JPH06157128A - 非磁性セラミックス - Google Patents
非磁性セラミックスInfo
- Publication number
- JPH06157128A JPH06157128A JP4314986A JP31498692A JPH06157128A JP H06157128 A JPH06157128 A JP H06157128A JP 4314986 A JP4314986 A JP 4314986A JP 31498692 A JP31498692 A JP 31498692A JP H06157128 A JPH06157128 A JP H06157128A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thermal expansion
- ceramics
- coefficient
- ferrite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】ＭｎＯを４１〜４９モル％、ＮｉＯを５９〜５
１モル％含有することを特徴とする非磁性セラミックス
であり、場合により、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｓｉ
Ｏ2 ，ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少な
くとも一種を１〜５モル％含有することがある。 【効果】熱膨張係数を、センダスト，アモルファス磁性
膜の熱膨張係数にほぼ一致する１４０〜１４５×１０-7
／℃とすることができるとともに、熱膨張係数の範囲を
１４０〜１４５×１０-7／℃の範囲で制御することがで
き、さらに、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの一般的な硬度（Ｈ
V ＝６５０）よりも小さい硬度となり、加工性に優れた
緻密な非磁性セラミックスを得ることができる。
１モル％含有することを特徴とする非磁性セラミックス
であり、場合により、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｓｉ
Ｏ2 ，ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少な
くとも一種を１〜５モル％含有することがある。 【効果】熱膨張係数を、センダスト，アモルファス磁性
膜の熱膨張係数にほぼ一致する１４０〜１４５×１０-7
／℃とすることができるとともに、熱膨張係数の範囲を
１４０〜１４５×１０-7／℃の範囲で制御することがで
き、さらに、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの一般的な硬度（Ｈ
V ＝６５０）よりも小さい硬度となり、加工性に優れた
緻密な非磁性セラミックスを得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、コンピュータ
用ハードディスク，光磁気ディスク，フロッピーディス
ク，磁気テープ，またはオーディオ用レコーダやビデオ
テープレコーダ等の磁気記録に使用される薄膜磁気ヘッ
ド用スライダーやフェライトコアより構成されるコンポ
ジットスライダー、磁性薄膜積層型磁気ヘッド用スライ
ダー及び各種磁気ヘッド用スライダーや磁気ヘッドのス
ペーサ等及び例えば、テープガイドや軸受等の摺動部材
等に使用される非磁性セラミックスに関するものであ
る。
用ハードディスク，光磁気ディスク，フロッピーディス
ク，磁気テープ，またはオーディオ用レコーダやビデオ
テープレコーダ等の磁気記録に使用される薄膜磁気ヘッ
ド用スライダーやフェライトコアより構成されるコンポ
ジットスライダー、磁性薄膜積層型磁気ヘッド用スライ
ダー及び各種磁気ヘッド用スライダーや磁気ヘッドのス
ペーサ等及び例えば、テープガイドや軸受等の摺動部材
等に使用される非磁性セラミックスに関するものであ
る。
【０００２】
【従来技術】近年、磁気記録媒体の高密度化は急速な進
歩を遂げているが、この高記録密度化に伴い、８ｍｍＶ
ＴＲ、電子スチルカメラ、ビデオフロッピーやデジタル
オーディオ等の高保磁力媒体の記録再生用磁気ヘッドと
