JPS60204668A - 磁気ヘツド用非磁性セラミツク材料 - Google Patents
磁気ヘツド用非磁性セラミツク材料Info
- Publication number
- JPS60204668A JPS60204668A JP59059931A JP5993184A JPS60204668A JP S60204668 A JPS60204668 A JP S60204668A JP 59059931 A JP59059931 A JP 59059931A JP 5993184 A JP5993184 A JP 5993184A JP S60204668 A JPS60204668 A JP S60204668A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- ceramic material
- thermal expansion
- weight
- coefficient
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドの構成に用いられる非磁性セラミッ
ク材１４に係り、特に金属磁性薄膜を蒸着あるいはスパ
ッタリング等をするための薄膜磁気ヘ−ｔ １．− Ｉ
Ｔ＃ ａ）ｄｌ＝ ’Ｊ：ｈ 、Ｉ４ｙ −ｂ ’４
ン ・！／／ｙｊｌｆ：ｇ 壬−１４ｒ、−１４Ｅｌ
−１−ス、 士、のである。
ク材１４に係り、特に金属磁性薄膜を蒸着あるいはスパ
ッタリング等をするための薄膜磁気ヘ−ｔ １．− Ｉ
Ｔ＃ ａ）ｄｌ＝ ’Ｊ：ｈ 、Ｉ４ｙ −ｂ ’４
ン ・！／／ｙｊｌｆ：ｇ 壬−１４ｒ、−１４Ｅｌ
−１−ス、 士、のである。
１．１
磁気ヘッドＡＶＴ Ｒ（Ｖｉｄｅｏ Ｔａｐｅ Ｒｅｃ
ｏｒｄｅｒ ）、 コンピュータ、オーディオ機器の心
臓部品として近年需要が急拡大している。
ｏｒｄｅｒ ）、 コンピュータ、オーディオ機器の心
臓部品として近年需要が急拡大している。
ＶＴＲやコンピュータ等の高密度記録が一段と進むにつ
れ１次階代の磁気ヘッドとして薄膜で構成する薄膜磁気
ヘッドの研究が最近活発に行ｔｒれている。
れ１次階代の磁気ヘッドとして薄膜で構成する薄膜磁気
ヘッドの研究が最近活発に行ｔｒれている。
薄膜ヘッドは記録、再生機能をパーマロイ（Ｆｅ−ＮＬ
）、セｙダス）（Ｐｅ −Ａ／−−８ｉ ）等の金属磁
性薄膜に持たせ、耐摩耗性等の摺動性能を非磁性基板に
持たせる複合ヘッドであり、基板自体にも重要な特性が
要求される。
）、セｙダス）（Ｐｅ −Ａ／−−８ｉ ）等の金属磁
性薄膜に持たせ、耐摩耗性等の摺動性能を非磁性基板に
持たせる複合ヘッドであり、基板自体にも重要な特性が
要求される。
従来この種の非磁性セラミック基板としては。
チタン酸バリウムＢｔｔＴｉＯ３，チタン酸カルシウム
０α’ｆｉＱｚ、アルミナ・炭化チタンＡｔｘ Ｏ３・
ＴｔＯ等のセラミック材料が提案されていた。
０α’ｆｉＱｚ、アルミナ・炭化チタンＡｔｘ Ｏ３・
ＴｔＯ等のセラミック材料が提案されていた。
ところがこのような材料で構成されたセラミツり基板に
は次の如き問題があった。
は次の如き問題があった。
すなわち金属磁性薄膜の特注を引き出すための蒸着、ス
パッタリング等の膜形成の際およびその後の熱処理や、
ギャップ部のガラスボンディング時に、後述するように
基板との熱膨張率の相異から薄膜が剥離するという難点
があった。
パッタリング等の膜形成の際およびその後の熱処理や、
ギャップ部のガラスボンディング時に、後述するように
基板との熱膨張率の相異から薄膜が剥離するという難点
があった。
また従来提案されていた前記セラミック基板はその熱膨
張係数が高々１０ Ｘ Ｉ Ｏ’／ ０Ｃ８度と小さく
、又熱膨張率が金属磁性薄膜と一致するガラスの場合に
は、硬度が低く磁気テープとの摺動時の摩耗が大きい欠
点があった。
張係数が高々１０ Ｘ Ｉ Ｏ’／ ０Ｃ８度と小さく
、又熱膨張率が金属磁性薄膜と一致するガラスの場合に
は、硬度が低く磁気テープとの摺動時の摩耗が大きい欠
点があった。
このためパーマロイ等の金属磁性薄膜の熱膨張率１２〜
