다. 본 발명에 따르면, 등가 전기적 직경(407)은 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 공간적 배열에 의해 정의되고, 직선으로 배열되고 제1 방향(X)으로 거리(405)에 걸쳐 있는, 도 7b에 도시된, 전기적 등가 와이어(421)의 직경과 동일하다. 본 발명에 따르면, 전기적 등가 와이어(421)는 동일한 전압이 인가될 때 전기적 접속부(401)의 전기장과 동일한 최대 강도를 갖는 전기장을 생성하는 것으로 간주된다. 본 발명에 따르면, 등가 전기적 직경(407)은 와이어들(402.1, 402.2, 403.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 직경(406)보다 크다. 도시된 예에서, 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6) 각각이 동일한 직경(406)을 갖지만, 이는 엄격하게 요구되지 않거나, 와이어들에 대한 심지어 상이한 직경들이 또한 가능할 수 있다는 것이 주목된다.
도 7a에 도시된 실시예에서, 전하들이 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6) 중 하나로부터 하나 또는 다른 와이어(402.1, 402.2, 402.4, 402.5, 402.6)로 이동할 수 있도록, 제1 단부(403) 및 제2 단부(404)는 선택적으로 와이어들(402.1, 402.2, 402.4, 402.5, 402.6)을 전기적으로 연결한다.
전술한 바와 같이, 전기적 접속부(301, 401)는 하나 이상의 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함하며, 이들 와이어는 하나 이상의 와이어의 직경(306, 206)보다 큰 등가 전기적 직경(407)을 갖는 전기적 등가 와이어(321, 421)에 의해 생성될 전기장과 동일한 최대 강도를 갖는 전기장을 형성하고 상호작용하도록 배열된다. 따라서, 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 공간적 배열은 동일한 직경(306, 406)의 하나의 와이어가 제1 단부(303, 403)와 제2 단부(304, 404) 사이에 직선으로 배열되는 경우에 비해 감소된 최대 전기장 강도를 초래한다. 상기 최대 전기장, 즉 전기장의 가장 높은 세기는 일반적으로 와이어들(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6) 중 하나 이상의 표면에 위치되고, 특히 전기적 등가 와이어(321, 421)의 표면과 또한 대응할 위치에 위치될 수 있다.
도 6a를 다시 참조하면, 일 실시예에서, 전기적 접속부(301)는 제1 방향(X)의 단위 길이에 대해 전기적 접속부를 압축 또는 신장시키는데 필요한 힘을 나타내는 기계적 강성을 더 포함한다. 도 6c에 도시된 바와 같이, 등가의 기계적 직경(308)이 결정되고, 여기서 등가의 기계적인 직경(380)은 제1 방향(X)으로 거리(305)에 걸쳐 있고 실질적으로 직선으로 배열되고 제1 방향으로 거리(30)에 걸쳐 있는 기계적 등가 와이어(325)의 직경(318)과 동일하고, 이에 의해 기계적 등가 와이어(325)는 전기적 접속부(301)와 동일한 기계적 강성을 가질 것이다. 이 실시예에서, 등가 전기적 직경(307)은 등가 기계적 직경(208)보다 크다. 전기적 접속부(301)가 정확히 하나의 와이어(302)를 포함할 때, 등가의 기계적 직경(308)은 주로 상기 와이어(302)의 공간적 배열에 의해 결정된다.
도 7a에 도시된 배치와 유사하게, 일 실시예에서, 전기적 접속부(401)는 제1 방향(X)으로 단위 길이에 대해 전기적 접속부의 압축 또는 신장에 필요한 힘을 나타내는 기계적 강성을 더 포함한다. 등가의 기계적 직경(408)이 결정되고, 이는 도 7c에 도시되어 있다. 등가의 기계적 직경(408)은 제1 방향(X)으로 거리(405)에 걸쳐 있고 직선으로 배열되고 제1 방향으로 거리(405)에 걸쳐 있는 기계적 등가 와이어(425)의 직경(408)과 동일하고, 기계적 등가 와이어(425)는 전기적 접속부(401)와 동일한 기계적 강성을 가질 것이다. 이 실시예에서, 등가 전기적 직경(407)은 등가 기계적 직경(408)보다 크다. 전기적 접속부(401)가 하나 이상의 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함할 때, 등가의 기계적 직경은 주로 직경(406)들 및 상기 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 공간 배열들 둘 다에 의해 결정된다.
유리하게는, 와이어(302) 또는 와이어들((402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6))은 전기적 등가 직경(307, 407)이 등가 기계적 직경(308, 408)보다 크도록 배열된다. 따라서, 전기장 강도의 감소는 기계적 강성의 가능한 증가보다 더 높은 영향을 가질 수 있다.
각각의 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 기계적 강성은 직경뿐만 아니라 공간 배열 및 재료와 같은 인자들에 의존한다. 대부분의 공간 배열에서 와이어의 강성을 계산하기 위한 공식이 알려져 있다. 전기적 접속부가 하나 이상의 와이어를 포함할 때 등가의 기계적 직경을 결정하기 위해, 상기 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)는 예를 들어 평행한 스프링으로서 간주될 수 있다. 이어서, 등가 강성은 각각의 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 강성의 합에 의해 결정될 수 있다. 그러나, 계산이 어렵거나 실용적이지 않은 것으로 증명되면, 등가의 기계적 강성도는 또한 후크(Hooke)의 법칙을 사용하여 시험-설정으로 경험적으로 결정될 수 있다:
Figure 112021070320852-pct00001
여기서, F는 평형 상태로부터 일정Δx 거리만큼 전기적 접속부를 압축 또는 연장하는데 필요한 힘을 나타낸다.
등가 강성도(equivalent stiffness)으로부터 등가 기계적 직경이 결정될 수 있다. 예를 들어, 직선 와이어의 경우, 강성은 하기 식을 사용하여 결정될 수 있다:
Figure 112021070320852-pct00002
여기서
Figure 112021070320852-pct00003
는 등가 강성도를 나타내고, L은 와이어의 길이를 나타내고, E는 영률(Young's modulus)을 나타내고,
Figure 112021070320852-pct00004
는 등가 단면적을 나타내며, 이로부터 등가 직경이 도출될 수 있다. 바람직하게는, 동일한 재료의 와이어, 즉 전기적 접속부에 사용되는 와이어 또는 와이어들과 동일한 영률 E를 갖는 와이어에 대해 등가의 기계적 직경이 결정되는 것으로 가정된다.
본 발명에서 적용되는 바와 같은 전기적 접속부(301, 401)를 설명하거나 정의하기 위한 제2 방식은 도 6a 및 도 7a 둘 다를 참조하여 주어진다. 이러한 설명 또는 정의에 따르면, 전기적 접속부(301, 401)는 길이 및 직경(306, 406)을 각각 갖는 하나 이상의 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함하는 것으로 정의된다. 와이어들(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)은, 사용 시에, 각각의 와이어(302)의 길이를 따른 위치들의 적어도, 예를 들어, 75%, 예컨대, 적어도 80%, 85%, 90%, 95% 또는 99%에 대해, 와이어들 중 하나의 적어도 하나의 와이어 세그먼트가 상기 위치의 부근에 배열되도록 배열된다. 본 발명에 따르면, 와이어 근처에 배치되는 와이어 세그먼트의 특징은, 예를 들어 와이어 세그먼트가 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 직경(306, 406)의 4배, 5배 또는 6배 이하, 예컨대 3배, 2배 또는 1배보다 작은 거리에서 상기 위치에서 와이어에 수직인 방향으로 배치되는 것으로 정의될 수 있다. 바람직하게는, 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 부근에 배치되는 와이어 세그먼트는 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)와 실질적으로 동일한 전압 전위에 있다.
예를 들어, 도 6a에서, 와이어(302)의 위치(331)는 상기 정의를 예시하도록 표시된다. 이 위치(331)에 대해, 위치(331)에서 와이어(302)에 수직인 방향으로 부근에 적어도 하나의 와이어 세그먼트(332)가 있다. 또한, 와이어 세그먼트(332)는 와이어(302)의 직경(306)의 예를 들어 4배, 5배 또는 6배보다 작은 거리(333)에 배열된다.
예를 들어, 도 7a에서, 와이어(402.6)의 위치(431)는 상기 정의를 예시하도록 표시된다. 이 위치(431)에 대해, 이 경우에 와이어(402.5)로부터의 적어도 하나의 와이어 세그먼트(432)가 위치(431)에서 와이어(420.6)에 수직인 방향으로 근처에 있다. 또한, 와이어 세그먼트(432)는 와이어(402.6)의 직경(406)의 예를 들어 4배, 5배 또는 6배보다 작은 거리(433)에 배열된다. 도 7a의 명확성을 위해, 와이어들(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 직경 및 이들 사이의 거리는 축척에 맞지 않을 수 있음에 유의해야 한다.