して、従来のフェライト等を使用した磁気ヘッドに代わ
って、磁性薄膜を使用した磁気記録の高密度化に効適な
薄膜磁気ヘッドが注目されている。
歩を遂げているが、この高記録密度化に伴い、８ｍｍＶ
ＴＲ、電子スチルカメラ、ビデオフロッピーやデジタル
オーディオ等の高保磁力媒体の記録再生用磁気ヘッドと
して、従来のフェライト等を使用した磁気ヘッドに代わ
って、磁性薄膜を使用した磁気記録の高密度化に効適な
薄膜磁気ヘッドが注目されている。
【０００３】このような磁性薄膜を利用した薄膜磁気ヘ
ッドは、例えば、以下のようにして作成される。即ち、
チタン酸バリウム，チタン酸カルシウム，アルミナ系複
合物等を非磁性セラミック基板材料として用い、これら
の材料により形成された基板を鏡面加工し、次いで、ト
リクレンやアセトン等の有機溶剤で洗浄した後、基板上
にＦｅーＮｉ，ＦｅーＡｌ−Ｓｉ，Ｃｏ−ＮｂーＺｒ等
の金属磁性薄膜やアモルファス磁性膜を、真空蒸着法，
スパッタリング法，イオンプレーティング法等の公知の
物理的蒸着法により数μｍ〜数十μｍ被着成形すること
により得られる（特開平１−１０８７１１号公報参
照）。
ッドは、例えば、以下のようにして作成される。即ち、
チタン酸バリウム，チタン酸カルシウム，アルミナ系複
合物等を非磁性セラミック基板材料として用い、これら
の材料により形成された基板を鏡面加工し、次いで、ト
リクレンやアセトン等の有機溶剤で洗浄した後、基板上
にＦｅーＮｉ，ＦｅーＡｌ−Ｓｉ，Ｃｏ−ＮｂーＺｒ等
の金属磁性薄膜やアモルファス磁性膜を、真空蒸着法，
スパッタリング法，イオンプレーティング法等の公知の
物理的蒸着法により数μｍ〜数十μｍ被着成形すること
により得られる（特開平１−１０８７１１号公報参
照）。
【０００４】尚、従来のフェライト等を使用した磁気ヘ
ッドとしては、Ｍｎ−ＺｎフェライトやＮｉ−Ｚｎフェ
ライトの磁性材料から成るコア部品を使用したものが知
られており、このコア部品が、フロッピーディスクやハ
ードディスク等の各種磁気ヘッド用スライダーや磁気ヘ
ッドに使用されるスペーサ等の非磁性材料からなる構造
部品にガラス溶着されて使用される（特公昭６１−５８
４２９号公報参照）。
ッドとしては、Ｍｎ−ＺｎフェライトやＮｉ−Ｚｎフェ
ライトの磁性材料から成るコア部品を使用したものが知
られており、このコア部品が、フロッピーディスクやハ
ードディスク等の各種磁気ヘッド用スライダーや磁気ヘ
ッドに使用されるスペーサ等の非磁性材料からなる構造
部品にガラス溶着されて使用される（特公昭６１−５８
４２９号公報参照）。
【０００５】スライダーやスペーサ等の非磁性材料とし
ては、チタン酸バリウムやチタン酸カルシウム等が使用
される。
ては、チタン酸バリウムやチタン酸カルシウム等が使用
される。
【０００６】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、従来
の磁性薄膜を利用した薄膜磁気ヘッドでは、非磁性セラ
ミック基板上に金属磁性膜を被着した後、この金属磁性
膜の歪を除去し、磁気特性を回復させるために熱処理を
施しているが、上記のようなチタン酸バリウムやチタン
酸カルシウム等を使用した非磁性セラミック基板材料は
１００〜７００℃における熱膨張係数が１００〜１２０
×１０-7／℃であり、また、ＦｅーＮｉ，ＦｅーＡｌ−
Ｓｉ，Ｃｏ−ＮｂーＺｒ等の金属磁性薄膜やアモルファ
ス磁性膜の１００〜７００℃における熱膨張係数が１４
０〜１５０×１０-7／℃であり、非磁性セラミック基板
の熱膨張係数が、金属磁性膜やアモルファス磁性膜の熱
膨張係数より小さいため、熱処理により金属磁性膜やア
モルファス磁性膜が非磁性セラミック基板より剥離して
しまうという欠点があった。
の磁性薄膜を利用した薄膜磁気ヘッドでは、非磁性セラ
ミック基板上に金属磁性膜を被着した後、この金属磁性
膜の歪を除去し、磁気特性を回復させるために熱処理を
施しているが、上記のようなチタン酸バリウムやチタン
酸カルシウム等を使用した非磁性セラミック基板材料は
１００〜７００℃における熱膨張係数が１００〜１２０
×１０-7／℃であり、また、ＦｅーＮｉ，ＦｅーＡｌ−
Ｓｉ，Ｃｏ−ＮｂーＺｒ等の金属磁性薄膜やアモルファ
ス磁性膜の１００〜７００℃における熱膨張係数が１４
０〜１５０×１０-7／℃であり、非磁性セラミック基板