１５ Ｘ １０ ’／’Ｏにほぼ合致し、フェライト並
みの耐摩耗性を有する非磁性基板の出現が強く要望され
てい１−０ 〔問題を解決するだめの手段〕 本発明はかかる点に鑑み鋭意研究奮進めた結果。
１５ Ｘ １０ ’／’Ｏにほぼ合致し、フェライト並
みの耐摩耗性を有する非磁性基板の出現が強く要望され
てい１−０ 〔問題を解決するだめの手段〕 本発明はかかる点に鑑み鋭意研究奮進めた結果。
Ｔｉｏｘ ２０〜６０重沿％、Ｎ１０６０〜２０重量％
及びＯａＯ又はＭ、ｙＯの少なくとも１ｍが１０−４０
重量％からなる組成物で、熱膨張率が１１−１．４ＸＩ
Ｑ’／’０であることを要旨とするセラミック材料かこ
の目的に適ｎすることを見出し本発明をなすに至ったも
のである。
及びＯａＯ又はＭ、ｙＯの少なくとも１ｍが１０−４０
重量％からなる組成物で、熱膨張率が１１−１．４ＸＩ
Ｑ’／’０であることを要旨とするセラミック材料かこ
の目的に適ｎすることを見出し本発明をなすに至ったも
のである。
本発明の薄膜ヘッド用に好適な磁気ヘッド用セラミック
基板材料で形成された非磁性基板の特徴は、Ｔｉイオン
、Ｎｔイオン及びＣａイオン又はＭβイオンの少なくと
も１種類を含む特定組成の複合酸化物よりなる点にあり
、これにより熱膨張率がｉｚ〜１４ＸＩＯ／’０と金属
磁性膜にほぼ合致し、フェライト並み以上の耐摩耗性ヲ
有するものを提供する点にある。
基板材料で形成された非磁性基板の特徴は、Ｔｉイオン
、Ｎｔイオン及びＣａイオン又はＭβイオンの少なくと
も１種類を含む特定組成の複合酸化物よりなる点にあり
、これにより熱膨張率がｉｚ〜１４ＸＩＯ／’０と金属
磁性膜にほぼ合致し、フェライト並み以上の耐摩耗性ヲ
有するものを提供する点にある。
本発明の磁気ヘッド用非磁性セラミック材料において、
’ｐｉＱ２は２０〜６０重量％、 ＮｔＯは６０〜２０
重量％、さらにＣα０又はＭＩｌ、Ｏの少なくとも１種
が１０〜４０重惜％である必要があり、こノ１７らの範
囲を逸脱すると目的とするものが得られない。
’ｐｉＱ２は２０〜６０重量％、 ＮｔＯは６０〜２０
重量％、さらにＣα０又はＭＩｌ、Ｏの少なくとも１種
が１０〜４０重惜％である必要があり、こノ１７らの範
囲を逸脱すると目的とするものが得られない。
前記範囲において、Ｔｔ０２は２０ｍ１％以下では耐摩
耗性が悪く、６０重量％以上では熱膨張率が小さくなる
。ＮｔＯは熱膨張率を高めるものであるが２０重量（Ｘ
ν下では熱膨張率が小さく、６０重量％以上では耐摩耗
性が悪くなる。そしｒ Ｃα０又はＭＩＯの少なくとも
１種が１０重量％以下では熱膨張率が小さく、４０Ｍ川
％以上では耐摩耗性が低下する。
耗性が悪く、６０重量％以上では熱膨張率が小さくなる
。ＮｔＯは熱膨張率を高めるものであるが２０重量（Ｘ
ν下では熱膨張率が小さく、６０重量％以上では耐摩耗
性が悪くなる。そしｒ Ｃα０又はＭＩＯの少なくとも
１種が１０重量％以下では熱膨張率が小さく、４０Ｍ川
％以上では耐摩耗性が低下する。
本発明の磁気ヘッド用非磁性セラミック材別によりセラ
ミック基板を製造する方法について１例を示す。
ミック基板を製造する方法について１例を示す。
所定ｊｉ：の酸化チタン、酸化ニッケル、酸化カルシウ
ム、酸化マグネシウムあるいは焼成によりこれらの酸化
物に変換しうる化合物をボールミル等のン昆冶！幾ヲ用
いて充分（昆合したの９・、これらのｌ昆自物を８００
〜１２００′Ｃの温度で仮焼する。
ム、酸化マグネシウムあるいは焼成によりこれらの酸化
物に変換しうる化合物をボールミル等のン昆冶！幾ヲ用
いて充分（昆合したの９・、これらのｌ昆自物を８００
〜１２００′Ｃの温度で仮焼する。
次にこの仮焼粉末をボールミル等の（Ｊｌ、合磯企用い
て再混合粉砕し、乾燥後プレスバインダー’ｘ 混ぜて
成形し、１２５０〜１４００°Ｃの温度範囲で大気又は
窒素中で焼成する。この場合、各原料を独立粉末として
用いてもよいし、任意の組合せのイ厄−１ａ！Ｐ船士を
用いてす、よい〜さらに４を沈法やコロイド添加法等の
公知の手段によって調整した複合酸化物粉末として用い
てもよい。成形後の焼成においては常圧焼結法以外にホ