와이어(302) 또는 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 위치(331, 431) 부근에 와이어 세그먼트(332, 432)가 존재하도록 와이어(302) 또는 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)들을 배열함으로써, 상기 위치(331, 431)에서의 와이어 및 와이어 세그먼트(332, 432)는 이들 사이에 공극을 갖는 전도체를 형성하고 상호작용하는 것으로 간주될 수 있다. 따라서, 이들은 다른 와이어 세그먼트(332, 432)가 근처에 있지 않을 경우 와이어(302, 402)에 의해 단독으로 생성될 전기장보다 더 작은 최대 강도를 갖는 결과적인 전기장에 기여한다. 다시 말해서, 전기장의 최대 강도는 동일한 와이어 직경(306, 406)을 유지하면서 감소되고, 따라서 제한된 기계적 강성을 유지한다.
실제로, 상기 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 제1 및/또는 제2 단부 또는 전기적 접속부(301, 401)의 제 1 및/혹은 제2 단부에 와이어 세그먼트를 제공하는 것은 불편할 수 있는데, 이는 와이어 세그먼트가 예를 들어 단자에 접속될 필요가 있을 수도 있기 때문이다. 따라서, 일 실시예에서, 전기장 실드(shield)(1201)는 그러한 위치들에서 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6) 및/또는 전기적 접속부(301, 401)의 부근에 배열될 수 있다. 전기장전기장 실드(1201)는 이러한 위치들에서 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)에 의해 생성된 전기장이 전기장 실드(1201) 뒤에 있는 컴포넌트들에 영향을 미치는 것을 방지한다. 전기장 실드(1201)는 예를 들어 접지될 수 있는 전도체일 수 있다.
일 실시예에서, 각각의 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 길이의 실질적으로 전부에 대해, 와이어들 중 하나의 적어도 하나의 와이어 세그먼트가 근처에 배열되고 그리고/또는 전기장 실드(1201)가 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6) 및/또는 전기적 접속부(301, 401) 근처에 배열된다. 예를 들어, 전기장 실드(1201)는 전기적 접속부(301, 401)의 하나 이상의 단부에서 전기적 접속부에 인접하게 배열될 수 있고, 각각의 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 길이의 실질적으로 전부에 대해 전기적 접속부의 나머지 부분에 대해, 와이어들 중 하나의 적어도 하나의 와이어 세그먼트가 부근에 배열된다. 전기장 실드(1201)가 임의의 다른 형상의 와이어들, 예를 들어 단일 직선 와이어 또는 일련의 직선 와이어들에 의해 생성된 전기장을 차폐한다는 것이 당업자에게 명백할 것이다. 따라서, 와이어 또는 전기적 접속부(301, 401)의 특정 형상은 전기장 실드에 의한 전기장의 차폐에 중요하지 않다. 전기장 실드(1201)는 단일 직선 와이어 또는 일련의 직선 와이어들의 하나 이상의 단부들에 인접하여, 그리고 각각의 와이어의 길이의 실질적으로 전부에 대해 단일 직선 와이어의 나머지 부분에 대해 배열될 수 있다.
일 실시예에서, 도 12에서, 전기장 실드(1201)는 전기적 접속부(301, 401)와 대상물 사이에 배열될 수 있고, 전극은 전기적 접속부를 통해 전원에 의해 제1 전압이 인가될 수 있다. 대상물은 제1 전압과 상이한 제2 전압에 있다. 전기적 접속부와 대상물 사이에 배열된 전기장 실드(1201)는 전기장을 차폐할 수 있고 전기적 접속부 및 대상물 사이의 전기 방전 또는 스파크를 방지할 수 있다. 대상물은, 예를 들어, 챔버의 내벽의 일부 또는 동 문헌에 나중에 소개될 롱 스트로크 위치설정기의 일부일 수 있다. 제2 전압은 실질적으로 0, 즉 전기 접지 레벨, 또는 임의의 다른 0이 아닌 전압과 동일할 수 있다.
본 발명에서 적용된 바와 같은 전기적 접속부(301, 401)를 설명하거나 정의하기 위한 또 다른 제3 방식은 도 6a 및 도 7a의 전기적 접속부를 각각 도시하는 도 6d와 도 7d를 참조하여 주어진다. 이러한 제3 정의에 따르면, 전기적 접속부(301, 401)는 예를 들어 와이어(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)일 수 있고 제1 단부(303, 403)와 제2 단부(304, 404) 사이의 제1 방향(X)으로 거리(305, 405)에 걸쳐 있는 전기 전도성 물질을 포함하는 것으로 정의된다. 실질적으로 모든 전기 전도성 물질을 포함하는 가상의 인벨로프 볼륨(virtual enveloping volume)(341, 441)이 정의된다. 전기적 접속부의 외부 부분들은 가상 인벨로프 볼륨의 외부 경계들을 정의하고, 가상 인벌로프 볼륨은 적어도, 예를 들어, 가상 인벨로프 볼륨의 볼륨의 1%, 5% 또는 10%의 볼륨을 갖는 적어도 하나의 보이드(void)(341.1, 441.1)를 포함한다. 가상 인벨로프 볼륨(341, 441)의 도 6e 및 도 7e에 각각 도시된 각각의 단면(AA, BB)에 대해, 단면(AA, BB) 내의 전기 전도성 물질의 총 면적은 상기 단면(AA, BB)의 면적보다 작다. 예를 들어, 전기 전도성 물질의 총 면적은 예를 들어 단면 AA, BB의 면적의 99%, 95%, 90%, 75% 또는 50%보다 작을 수 있다.
도시된 예에서, 선택적으로 가상 인벨로프 볼륨(341, 441)의 중심선(342, 442)은 제1 방향(X)에 평행하고, 제1 방향으로 수직인 평면(YZ)에서 단면(AA, BB)의 외부 경계들은 전기적 접속부(301, 401)의 외부 부분들에 의해 정의된다.
가상의 인벨로프 볼륨(341, 441)은 보이드가 없는 전기적 접속부(301, 401)에 대응하는 전도체를 나타내거나 적어도 유사한 것으로 간주될 수 있을 것이다. 다시 말해서, 바람직하게는 와이어들(302, 402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 외부 표면에서의 최대 전기장 강도는 가상 인벨로프 볼륨(341,441)의 형상을 가질 것이고 동일한 전압 전위에 있을 전도체의 동일한 위치에서의 전기장 강도와 동일하다. 그러나, 전기적 접속부(301, 401)와 가상 인벨로프 볼륨(341, 441)의 형상을 갖는 그러한 전도체 사이의 중요한 차이점은 단면(AA, BB) 내의 전기 전도성 물질의 총 면적이 상기 단면(AA, BB)의 면적보다 작다는 것이다. 따라서, 전기적 접속부(301, 401)의 기계적 강성은 전기장의 동일한 비교적 낮은 최대 강도를 유지하면서 그러한 전도체에 비해 감소된다.
예를 들어, 도 6a 내지 도 6e에 도시된 실시예와 같은 코일로서의 단일 와이어(302)의 배열은 보이드(341.1)를 갖는 가상 인벨로프 볼륨(341)을 초래하지만, 단일 직선 또는 약간 굴곡된 와이어는 보이드가 없는 가상 인벨로프 볼륨을 초래할 것이다. 본 발명의 맥락에서, 와이어의 재료에 존재할 수 있는 미세 공극은 무시되어야 한다는 것에 유의해야 한다.
일 실시예에서, 예를 들어, 전기적 접속부(301)가 단일 와이어(302)를 포함하는 경우, 가상 인벨로프 볼륨(341)은, 제1 방향(X)에 수직인 평면(YZ)에서의 적어도 하나의 또는 선택적으로 모든 단면에서, 상기 와이어(202)의 직경보다 크거나, 선택적으로 예를 들어 직경의 1.5, 2 또는 3배보다 큰 것으로 또한 정의될 수 있다. 이러한 정의는, 다수의 방향으로 굽혀진 와이어가, 예를 들어 단지 또는 적어도 대부분 일 방향으로 굽어진 직선 와이어 또는 단일 와이어보다 더 효율적임을 나타낸다.
일 실시예에서, 가상 인벨로프 볼륨(341, 441)은, 제1 방향(X)에 수직인 평면(YZ)에서의 가상 인벨로프 볼륨(34)의 임의의 단면(AA, BB)이 동일한 형상을 갖도록 정의될 수 있다. 가상 인벨로프 볼륨(341, 441)의 외부 경계들은 수직 평면(YZ)이고, 제1 방향(X)의 임의의 포인트에서 그 방향으로의 전기적 접속부의 외부 부분들에 의해 정의된다.