の熱膨張係数が、金属磁性膜やアモルファス磁性膜の熱
膨張係数より小さいため、熱処理により金属磁性膜やア
モルファス磁性膜が非磁性セラミック基板より剥離して
しまうという欠点があった。
【０００７】一方、コア材料として、磁気記録の高密度
化の要求に応えるためＮｉ−Ｚｎフェライトに代えて、
透磁率の高いＭｎ−Ｚｎフェライトが使用されている
が、このＭｎ−Ｚｎフェライトはその熱膨張係数が一般
に１２５〜１３５×１０-7／℃と大きく、チタン酸バリ
ウムやチタン酸カルシウムを使用した非磁性セラミック
スにより構成されたスライダーやスペーサ等の構造部品
の熱膨張係数（１００〜１２０×１０-7／℃）と大きく
異なるという問題があった。このため、ガラス溶着する
際の熱処理によりフェライトコアに応力がかかり、磁気
特性の劣化を引き起こすのみならず、コアにクラックを
生じたり、剥離を生じる等、磁気ヘッドの組立上問題が
あった。
化の要求に応えるためＮｉ−Ｚｎフェライトに代えて、
透磁率の高いＭｎ−Ｚｎフェライトが使用されている
が、このＭｎ−Ｚｎフェライトはその熱膨張係数が一般
に１２５〜１３５×１０-7／℃と大きく、チタン酸バリ
ウムやチタン酸カルシウムを使用した非磁性セラミック
スにより構成されたスライダーやスペーサ等の構造部品
の熱膨張係数（１００〜１２０×１０-7／℃）と大きく
異なるという問題があった。このため、ガラス溶着する
際の熱処理によりフェライトコアに応力がかかり、磁気
特性の劣化を引き起こすのみならず、コアにクラックを
生じたり、剥離を生じる等、磁気ヘッドの組立上問題が
あった。
【０００８】また、上記磁気ヘッド用スライダー及びス
ペーサに使用される基板材料には、直径３μｍを越える
ポアが存在し、摺動特性が劣るという問題もあった。
ペーサに使用される基板材料には、直径３μｍを越える
ポアが存在し、摺動特性が劣るという問題もあった。
【０００９】
【問題点を解決するための手段】本発明者は、上記の問
題点に対して検討を重ねた結果、ＭｎＯとＮｉＯを所定
の割合で混合することにより、センダスト，アモルファ
ス，Ｍｎ−Ｚｎフェライトなどの磁性材料の熱膨張係数
と一致するように、非磁性セラミックスの熱膨張係数を
制御することができるとともに、ポアを低減することが
でき、薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板及び各種磁気
ヘッド用スライダーやスペーサ等に好適な非磁性セラミ
ックスを得ることができることを見出し、本発明に至っ
た。
題点に対して検討を重ねた結果、ＭｎＯとＮｉＯを所定
の割合で混合することにより、センダスト，アモルファ
ス，Ｍｎ−Ｚｎフェライトなどの磁性材料の熱膨張係数
と一致するように、非磁性セラミックスの熱膨張係数を
制御することができるとともに、ポアを低減することが
でき、薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板及び各種磁気
ヘッド用スライダーやスペーサ等に好適な非磁性セラミ
ックスを得ることができることを見出し、本発明に至っ
た。
【００１０】即ち、本発明の非磁性セラミックスは、Ｎ
ｉＯを５１〜５９モル％、ＭｎＯを４９〜４１モル％含
有するもので、場合により、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｓ
ｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少
なくとも一種を１〜５モル％含有する。
ｉＯを５１〜５９モル％、ＭｎＯを４９〜４１モル％含
有するもので、場合により、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｓ
ｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少
なくとも一種を１〜５モル％含有する。
【００１１】本発明において、ＮｉＯを５１〜５９モル
％含有するのは、ＮｉＯが５１モル％以下では熱膨張係
数が１４０×１０-7／℃以下となり、熱膨張係数の値を
金属磁性膜やアモルファス磁性膜と一致させることがで
きないからである。また、ＮｉＯが５９モル％を越える