ットプレス法などの高密度化焼成法を使用してもよい。
て再混合粉砕し、乾燥後プレスバインダー’ｘ 混ぜて
成形し、１２５０〜１４００°Ｃの温度範囲で大気又は
窒素中で焼成する。この場合、各原料を独立粉末として
用いてもよいし、任意の組合せのイ厄−１ａ！Ｐ船士を
用いてす、よい〜さらに４を沈法やコロイド添加法等の
公知の手段によって調整した複合酸化物粉末として用い
てもよい。成形後の焼成においては常圧焼結法以外にホ
ットプレス法などの高密度化焼成法を使用してもよい。
次に具体的な実施例により本発明をさらに詳しく説明す
る。
る。
なお熱膨張率はＪＩＳ法に準じ、室温より５００゜Ｃに
おける平均線膨張よりめた。又耐摩耗性は。
おける平均線膨張よりめた。又耐摩耗性は。
ビン−円板式摩耗試験機を使用し、荷Ｊｊｊ ５０ Ｋ
ｇ／ｌｒｉ。
ｇ／ｌｒｉ。
周速１５０（７）／ｓｅｃの条件で１００時間運転し、
試験片の長さの変化よりめた。なおピンにサンプル、円
板には鉄を用いた。
試験片の長さの変化よりめた。なおピンにサンプル、円
板には鉄を用いた。
実施例
酸化チタン、酸化ニッケル、酸化マグネシウム及び炭酸
カルシウムの比率を変え、ボールミルで２４時時間式混
合し、乾燥後、大気中で１０００’０で焼成し各種仮焼
粉末を作成した。次に得られた各棹仮焼粉末をボールミ
ルで２４時間再度湿式混合粉砕し、乾燥後プレスバイン
ダーとして１重量％のＰＶＡ（ポリ ビニル アルコー
ル）’ｉ／ＪＩＩ工。
カルシウムの比率を変え、ボールミルで２４時時間式混
合し、乾燥後、大気中で１０００’０で焼成し各種仮焼
粉末を作成した。次に得られた各棹仮焼粉末をボールミ
ルで２４時間再度湿式混合粉砕し、乾燥後プレスバイン
ダーとして１重量％のＰＶＡ（ポリ ビニル アルコー
ル）’ｉ／ＪＩＩ工。
２ ｔｏｎ／ｃｎで成形し、１３ＱＱ°Ｃで１時間大気
中焼成して表１に示すサンプル１〜２０（ｒ）作成した
。
中焼成して表１に示すサンプル１〜２０（ｒ）作成した
。
表１゜
この表１においてサンプル６．７． １０−１２゜１４
．１５，１７．１８が本発明の範囲内のものである。こ
の結果より明らかなように９本発明による特定組成の複
合酸化物が熱膨張率において金属磁性薄膜とほぼ合致し
、しかも耐Ｍ粍性においてもフェライト並み以上の性能
を有することがわかる。
．１５，１７．１８が本発明の範囲内のものである。こ
の結果より明らかなように９本発明による特定組成の複
合酸化物が熱膨張率において金属磁性薄膜とほぼ合致し
、しかも耐Ｍ粍性においてもフェライト並み以上の性能
を有することがわかる。
〔効果］
本発明によれば、その熱１彫張率が金属磁・訪薄膜にほ
ぼ合致し、しかも摩耗量が小さい非磁性の薄膜ヘッド用
セラミック基板として好適なものを得ることができる。
ぼ合致し、しかも摩耗量が小さい非磁性の薄膜ヘッド用
セラミック基板として好適なものを得ることができる。
なお本発明のセラミック材料は前記薄膜ヘッド用として
駆足されるものではなく、かかる性能が適用しつる他の
磁気ヘッド用非磁性セラミック材料として当然に使用し
得るものである。
駆足されるものではなく、かかる性能が適用しつる他の
磁気ヘッド用非磁性セラミック材料として当然に使用し
得るものである。
特許出願人 ティーディーケイ株式会社代理人弁理士
山 谷 晧 榮 手続補正＊： ＜自発） １、事件の表示 昭和５９年特許願第５９９３１号２、
発明の名称 磁気ヘッド用非磁性セラミック相料３、？
ｉＩ正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都中央区日本橋−丁目１３番１号氏名 （３
０Ｇ）ティーディーケイ株式会社代表考 大 歳 寛 ４、代理人 住所 東京都千代田区神「１淡路Ｉ’ｌｌ’ １１目１
９番８号６、補正の対象 明細書の発明のｉ′「細な説
明の欄補正の内容 １、明細書第７頁の表１比較例の項のｒＺｒｊをｒＺｎ
Ｊと補正する。
山 谷 晧 榮 手続補正＊： ＜自発） １、事件の表示 昭和５９年特許願第５９９３１号２、
発明の名称 磁気ヘッド用非磁性セラミック相料３、？