예를 들어, 도 6d 내지 도 6e에 도시된 실시예에서, 전기적 접속부(301)는 단일 와이어(302)를 포함하고, 이는 전기적 접속부의 제1 단부(303)와 제2 단부(304) 사이에 복수의 곡선을 포함하고, 그에 의해 단일 와이어가 제1 방향(X)으로부터 제1 방향에 수직인 복수의 방향으로 편향된다. 이러한 실시예에서의 가상 인벨로프 볼륨(341)의 외부 경계들은 각각의 방향에서 평면(ZY)의 각각의 단면(AA)에 대응하고, 가장 먼 단일 와이어(302)는 전기적 접속부(301)의 임의의 위치에서 상기 방향에서 중심선(342)으로부터 벗어난다. 도시된 예에서, 이 정의에 따르면 와이어(302)가 원형 루프로 배열되기 때문에 단면(AA)은 원형이다.
도 6e에 도시된 단면(AA)에서, 와이어(302)는 단순화를 위해 원형으로 도시되어 있다. 그러나, 실제로, 전기적 접속부(301)의 루프들이 서로 얼마나 가깝게 배열되는지에 따라, 그러한 단면의 와이어(302)는 더 긴 형상을 가질 수 있다는 것에 유의해야 한다.
일 실시예, 예를 들어 7d-7e에 도시된 실시예에서, 전기적 접속부(401)는 단일 평면에 배열되지 않은 복수의 평행 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함한다. 그 다음, 가상 인벨로프 볼륨(441)은 제1 방향(X)에 수직인 평면(XY)에서의 가상 인벨로프 볼륨(41)의 단면(BB)이 다각형 형상을 갖도록 정의될 수 있고, 여기서 복수의 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 외부 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)은 다각형의 코너들을 형성하고, 다각형의 측면들은 상기 외부 와이어들을 직선 세그먼트들로 연결함으로써 정의된다. 도시된 예에서, 다각형의 코너들 및 측면들의 수는 와이어들의 수들, 즉 6에 대응하는데, 이는 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6) 모두가 외부 와이어들로서 배열되기 때문이다. 그러나, 하나 이상의 와이어가 다각형 내에, 예를 들어 중심에 배열되는 것이 또한 가능하다는 것에 유의해야 한다.
본 발명에서 적용된 바와 같은 전기적 접속부를 설명하거나 정의하기 위한 또 다른 네 번째 방식에서, 도 6a 및 도 7a를 다시 참조한다. 전기적 접속부(301, 401)는, 직경(306, 406)을 갖고 전기적 접속부의 제1 단부(303, 403)와 제2 단부(304, 404) 사이의 거리(305, 405)에 걸쳐 있는 하나 이상의 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함하고, 전기적 접속부에 의해 생성된 최대 전기장 강도가 동일한 직경(306, 406), 동일한 거리(305, 405)에 걸쳐 있는 직선 와이어에 의해 생성된 전기장 강도보다 작도록 전기적 접속부(301, 401)가 배열된다.
예를 들어, 도 6a의 배열에서, 와이어(302)는 루프와 함께 배열되어, 루프 및/또는 후속 루프의 상이한 부분이 서로 영향을 주고 함께 전기장을 형성하거나 생성한다. 이러한 상호작용의 결과로서, 최대 전기장 강도는 와이어(302)가 동일한 전압 전위에 있는 직선 와이어일 경우보다 더 작다.
예를 들어, 도 7a의 배열에서, 다수의 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)은 전기장을 형성하기 위해 서로 상호작용한다. 그 결과, 평균 및 최대 전기장 강도는 전기적 접속부(401)가 단일 직선 와이어인 경우보다 더 작다.
일부 실시예들, 예를 들어, 도 6a에 도시된 실시예의 경우, 본 발명에 적용된 바와 같은 전기적 접속부를 설명하거나 정의하기 위한 제5 방식이 사용될 수 있다. 이러한 제5 정의에 따르면, 전기적 접속부(301)는 전기적 접속부의 제1 단부(303)와 제2 단부(304) 사이에 복수의 루프를 포함하는 적어도 하나의 와이어(302)를 포함하고, 복수의 루프는 서로 실질적으로 평행하게 배열되어, 사용 중에, 인접한 루프의 대응하는 부분(331, 332)이 와이어(30)의 직경(306)의 예를 들어 4배, 5배, 6배 이하의, 예를 들어 3배, 2배 또는 1배 미만의 거리(333)에 걸쳐 이격된다.
일부 실시예들, 예를 들어 도 7a에 도시된 실시예의 경우, 본 발명에 적용된 바와 같은 전기적 접속부를 설명하거나 정의하기 위한 제6 방식이 사용될 수 있다. 제6 정의에 따르면, 전기적 접속부(401)는 단일 평면에 배열되지 않고 번들 커넥터로서 배열된 복수의 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함하고, 번들 커넥터의 인접한 와이어(402.5, 402.6) 사이의 공칭 거리(433)는 예를 들어 와이어들(402.5, 402.6)의 직경(406)의 4배, 5배 또는 6배와 같거나 더 작으며, 예를 들어 3배, 2배 또는 1배보다 작다.
본 발명에서 사용되는 바와 같은 전기적 접속부를 정의하기 위한 제5 및 제6 방식은 와이어(302) 또는 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)의 다른 부분이 근처에 존재하도록 와이어(202) 또는 와이어들을 배열함으로써, 이들 사이에 캐비티를 갖는 전도체를 형성하는 것으로 고려될 수 있다는 것을 반영한다. 따라서, 이들은 모두 와이어(302, 402.5) 단독에 의해 생성될 전기장보다 더 작은 최대 강도를 갖는 결과적인 전기장에 기여한다. 다시 말해서, 전기장의 최대 강도는 동일한 와이어 직경(306, 406)을 유지하면서 감소되고, 따라서 제한된 기계적 강성을 유지한다.
도 8a 내지 도 8c는 본 발명에 적용되는 전기적 접속부의 다른 실시예를 도시하며, 이는 다음의 방식으로 설명되거나 정의될 수 있다. 이 실시예에서, 전기적 접속부(501)는 전기 전도성 물질(502)로 제조되고 복수의 개구(apertures)(509)를 포함하는 실린더를 포함한다. 예를 들어, 개구(509)의 총 체적은 적어도, 예를 들어 실린더의 체적의 1, 5, 또는 10%일 수 있다. 본 발명의 맥락에서, 전기 전도성 물질(502)의 재료에 존재할 수 있는 미세 개구는 무시되어야 한다는 것에 유의해야 한다. 다른 실시예에서, 실린더는 전도성 물질(502)로 만들어진 표면적을 갖는 중공일 수 있다.
그러나, 도 8a에 도시된 전기적 접속부는 또한 대안적인 방식으로 정의될 수 있다는 것이 주목된다. 예를 들어, 도 8b에는 가상 인벨로프 볼륨(521)이 도시되어 있고, 그리고 도 8c에는 그 단면(CC)이 도시되어 있다. 알 수 있는 바와 같이, 단면(CC) 내의 전기 전도성 물질(502)의 총 면적은 상기 단면(CC)의 면적보다 작다.
도 8a 내지 도 8c에 도시된 실시예의 개구(509)는 최대 전기장 강도를 증가시키지 않고 전기적 접속부(501)의 기계적 강성을 유리하게 감소시킨다.
본 명세서에서 개별적으로 설명되지만, 전기적 접속부를 설명하거나 정의하기 위한 상기 개시된 방식들 각각은 또한 전기적 접속부를 정의하기 위해 서로 결합될 수 있다는 것이 주목된다.
일 실시예에서, 예를 들어 도 6a 내지 도 6e에 도시된 바와 같이, 전기적 접속부(301)는 루프를 포함하는 와이어(302)를 포함하고, 루프 직경(307)은 예를 들어 와이어(320)의 직경(306)의 3배 내지 6배 사이, 예컨대 직경(306)의 4배 내지 5배 사이이다. 루프 직경(307)이 클수록, 전기장의 상기 최대 강도가 더 많이 감소된다. 그러나, 동시에, 이용가능한 공간과 관련하여 실제적인 제한이 있을 수 있다. 예를 들어, 와이어(302)의 직경(306)의 3배와 6배 사이에 있는 루프 직경부(307)는 두 요건을 모두 달성한다.