と直径３μｍを越えるポアが存在するようになったり、
さらに、ＮｉＯは高い熱膨張係数を有するものの焼結性
が悪いため、高密度のセラミック組成物が得られないか
らである。
％含有するのは、ＮｉＯが５１モル％以下では熱膨張係
数が１４０×１０-7／℃以下となり、熱膨張係数の値を
金属磁性膜やアモルファス磁性膜と一致させることがで
きないからである。また、ＮｉＯが５９モル％を越える
と直径３μｍを越えるポアが存在するようになったり、
さらに、ＮｉＯは高い熱膨張係数を有するものの焼結性
が悪いため、高密度のセラミック組成物が得られないか
らである。
【００１２】また、ＭｎＯを４１〜４９モル％含有させ
たのは、４１モル％より少ないと、焼結性が悪く、緻密
な焼結耐が得られず、４９モル％より多いと、硬度が小
さく摺動部材として不適切だからである。
たのは、４１モル％より少ないと、焼結性が悪く、緻密
な焼結耐が得られず、４９モル％より多いと、硬度が小
さく摺動部材として不適切だからである。
【００１３】一方、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，
ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少なくとも
一種を１〜５モル％含有させたのは、これらの成分を種
々組み合わせて添加することにより、熱膨張係数を１４
０〜１４５×１０-7／℃の範囲において適宜設定するこ
とができるからである。
ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少なくとも
一種を１〜５モル％含有させたのは、これらの成分を種
々組み合わせて添加することにより、熱膨張係数を１４
０〜１４５×１０-7／℃の範囲において適宜設定するこ
とができるからである。
【００１４】本発明の非磁性セラミックスは、例えば、
ＮｉＯ、ＭｎＯと、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，
ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少なくとも
一種を秤量混合し、乾燥した後、８００〜１２００℃で
２〜１０時間仮焼し、これを微粉砕する。これにバイン
ダーを添加して造粒し、例えば、０．８〜２ton/cm2の
圧力でプレス成形する。成形方法として、他に押し出し
成形法、射出成形法やドクターブレード法がある。そし
て、成形体を、例えば、窒素雰囲気中で１２００〜１４
００℃の温度範囲で焼成することにより本発明の非磁性
セラミックスが得られる。
ＮｉＯ、ＭｎＯと、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，
ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少なくとも
一種を秤量混合し、乾燥した後、８００〜１２００℃で
２〜１０時間仮焼し、これを微粉砕する。これにバイン
ダーを添加して造粒し、例えば、０．８〜２ton/cm2の
圧力でプレス成形する。成形方法として、他に押し出し
成形法、射出成形法やドクターブレード法がある。そし
て、成形体を、例えば、窒素雰囲気中で１２００〜１４
００℃の温度範囲で焼成することにより本発明の非磁性
セラミックスが得られる。
【００１５】そして、さらに、焼結体の緻密化を図るた
め、１３５０〜１５００℃の温度範囲で、１０００〜２
０００気圧のアルゴン雰囲気中で熱間静水圧加圧処理を
行なうことが望ましい。
め、１３５０〜１５００℃の温度範囲で、１０００〜２
０００気圧のアルゴン雰囲気中で熱間静水圧加圧処理を
行なうことが望ましい。
【００１６】
【作用】本発明の非磁性セラミックスでは、熱膨張係数
を、センダスト，アモルファス磁性膜の熱膨張係数にほ
ぼ一致する１４０〜１４５×１０-7／℃とすることがで
きる。さらに、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，Ｔｉ
Ｏ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少なくとも一種
を適宜選定し、所定の割合で添加することにより、熱膨
張係数の範囲を１４０〜１４５×１０-7／℃の範囲で制