ｉＩ正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都中央区日本橋−丁目１３番１号氏名 （３
０Ｇ）ティーディーケイ株式会社代表考 大 歳 寛 ４、代理人 住所 東京都千代田区神「１淡路Ｉ’ｌｌ’ １１目１
９番８号６、補正の対象 明細書の発明のｉ′「細な説
明の欄補正の内容 １、明細書第７頁の表１比較例の項のｒＺｒｊをｒＺｎ
Ｊと補正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （リ ＴｔＯ２２０〜６０重量％、 ＮｉＯ６０〜２０
重ＪＷＸ及びＣａ２又はＭｇＯの少なくとも１種が１０
〜４０重量％よりなること全特徴とする磁気ヘッド用非
磁性セラミック材料。 （２）熱膨張率が１１〜１４ＸＩＯ’／°Ｏを有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲矛（り項記載の磁気ヘッ
ド用セラミック材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59059931A JPS60204668A (ja) | 1984-03-28 | 1984-03-28 | 磁気ヘツド用非磁性セラミツク材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59059931A JPS60204668A (ja) | 1984-03-28 | 1984-03-28 | 磁気ヘツド用非磁性セラミツク材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60204668A true JPS60204668A (ja) | 1985-10-16 |
| JPH0459263B2 JPH0459263B2 (ja) | 1992-09-21 |
Family
ID=13127361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59059931A Granted JPS60204668A (ja) | 1984-03-28 | 1984-03-28 | 磁気ヘツド用非磁性セラミツク材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60204668A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6295810A (ja) * | 1985-10-23 | 1987-05-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツド |
| JPS62143857A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-27 | 株式会社トーキン | 磁気ヘツド用非磁性材料 |
-
1984
- 1984-03-28 JP JP59059931A patent/JPS60204668A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6295810A (ja) * | 1985-10-23 | 1987-05-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツド |
| JPS62143857A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-27 | 株式会社トーキン | 磁気ヘツド用非磁性材料 |
| JPH0345024B2 (ja) * | 1985-12-17 | 1991-07-09 | Tokin Corp |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0459263B2 (ja) | 1992-09-21 |
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