실시예에서, 예를 들어 도 7a 내지 도 7e에 도시된 바와 같이, 전기적 접속부(401)는 번들 커넥터로서 배열된 복수의 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함하고, 번들 커넥터는 적어도 4개의 평행한 와이어를 포함한다. 도시된 실시예에서, 번들 커넥터는 6개의 평행 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함한다.
일 실시예에서, 예를 들어 도 7a 내지 도 7e에 도시된 바와 같이, 전기적 접속부(401)는 번들 커넥터로서 배열된 복수의 와이어(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)를 포함하고, 복수의 와이어들의 제1 단부들 및 제2 단부들은 원형 원주 상에 배열된다. 도 7a에서, 상기 원형 원주는 전기적 접속부(401)의 제1 단부(403) 및 제2 단부(404)에 대응한다. 선택적으로, 와이어들(402.1, 402.2, 402.3, 402.4, 402.5, 402.6)은 상기 원형 원주들 상에 등거리로 배열된다.
도 9는 본 발명에 따른 스테이지 장치(1001)의 일부를 도시한다. 스테이지 장치(1001)는 예를 들어 기판일 수 있는 대상물을 유지하도록 구성된 대상물 테이블(1002)을 포함한다. 대상물 테이블(1002)은 개략적으로 도시된 전원(1111)에 의해 충전되도록 구성된 개략적으로 도시된 전극(1112), 및 전원에 전기적으로 연결된 제2 단자(1004)에 연결되도록 전극에 전기적으로 연결된, 제1 단자(1005)에 연결되도록 구성된 전기적 접속부(1003)를 포함한다. 본 발명에 따르면, 전기적 접속부(1003)는 혁신적인 전기적 접속부의 실시예이고, 그 중 몇몇 예가 본 명세서에 설명된다. 도시된 예에서, 전기적 접속부(1003)는 도 6a 내지 도 6e와 관련하여 설명된 실시예와 유사한 복수의 루프를 포함한다.
도 9를 다시 참조하면, 일 실시예에서, 전극(1112)은 적어도 -100V, -1kV, -10kV 또는 -100kV로 충전되도록 구성된다. 전기적 접속부(1003)는 사용 중에 동일한 전압 전위에 있도록 구성된다. 전기적 접속부(1003)가 있는 전압 전위가 클수록, 그에 의해 생성된 전기장 강도가 더 커진다. 따라서, 본 발명에 따른 전기적 접속부(1003)를 사용함으로써 상기 전기장 강도를 가능한 한 많이 감소시키는 것이 더욱 중요해진다.
일 실시예에서, 스테이지 장치(1001)는 제1 위치설정 모듈(1011) 및 제2 위치설정 모듈(1012)을 포함하는 위치설정기를 포함한다. 제1 위치설정 모듈(1011)은 대상물 테이블(1002)을 위치설정시키도록 구성되고, 제2 위치설정 유닛(1012)은 대상물 테이블(1002)과 제 1 위치설정 모듈(1011)을 위치설정시키도록 구성된다. 전기적 접속부(1004)는 제1 위치설정 모듈(1011)과 제2 위치설정 모듈(1012) 사이의 접속부를 형성한다. 제1 위치설정 모듈(1011)은 예를 들어, 도 1에 도시된 위치설정 디바이스(180)의 제1 위치설정기에, 제2 위치설정 모듈은 제 2 위치설정기에 대응할 수 있다. 제 1 위치설정 모듈(1011)은 또한 숏-스트로크 모듈로서 지칭될 수 있고, 제 2 위치설정 모듈(1012)은 또한 롱-스트로크 모듈로 지칭될 수 있다.
도 9를 다시 참조하면, 제1 위치설정 모듈(1011)은 바람직하게는 제2 위치설정 모듈(1012)으로부터 가능한 한 독립적으로 가능한 한 정확하게 대상물 테이블(1002)을 위치 결정할 수 있다. 따라서, 전기적 접속부(1004)에 의해 형성된 접속부는 본 발명에 따른 전기적 접속부(1003)에 의해 제공되는 낮은 기계적 강성을 가져야 한다.
다른 실시예에서, 대상물 테이블(1002)은 제1 위치설정 모듈(1011)에 배치되고, 전원은 제2 위치설정 모듈(1012)에 배치된다.
일 실시예에서, 스테이지 장치(1001)는 전기적 접속부(1003)와 유사하게 구현된 적어도 하나의 추가 전기적 접속부를 포함한다. 도시된 실시예에서, 스테이지 장치(1001)는 6개의 유사한 전기적 접속부(1003)를 포함한다. 선택적으로, 전기적 접속부들(1003) 각각은 다른 전극(도 9에 도시되지 않음)을 충전하도록 구성되고, 및/또는 전기적 접속부들(1003) 중 하나 이상은 사용 중에 서로 상이한 전압 전위 상에 있을 수 있다.
도 10은 스테이지 장치가 전기적 접속부(301)의 적어도 일부를 차폐하기 위한 선택적인 전기장 실드(361)를 더 포함하는 실시예를 예시하며, 이는 예를 들어, 도시된 예에서 도 6a 내지 도 6e에 또한 도시된 바와 같은 전기적 접속부(301)인 전기 적 접속부(301)의 적어도 일부에 인접하여 배열될 수 있다. 전기장 실드(361)는 전기적 접속부(301)에 의해 생성된 전기장이 전기장 실드(361) 뒤에 있는 컴포넌트들에 영향을 미치는 것을 방지한다. 전기장 실드(361)는 예컨대 접지될 수 있는 전도체일 수 있다.
도시된 예에서, 전기장 실드(361)는 제1 단부(303)를 포함하는 전기적 접속부(301)의 제1 부분(301.1)을 둘러싸는 제1 포위 체적(surrounding volume)(361.1) 및 제2 단부(304)를 포함하는 전기적 접속부(301)의 제2 부분(301.2)을 둘러싸는 제2 포위 체적(361.2)을 포함한다. 도시된 예에서, 제2 포위 체적(361.2)의 적어도 일부의 외부면(361.2a)은 제1 포위 체적(361.1)의 적어도 일부의 내부면(361.1a)보다 더 작고, 제1 및 제2 포위 체적(361.1, 361.2)의 상기 부분은 반경방향으로 인접하도록 구성되고, 이에 의해 서로에 대한 제1 및 제 2 포위 체적(361.1, 361.2)의 축방향 이동을 허용한다. 대안적인 실시예에서, 제2 포위 체적(361.2)의 적어도 일부의 내부면은 제1 포위 체적의 적어도 일부(361.1)의 외부면보다 클 수 있다.
도시된 예에서, 제1 및 제2 포위 체적(361.1, 361.2)은, 도시된 예에서 전도성 가요성 와이어(361.3)를 통해 서로 전기적으로 결합되고, 제1 및 제2 포위 체적(361.1, 361.2) 중 적어도 하나는 예를 들어 접지될 수 있다. 그러나, 전도성 가요성 와이어(361.3)를 갖거나 갖지 않고, 제1 포위 체적(361.1)을 제1 단부(303)에 그리고/또는 제2 포위 체적(361.2)을 제2 단부(304)에 전기적으로 연결하는 것이 또한 가능하다.
이 실시예에서, 전기적 접속부(301)는 항상 전기장 실드(361)에 의해 완전히 둘러싸이지만, 여전히 전기적 접속부의 일 단부의 다른 단부에 대한 이동을 허용하는데, 그 이유는 제1 포위 체적(361.1) 및 제2 포위 체적(361.2)이 축방향(X)으로 서로에 대해 이동할 수 있기 때문이다.
도시된 실시예에서, 제1 및 제2 포위 체적(361.1, 361.2)은 중공 실린더로서 형성된다. 그러나, 다른 배열이 가능하다. 예를 들어, 제2 포위 체적(361.2)은 제1 포위 체적의 반경 방향 크기와 동일한 중공 원통으로서 부분적으로 성형될 수 있지만, 제1 포위 체적의 직경 방향 크기와 제2 포위 체적의 직경 방향 크기는 중첩되어 있는 협소부를 갖는다. 다른 예는, 전기장 실드(361)가 전기적 접속부(301)의 일 단부에 약간의 갭을 갖는 전기적 접속부의 거의 전체 길이를 통해 연장되는 제1 포위 체적(361.1)만을 포함하고, 따라서 제1, 2 부분(301.1 및 301.2) 둘 모두를 실질적으로 포위하지만, 여전히 제1 단부(303)와 제2 단부(404) 사이에 강성 연결부를 도입하지 않고, 제1 단부와 제2 단부의 상대 이동을 허용한다는 것이다. 도 11a는 전기적 접속부(901)의 실시예를 추가로 도시하고, 여기서 복수의 루프는 적어도 제1 루프(902a), 제2 루프(902b) 및 제3 루프(902c)를 포함하고, 여기서 제1 루프(902a)를 제1 루프(902a), 제2 루프(902b) 및 제3 루프(902c) 사이에서 제1 단부(903)에 가장 가깝게 배열한다. 제3 루프(902c)는 제1 루프(902a), 제2 루프(902b) 및 제3 루프(902c) 사이에서 제2 단부(904)에 가장 가깝게 배열된다. 제2 루프(902b)는 제1 루프(902a)와 제3 루프(902c) 사이에 배열되고, 복수의 루프는, 제1 루프(902a)가 제2 루프(902b)보다 더 작은 직경을 갖고, 제2 루프(902b)가 제3 루프(902c)보다 더 작은 직경을 갖는, 증가 직경 배열(increasing diameter arrangement)로 배열된다. 대안적으로, 복수의 루프는, 제1 루프(902a)가 제2 루프(902b)보다 더 큰 직경을 갖고 제2 루프(902b)가 제3 루프(902c)보다 더 큰 직경을 갖는, 감소 직경 배열(decreasing diameter arrangement)로 배열될 수 있다.
도 11b는 본 발명에 따른 전기적 접속부(601)의 다른 실시예를 도시하며, 이 경우, 도 11b에서 제1 루프(602.1a) 및 제2 루프(602.1b)의 참조번호로 표시된 복수의 루프를 포함하는 코일 형상으로 배열된 와이어(602.1)를 포함한다. 선택적으로, 제1 루프(602.1a)의 직경은 제2 루프(602.1b)의 직경과 상이하고, 예를 들어 복수의 루프는 서로 상이한 직경을 갖는 루프를 포함하고, 또한 선택적으로 루프의 직경은 전기적 접속부(601)의 제1 단부(603)와 제2 단부(704) 사이의 제1 방향(X)으로 볼 때 단조적으로 증가 또는 감소한다. 예를 들어, 도시된 실시예에서, 제1 루프(602.1a)는 제2 루프(602.1b)보다 큰 직경을 갖고, 직경은 제1 방향(X)에서 볼 때 감소한다.
도시된 실시예에서, 전기적 접속부(601)는 복수의 루프를 포함하는 코일 형상으로 배열된 선택적인 제2 와이어(602.2)를 더 포함하고, 루프의 직경은 제1 방향(X)에서 볼 때 단조적으로 증가 또는 감소한다. 특히, 제1 방향(X)에 수직인 방향(Y)으로 서로 인접하게 배열된 와이어(602.1, 602.2)는 단조적으로 증가 및 감소하는 직경을 갖는 루프를 교대로 갖는다. 따라서, 도시된 예에서, 와이어(602.1)는 감소하는 직경을 갖는 루프를 갖고, 와이어(602.2)는 증가하는 직경을 갖는 루프를 갖는다. 이와 같이 와이어들(602.1, 602.2)을 배열함으로써, 이들은 방향(Y)으로 서로 더 가깝게 배치될 수 있고, 따라서 더 적은 공간을 소비한다. 도 11b에 도시된 전기적 접속부(601)의 2개의 와이어(602.1, 602.2)와 유사하게 배열된 각각의 하나의 와이어를 포함하는 2개의 전기적 접속부를 제공하는 것이 또한 가능하다는 것이 주목된다.
다시 말해서, 전기적 접속부(601)는 증가 배열 또는 감소 배열로 배열된 복수의 루프를 포함하는 코일 형상으로 배열된 복수의 와이어(602.1, 602.2)를 포함하고, 제1 방향(X)에 실질적으로 수직인 방향(Y)으로 서로 인접하게 배열된 와이어는 증가 배열 및 감소 배열로 교대로 배열된다. 동일한 효과가, 직경 증가 또는 직경 감소 배열로 배열된 복수의 루프를 포함하는 코일 형상으로 배열된 적어도 하나의 와이어를 각각 포함하는, 서로 인접하게 배열된 복수의 전기적 접속부에 의해 달성될 수 있다는 것이 주목된다.
도 11c는 전기적 접속부(701)의 다른 실시예를 도시하며, 복수의 루프는 적어도 제1 루프(702a), 제2 루프(702b) 및 제3 루프(702c)를 포함한다. 제1 루프(702a)는 제1, 제2 및 제3 루프들 중 제1 단부(103)에 가장 가깝게 배열된다. 제 3 루프(702c)는 제 1 루프, 제 2 루프 및 제 3 루프 중 제 2 단부(704)에 가장 가깝게 배열된다. 제2 루프(702b)는 제1 루프(702a)와 제3 루프(702c) 사이에 배열되고, 제2 루프(702b)의 직경은 제1 루프(702a)의 직경보다 작고 제3 루프(702c)의 직경보다 작다.
도 11d 내지 도 11f는 전기적 접속부(801)의 실시예를 도시하며, 여기서 복수의 루프 중 적어도 하나의 루프(802a)는 복수의 루프의 적어도 하나의 다른 루프(802b)와 비교하여 반대 방향으로 권취된다. 이는 각각 도 11e 및 도 11f에 도시된 단면 DD, EE로 도시되어 있다. 루프들(802a, 802b)이 반대 방향들로 만곡되게 함으로써, 전류가 와이어(802)를 통해 흐를 때 생성된 자기장은 각각의 루프(802a, 802b)에 대해 반대이다. 따라서, 상기 자기장들은 적어도 부분적으로 서로 상쇄되고, 결과적인 자기장은 감소되며, 이에 의해, 예를 들어 스테이지 장치 또는 e-빔 검사 툴에서 다른 주변 컴포넌트들에 영향을 미칠 위험을 감소시킨다.
일 실시예에서, 본 발명에 따른 전기적 접속부는 비원형 단면을 갖는 하나 이상의 와이어를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 와이어는 타원형 단면을 가질 수 있고, 예를 들어 전기적 접속부의 외부 표면의 접선을 따라 더 길다.
일 실시예에서, 예를 들어, 코일 형상인, 전기적 접속부의 하나 이상의 와이어가 사전 인장될 수 있다. 이는 가속이 발생할 때 원하지 않는 편향을, 예를 들어 옆으로 감소시킬 수 있고, 횡단 공진 모드의 주파수를 증가시킨다.
추가의 실시예들은 다음의 조항들에서 설명될 수 있다:
1. 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치로서, 상기 대상물 테이블은, 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 상기 전극에 전기적으로 접속된 제 1 단자를 상기 전원에 전기적으로 접속되는 제 2 단자에 접속하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하고, 상기 전기적 접속부는,
직경을 갖고 전기적 접속부의 제1 단부와 제2 단부 사이의 제1 방향으로의 거리에 걸쳐 있는 하나 이상의 와이어의 공간 배열을 포함하고,
사용시, 등가 전기적 직경에 의해 부분적으로 결정되는 전기장을 생성하도록 구성되고, 상기 등가 전기적 직경은,
하나 이상의 와이어들의 공간 배열에 의해 정의되고,
실질적으로 직선으로 배열되고 제1 방향으로의 거리에 걸쳐 있기 위한 전기적 등가 와이어의 직경과 동일하고, 전기적 등가 와이어는 실질적으로 동일한 최대 강도를 갖는 전기장을 생성할 것이고,
상기 등가 전기적 직경은 상기 하나 이상의 와이어들의 임의의 직경보다 크다.
2. 항목 1에 의한 스테이지 장치로서, 전기적 접속부는 추가로,
기계적 강성을 갖고, 상기 기계적 강성은,
제1 방향으로 단위 길이에 대해 전기적 접속부를 압축 또는 신장시키는데 필요한 힘을 나타내고,
이에 대한 등가의 기계적 직경이 결정되고,
실질적으로 직선으로 배열되고, 제1 방향으로의 거리에 걸쳐있기 위한 기계적 등가 와이어의 직경과 동일하고, 기계적 등가 와이어는 전기적 접속부와 동일한 기계적 강성을 포함할 것이고,
상기 등가 전기적 직경은 상기 등가 기계적 직경보다 크다.
3. 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치로서, 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 상기 전극에 전기적으로 연결된 제 1 단자를 상기 전원에 전기적으로 연결되는 제 2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하고,
상기 전기적 접속부는 길이 및 직경을 각각 갖는 하나 이상의 와이어들을 포함하고, 상기 와이어들 중 하나의 와이어의 적어도 하나의 와이어 세그먼트가 사용 시에 각각의 와이어의 길이를 따른 위치들의 적어도 75%, 80%, 85%, 90%, 95%, 또는 99%에 대해 상기 와이어의 상기 위치 부근에 배치되도록 배열되고, 상기 부근에 배열되는 것은 상기 와이어의 직경의 4배, 5배, 또는 6배 이하의 거리에서 상기 위치에서 상기 와이어에 수직인 방향으로 배열되는 것으로 정의된다.
4. 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치로서, 상기 대상물 테이블은, 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 상기 전극에 전기적으로 접속된 제 1 단자를 상기 전원에 전기적으로 접속되는 제 2 단자에 접속하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하고, 상기 전기적 접속부는,
전기 전도성 물질을 포함하고,
전기적 접속부의 제1 단부와 제2 단부 사이의 제1 방향으로의 거리에 걸쳐 있고,
상기 전기적 접속부는 실질적으로 모든 전기 전도성 물질을 포함하도록 정의되는 가상의 인벨로프 볼륨을 더 포함하고,
전기적 접속부의 외부 부분들은 가상의 인벨로프 볼륨의 외부 경계들을 정의하고,
상기 가상의 인벨로프 볼륨의 볼륨의 적어도 1%, 5% 또는 10%의 볼륨을 갖는 적어도 하나의 보이드를 포함하고,
가상 인벨로프 볼륨의 각각의 단면에 대해, 단면 내의 전기 전도성 물질의 총 면적은 상기 단면의 면적보다 작다.
5. 항목 4에 의한 스테이지 장치로서, 상기 가상 인벨로프 볼륨은 상기 제1 방향에 수직인 평면에서 상기 가상 인벨로프 볼륨의 임의의 단면이 동일한 형상을 갖도록 정의된다.
6. 항목 4 또는 항목 5에 의한 스테이지 장치로서, 전기적 접속부는 단일 평면에 배열되지 않는 복수의 평행한 와이어를 포함하고, 가상 인벨로프 볼륨은 제1 방향에 수직인 평면에서 가상 인벨로프 볼륨의 단면이 다각형 형상을 갖도록 정의되고, 복수의 와이어의 외부 와이어는 다각형의 코너를 형성하고, 다각형의 측면은 상기 외부 와이어를 직선 세그먼트와 연결함으로써 정의된다.
7. 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치로서, 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 상기 전극에 전기적으로 연결된 제 1 단자를 상기 전원에 전기적으로 연결되는 제 2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하고,
전기적 접속부는 직경을 갖고 전기적 접속부의 제1 단부와 제2 단부 사이의 거리에 걸쳐 있는 하나 이상의 와이어를 포함하고, 전기적 접속부는 전기적 접속부에 의해 생성된 최대 전기장 강도가 동일한 직경의 직선 와이어에 의해 생성되고 동일한 거리에 걸쳐있는 최대 전기장 강도보다 작도록 배열된다.
8. 항목 1 내지 6 중 어느 한 항목에 의한 스테이지 장치로서, 상기 전기적 접속부는 상기 전기적 접속부의 상기 제1 단부와 상기 제2 단부 사이에 복수의 루프를 포함하는 적어도 하나의 와이어를 포함하고, 상기 복수의 루프는, 사용 중에, 인접한 루프의 대응하는 부분이 상기 와이어의 직경의 4배, 5배, 또는 6배 이하의 거리에 걸쳐 이격되도록, 서로 실질적으로 평행하게 배열된다.
9. 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치로서, 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 상기 전극에 전기적으로 연결된 제 1 단자를 상기 전원에 전기적으로 연결되는 제 2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하고,
전기적 접속부는 전기적 접속부의 제1 단부와 제2 단부 사이에 복수의 루프를 포함하는 적어도 하나의 와이어를 포함하고, 복수의 루프는 서로 실질적으로 평행하게 배열되어, 사용 중에, 인접한 루프의 대응하는 부분이 상기 와이어의 직경의 4배, 5배 또는 6배 이하의 거리에 걸쳐 이격된다.
10. 항목 8 또는 항목 9에 의한 스테이지 장치로서, 루프 직경은 와이어의 직경의 3배 내지 6배 사이이다.
11. 선행하는 항목들 중 하나 이상에 따른 스테이지 장치로서, 전기적 접속부는 번들 커넥터로서 배열되고 단일 평면에 배열되지 않는 복수의 와이어들을 포함하고, 번들 커넥터의 인접한 와이어들 사이의 공칭 거리는 와이어들의 직경의 4배, 5배, 또는 6배 이하이다.
12. 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치로서, 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 상기 전극에 전기적으로 연결된 제 1 단자를 상기 전원에 전기적으로 연결되는 제 2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하고,
전기적 접속부는 번들 커넥터로서 배열되고 단일 평면에 배열되지 않은 복수의 와이어들을 포함하고, 번들 커넥터의 인접한 와이어들 사이의 공칭 거리는 와이어들의 직경의 4배, 5배, 또는 6배 이하이다.
13. 항목 11 또는 항목 12에 의한 스테이지 장치로서, 번들 커넥터는 적어도 4개의 평행한 와이어를 포함한다.
14. 항목 11 내지 13 중 어느 한 항목에 의한 스테이지 장치로서, 복수의 와이어들의 제1 단부들 및 제2 단부들은 원형 원주 상에 배열된다.
15. 기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블을 포함하는 스테이지 장치로서, 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극, 및 상기 전극에 전기적으로 연결된 제 1 단자를 상기 전원에 전기적으로 연결되는 제 2 단자에 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함하고,
상기 전기적 접속부는 전기 전도성 물질로 제조된 실린더를 포함하고, 복수의 개구를 포함한다.
16. 선행 항목들 중 하나 이상에 따른 스테이지 장치로서, 전극은 전원에 의해 그리고 전기적 접속부를 통해 적어도 -100 V, -1 kV, -10 kV, 또는 -100 kV로 충전되도록 구성된다.
17. 선행 항목들 중 하나 이상에 의한 스테이지 장치로서, 전기적 접속부의 적어도 일부를 차폐하기 위한 전기장 실드를 추가로 포함한다.
18. 항목 17에 의한 스테이지 장치로서, 상기 전기장 실드는 제1 단부를 포함하는 상기 전기적 접속부의 제1 부분을 둘러싸는 제1 포위 체적, 및 제2 단부를 포함하는 상기 전기 접속부의 제2 부분을 둘러싸는 제2 포위 체적을 포함하고, 상기 제2 포위 체적의 적어도 일부의 외면은, 상기 제1 포위 체적 중 적어도 일부의 내면보다 작거나, 또는 상기 제2 포위 체적의 적어도 일부의 내면이 상기 제1 포위 체적의 외면보다 크고, 상기 제1 및 제2 포위 체적의 상기 일부들은 방사상으로 인접하도록 구성되고, 이에 의해 서로에 대한 상기 제1 및 제2 포위 체적들의 축방향 이동을 허용한다.
19. 항목 18에 의한 스테이지 장치로서, 제1 및/또는 제2 포위 체적은 중공 실린더로서 형성된다.
20. 선행 항목들 중 하나 이상에 따른 스테이지 장치로서, 전기적 접속부의 하나 이상의 와이어와 실질적으로 동일하게 배열되는 하나 이상의 와이어를 포함하는 적어도 하나의 추가의 전기적 접속부를 포함한다.
21. 선행 항목들 중 하나 이상에 따른 스테이지 장치로서,
제1 위치설정 모듈 및 제2 위치설정 모듈을 포함하는 위치설정기를 포함하고,
제1 위치설정 모듈은 대상물 테이블을 위치시키도록 구성되고,
상기 제2 위치설정 모듈은 상기 대상물 테이블 및 상기 제1 위치설정 모듈을 위치시키도록 구성되고,
상기 제1 위치설정 모듈은 상기 전극에 전기적으로 연결된 제1 단자를 포함하고, 상기 제2 위치설정 모듈은 상기 전원에 전기적으로 연결된 제2 단자를 포함한다.
22. 항목 21에 의한 스테이지 장치로서, 대상물 테이블은 제1 위치설정 모듈에 배열되고, 전원은 제2 위치설정 모듈에 배열된다.
23. 선행 항목들 중 하나 이상에 의한 스테이지 장치로서, 전기적 접속부는 복수의 루프를 포함하는 코일 형상으로 배열된 적어도 하나의 와이어를 포함한다.
24. 항목 23에 의한 스테이지 장치로서, 복수의 루프는 적어도 제1 루프 및 제2 루프를 포함하고, 제1 루프의 직경은 제2 루프의 직경과 상이하다.
25. 항목 24에 의한 스테이지 장치로서, 복수의 루프는 적어도 제 1 루프, 제 2 루프 및 제 3 루프를 포함하고,
제1 루프는 제1, 제2 및 제3 루프 중 제1 단부에 가장 가깝게 배열되고,
제3 루프는 제1, 제2 및 제3 루프 중 제2 단부에 가장 가깝게 배열되고,
상기 제2 루프는 상기 제1 루프와 상기 제3 루프 사이에 배치되고,
상기 복수의 루프는 상기 제1 루프가 상기 제2 루프보다 작은 직경을 갖고, 상기 제 2 루프가 제3 루프보다 더 작은 직경을 갖는 증가 배열로 배치되거나, 또는
상기 복수의 루프는 상기 제1 루프가 상기 제2 루프보다 더 큰 직경을 갖고, 상기 제 2 루프가 제3 루프보다 큰 직경을 갖는 감소 배열로 배치된다. .
26. 항목 25에 의한 스테이지 장치로서,
상기 전기적 접속부는 상기 증가 배열 또는 상기 감소 배열로 배치된 복수의 루프를 포함하는 코일 형상으로 배열된 복수의 와이어를 포함하고,
상기 제1 방향에 대해 실질적으로 수직인 방향으로 서로 인접하게 배열된 와이어들은 상기 증가 배열 및 감소 배열로 교대로 배치된다.
27. 항목 24에 의한 스테이지 장치로서, 복수의 루프는 적어도 제1 루프, 제2 루프 및 제3 루프를 포함하고,
제1 루프는 제1, 제2 및 제3 루프 중 제1 단부에 가장 가깝게 배열되고,
제3 루프는 제1, 제2 및 제3 루프 중 제2 단부에 가장 가깝게 배열되고,
상기 제2 루프는 상기 제1 루프와 상기 제3 루프 사이에 배치되고,
상기 제2 루프는 상기 제1 루프 및 상기 제3 루프보다 작은 직경을 갖는다.
28. 항목 8-10, 23-27 중 하나 이상에 따른 스테이지 장치로서, 복수의 루프 중 적어도 하나의 루프는 복수의 루프 중의 적어도 하나의 다른 루프와 비교하여 반대 방향으로 권취된다.
29. 선행 항목들 중 하나 이상에 따른 스테이지 장치를 포함하는 장치로서, 상기 장치는 리소그래피 장치, 계측 장치, 입자 빔 장치, 전자 빔 장치, 전자 빔 검사 장치, 또는 검사 장치이다.
30. 스테이지 장치로서,
기판을 홀딩하도록 구성된 대상물 테이블 ― 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극 및 상기 전극을 상기 전원에 전기적으로 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함함 ―, 및
상기 전기적 접속부의 적어도 일부를 차폐하도록 구성된 전기장전기장 실드를 포함한다.
31. 항목 30에 의한 스테이지 장치로서, 상기 전기장 실드는 상기 전기적 접속부와 대상물 사이에 배치되고, 상기 전극은 상기 전원에 의해 제 1 전압이 인가되고, 상기 대상물은 상기 제 1 전압과 상이한 제 2 전압에 있다.
32. 항목 30 또는 항목 31에 의한 스테이지 장치로서, 상기 전기적 접속부는 하나 이상의 와이어를 포함한다.
33. 항목 30 내지 항목 32 중 어느 하나에 의한 스테이지 장치로서, 상기 전기 접속부는 하나 이상의 코일을 포함한다.
34. 항목 30 내지 항목 33 중 어느 하나에 의한 스테이지 장치로서, 제1 위치설정 모듈 및 제2 위치설정 모듈을 포함하는 위치설정기를 추가로 포함하고,
제1 위치설정 모듈은 대상물 테이블을 위치시키도록 구성되고,
상기 제2 위치설정 모듈은 상기 대상물 테이블 및 상기 제1 위치설정 모듈을 위치시키도록 구성된다.
35. 항목 34에 의한 스테이지 장치로서, 제1 위치설정 모듈은 미세 위치설정 모듈이고, 제2 위치설정 모듈은 조대 위치설정 모듈이다.
36. 항목 35에 의한 스테이지 장치로서, 전기적 접속부는 전극과 제2 위치설정 모듈을 접속하거나, 또는 전기적 접속부가 제1 위치설정 모듈과 제2 위치 설정 모듈을 접속한다.
37. 항목 36에 의한 스테이지 장치로서, 전기장 실드는 전기적 접속부와 제2 위치설정 모듈의 일부 사이에 배열되고, 전극은 전원에 의해 제3 전압이 인가되고, 제2 위치설정 모듈의 일부는 제3 전압과 상이한 제4 전압에 있다.
38. 스테이지 장치로서,
기판을 홀딩하도록 구성된 대상물 테이블 ― 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극 및 상기 전극을 상기 전원에 전기적으로 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함함 ― 을 포함하고,
전기적 접속부는 원형 원주 상에 배열된 하나 이상의 코일, 또는 하나 이상의 와이어를 포함한다.
39. 항목 38에 의한 스테이지 장치로서, 하나 이상의 코일은 복수의 루프를 포함하고, 복수의 루프는 적어도 제1 루프 및 제2 루프를 포함하며, 제1 루프의 직경은 제2 루프의 직경과 상이하다.
40. 항목 39에 의한 스테이지 장치로서, 복수의 루프는 적어도 제1 루프, 제2 루프 및 제3 루프를 포함하고,
제1 루프는 제1, 제2 및 제3 루프들 중에서 전기적 접속부의 제1 단부에 가장 가깝게 배열되고,
제3 루프는 제1, 제2 및 제3 루프들 중에서 전기적 접속부의 제2 단부에 가장 가깝게 배열되고,
상기 제2 루프는 상기 제1 루프와 상기 제3 루프 사이에 배치되고,
상기 복수의 루프는, 상기 제1 루프가 상기 제2 루프보다 작은 직경을 갖고, 상기 제 2 루프가 제3 루프보다 더 작은 직경을 갖는 증가 배열로 배치되거나, 또는
상기 복수의 루프는, 상기 제1 루프가 상기 제2 루프보다 더 큰 직경을 갖고, 상기 제 2 루프가 제3 루프보다 큰 직경을 갖는 감소 배열로 배치된다.
41. 항목 40에 의한 스테이지 장치로서,
하나 이상의 코일 중 적어도 2개의 복수의 루프는 증가 배열 및 감소 배열 중 하나로 배치되고,
상기 전기적 접속부의 방향에 실질적으로 수직인 방향으로 서로 인접하게 배열된 상기 하나 이상의 코일들 중 적어도 2개는 상기 증가 배열 및 상기 감소 배열로 교대로 배치된다.
42. 항목 39에 의한 스테이지 장치로서, 복수의 루프는 적어도 제1 루프, 제2 루프 및 제3 루프를 포함하고,
제1 루프는 제1, 제2 및 제3 루프들 중에서 전기적 접속부의 제1 단부에 가장 가깝게 배열되고,
제3 루프는 제1, 제2 및 제3 루프들 중에서 전기적 접속부의 제2 단부에 가장 가깝게 배치되고,
상기 제2 루프는 상기 제1 루프와 상기 제3 루프 사이에 배치되고,
상기 제2 루프는 상기 제1 루프 및 상기 제3 루프보다 작은 직경을 갖는다.
43. 항목 39 내지 42 중 어느 한 항목에 의한 스테이지 장치로서, 상기 복수의 루프 중 적어도 하나의 루프는 상기 복수의 루프의 적어도 하나의 다른 루프와 비교하여 반대 방향으로 권취된다.
44. 항목 30 내지 43 중 어느 한 항목에 의한 스테이지 장치를 포함하는 장치로서, 상기 장치는 리소그래피 장치, 계측 장치, 입자 빔 장치, 전자 빔 장치, 전자 빔 검사 장치, 또는 검사 장치이다.
몇몇 실시예들이 본 명세서에 예시되지만, 하나 이상의 와이어들의 다수의 다른 배열이 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 가능하다는 것이 주목된다. 예를 들어, 루프 대신에, 와이어는 사행(meandering) 또는 다른 만곡된 형상으로 배열될 수 있다.
본 명세서의 전기적 접속부 및 스테이지 장치가 주로 e-빔 검사 툴에 대해 설명되지만, 이들은 또한 다른 응용들에서 적용될 수 있다는 것이 주목된다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 스테이지 장치를 포함하는 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 리소그래피 장치, 계측 장치, 입자 빔 장치, 입자 빔 검사 장치, 또는 검사 장치이다.
본 발명이 바람직한 실시예와 관련하여 설명되었지만, 이후에 청구되는 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다른 수정들 및 변형들이 이루어질 수 있다는 것이 이해되어야 한다.

Claims (15)

  1. 스테이지 장치로서,
    기판을 유지하도록 구성된 대상물 테이블 - 상기 대상물 테이블은 전원에 의해 충전되도록 구성된 전극과, 상기 전극을 상기 전원에 전기적으로 연결하도록 구성된 전기적 접속부를 포함함 - ; 및
    상기 전기적 접속부의 적어도 일부를 차폐하도록 구성된 전기장 실드; 및
    제 1 위치설정 모듈 및 제 2 위치설정 모듈을 포함하는 위치설정기
    를 포함하고,
    상기 제 1 위치설정 모듈은 상기 대상물 테이블을 위치설정하도록 구성되고,
    상기 제 2 위치설정 모듈은 상기 대상물 테이블 및 상기 제 1 위치설정 모듈을 위치설정하도록 구성되며,
    상기 전기장 실드는 상기 전기적 접속부와 상기 제 2 위치설정 모듈의 일부 사이에 배치되고, 상기 전극은 상기 전원에 의해 제 3 전압이 인가되고, 상기 제 2 위치설정 모듈의 일부는 상기 제 3 전압과 상이한 제 4 전압에 있는,
    스테이지 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기장 실드는 상기 전기적 접속부와 대상물 사이에 배치되고, 상기 전극은 상기 전원에 의해 제 1 전압이 인가되고, 상기 대상물은 상기 제 1 전압과 상이한 제 2 전압에 있는,
    스테이지 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기적 접속부는 하나 이상의 와이어를 포함하는,
    스테이지 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기적 접속부는 하나 이상의 코일을 포함하는,
    스테이지 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 위치설정 모듈은 미세(fine) 위치설정 모듈이고, 상기 제 2 위치설정 모듈은 조대(coarse) 위치설정 모듈인,
    스테이지 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 전기적 접속부는 상기 전극과 상기 제2 위치설정 모듈을 연결하거나, 또는 상기 전기적 접속부는 상기 제1 위치설정 모듈과 상기 제 2 위치설정 모듈을 연결하는,
    스테이지 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기적 접속부는 원형 원주 상에 배치된 하나 이상의 와이어를 포함하는,
    스테이지 장치.
  8. 제 4 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 코일은 복수의 루프를 포함하고, 상기 복수의 루프는 적어도 제 1 루프 및 제 2 루프를 포함하며, 상기 제 1 루프의 직경은 상기 제 2 루프의 직경과 상이한,
    스테이지 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 복수의 루프는 적어도 상기 제 1 루프, 상기 제 2 루프, 및 제 3 루프를 포함하고,
    상기 제 1 루프는 상기 제 1, 2, 3 루프들 중 상기 전기적 접속부의 제 1 단부에 가장 근접하도록 배치되고,
    상기 제 3 루프는 상기 제 1, 2, 3 루프들 중 상기 전기적 접속부의 제 2 단부에 가장 근접하도록 배치되고,
    상기 제 2 루프는 상기 제 1 루프와 상기 제 3 루프 사이에 배치되고,
    상기 복수의 루프는, 상기 제 1 루프가 상기 제 2 루프보다 작은 직경을 갖고 상기 제 2 루프가 상기 제 3 루프보다 작은 직경을 갖는 증가 배열로 배치되거나, 또는 상기 복수의 루프는, 상기 제 1 루프가 상기 제 2 루프보다 큰 직경을 갖고 상기 제 2 루프가 상기 제 3 루프보다 큰 직경을 갖는 감소 배열로 배치되는,
    스테이지 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 코일 중 적어도 2개의 코일의 복수의 루프는 증가 배열과 감소 배열 중 하나로 배치되고,
    상기 전기적 접속부의 방향에 실질적으로 수직인 방향으로 서로 인접하게 배열된 하나 이상의 코일 중 적어도 2개는 증가 배열 및 감소 배열로 교대로 배치되는,
    스테이지 장치.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 복수의 루프는 적어도 상기 제 1 루프, 상기 제 2 루프 및 제 3 루프를 포함하고,
    상기 제 1 루프는 상기 제 1, 2 및 3 루프들 중 상기 전기적 접속부의 제 1 단부에 가장 근접하게 배치되고,
    상기 제 3 루프는 상기 제 1, 2, 3 루프들 중 상기 전기적 접속부의 제 2 단부에 가장 근접하게 배치되고,
    상기 제 2 루프는 상기 제1 루프와 상기 제 3 루프 사이에 배치되고,
    상기 제 2 루프의 직경은 상기 제 1 루프의 직경 및 상기 제 3 루프의 직경보다 작은,
    스테이지 장치.
  12. 제 8 항에 있어서,
    상기 복수의 루프 중 적어도 하나의 루프는 상기 복수의 루프의 적어도 하나의 다른 루프와 비교하여 반대 방향으로 권취되는,
    스테이지 장치.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 의한 스테이지 장치를 포함하는 장치로서, 상기 장치는 리소그래피 장치, 계측 장치, 입자 빔 장치, 전자 빔 장치, 전자 빔 검사 장치, 또는 검사 장치인, 장치.
  14. 삭제
  15. 삭제
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102533089B1 (ko) * 2018-12-20 2023-05-17 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 스테이지 장치
US11501946B2 (en) * 2021-03-01 2022-11-15 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus
EP4290550A1 (en) * 2022-06-10 2023-12-13 ASML Netherlands B.V. Electron-optical device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003264145A (ja) 2002-01-18 2003-09-19 Nikon Corp 電子ビーム露光装置のステージに用いる電力供給線を冷却する装置および方法
US20040027781A1 (en) 2002-08-12 2004-02-12 Hiroji Hanawa Low loss RF bias electrode for a plasma reactor with enhanced wafer edge RF coupling and highly efficient wafer cooling

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6937911B2 (en) * 2002-03-18 2005-08-30 Nikon Corporation Compensating for cable drag forces in high precision stages
US8041433B2 (en) * 2004-08-20 2011-10-18 Medtronic, Inc. Magnetic resonance imaging interference immune device
US7542127B2 (en) * 2005-12-21 2009-06-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method for manufacturing a device
US7492441B2 (en) * 2005-12-22 2009-02-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method incorporating a pressure shield
US7880864B2 (en) * 2006-12-27 2011-02-01 Canon Kabusiki Kaisha Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8681472B2 (en) * 2008-06-20 2014-03-25 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Platen ground pin for connecting substrate to ground
US8908348B2 (en) * 2009-09-01 2014-12-09 Hermes Microvision, Inc. Wafer grounding and biasing method, apparatus, and application
US8988655B2 (en) * 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
JP5963453B2 (ja) * 2011-03-15 2016-08-03 株式会社荏原製作所 検査装置
JP6038882B2 (ja) * 2011-04-20 2016-12-07 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. 光ファイバの構成体及びこのような構成体を形成する方法
JP5913829B2 (ja) * 2011-04-21 2016-04-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置
EP2551889B1 (en) * 2011-07-26 2016-03-02 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam apparatus with shielding member having a charge control electrode
EP2754173A4 (en) * 2011-09-06 2015-01-28 Kla Tencor Corp LINEAR STAGE FOR REFLECTIVE ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
WO2013050243A1 (en) * 2011-10-06 2013-04-11 Asml Netherlands B.V. Chuck, lithography apparatus and method of using a chuck
JP5919395B2 (ja) * 2012-02-03 2016-05-18 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 可動ステージシステム及びリソグラフィ装置
US9134261B2 (en) * 2013-04-22 2015-09-15 Ebara Corporation Inspection apparatus
JP2015023768A (ja) * 2013-07-23 2015-02-02 キヤノン株式会社 ステージ装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法
JP6169506B2 (ja) * 2014-02-19 2017-07-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ 試料ホルダ、観察システム、および画像生成方法
CN107533956A (zh) * 2015-04-17 2018-01-02 株式会社尼康 曝光系统
KR102242988B1 (ko) * 2016-06-22 2021-04-20 가부시키가이샤 아루박 플라즈마 처리장치
TWI773710B (zh) * 2016-12-30 2022-08-11 荷蘭商Asml荷蘭公司 調整總成及包含此種調整總成之基板曝光系統
KR102533089B1 (ko) * 2018-12-20 2023-05-17 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 스테이지 장치
JP2023517626A (ja) * 2020-03-12 2023-04-26 カール ツァイス マルティセム ゲゼルシヤフト ミット ベシュレンクテル ハフツング マルチビーム発生ユニットおよびマルチビーム偏向ユニットの特定の改善

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003264145A (ja) 2002-01-18 2003-09-19 Nikon Corp 電子ビーム露光装置のステージに用いる電力供給線を冷却する装置および方法
US20040027781A1 (en) 2002-08-12 2004-02-12 Hiroji Hanawa Low loss RF bias electrode for a plasma reactor with enhanced wafer edge RF coupling and highly efficient wafer cooling

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Publication number Publication date
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