御することができる。また、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの一
般的な硬度（ＨV ＝６５０）よりも小さい硬度となり、
加工性に優れた緻密な非磁性セラミックスを得ることが
できる。
を、センダスト，アモルファス磁性膜の熱膨張係数にほ
ぼ一致する１４０〜１４５×１０-7／℃とすることがで
きる。さらに、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，Ｔｉ
Ｏ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少なくとも一種
を適宜選定し、所定の割合で添加することにより、熱膨
張係数の範囲を１４０〜１４５×１０-7／℃の範囲で制
御することができる。また、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの一
般的な硬度（ＨV ＝６５０）よりも小さい硬度となり、
加工性に優れた緻密な非磁性セラミックスを得ることが
できる。
【００１７】よって、本発明の非磁性セラミックスは、
各種磁気ヘッド用スライダーや磁気ヘッドのスペーサ、
並びにテープガイドや軸受等の一般の摺動部材にも好ん
で使用される。
各種磁気ヘッド用スライダーや磁気ヘッドのスペーサ、
並びにテープガイドや軸受等の一般の摺動部材にも好ん
で使用される。
【００１８】
【実施例】市販されている純度９９％以上のＭｎＯ（不
純物としてＮｂ２Ｏ５、ＢａＯ、ＳｉＯ２、ＳｒＯ等を
含む）、純度９９％以上のＮｉＯ（不純物としてＣａ，
Ｆｅ，Ｃｏ，Ｃｕ，およびこれらの酸化物等を含む）を
使い、酸化カルシウム（ＣａＯ）源として塩化カルシウ
ム（ＣａＣｌ2 ）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3 ）、酸
化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）などを使い、表１に示す
組成比となるように秤量し、ボールミルを用いて湿式混
合した。
純物としてＮｂ２Ｏ５、ＢａＯ、ＳｉＯ２、ＳｒＯ等を
含む）、純度９９％以上のＮｉＯ（不純物としてＣａ，
Ｆｅ，Ｃｏ，Ｃｕ，およびこれらの酸化物等を含む）を
使い、酸化カルシウム（ＣａＯ）源として塩化カルシウ
ム（ＣａＣｌ2 ）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3 ）、酸
化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）などを使い、表１に示す
組成比となるように秤量し、ボールミルを用いて湿式混
合した。
【００１９】これを乾燥させ、乾燥後の原料を１０００
℃で２時間仮焼を行なった。仮焼後の原料をジルコニア
ボールを使い、平均粒径が１μm 以下となるよう微粉砕
した。この粉砕によりジルコニアが１モル％以下混入す
ることがある。これにバインダーを加えて造粒を行なっ
た後、２ton/cm2 の圧力で成形した。その後窒素雰囲気
中において１２００℃で２時間焼成し各試料を得た。
℃で２時間仮焼を行なった。仮焼後の原料をジルコニア
ボールを使い、平均粒径が１μm 以下となるよう微粉砕
した。この粉砕によりジルコニアが１モル％以下混入す
ることがある。これにバインダーを加えて造粒を行なっ
た後、２ton/cm2 の圧力で成形した。その後窒素雰囲気
中において１２００℃で２時間焼成し各試料を得た。
【００２０】
【表１】
【００２１】得られた試料について熱膨張係数、ポアの
評価、硬度について調べ表１に記した。ポアの発生率は
１μｍのダイヤモンド砥粒により最終ラップ面に占める
ポア径を測定することにより評価した。ポア率はポア平
均径が１μｍ以下を●印、１〜３μｍを○印、３μｍ以
上を×印で示した。
評価、硬度について調べ表１に記した。ポアの発生率は
１μｍのダイヤモンド砥粒により最終ラップ面に占める
ポア径を測定することにより評価した。ポア率はポア平
均径が１μｍ以下を●印、１〜３μｍを○印、３μｍ以
上を×印で示した。
【００２２】表１より、本発明の範囲内にある試料は、
熱膨張係数が１４０〜１４４×１０-7／℃で、ポア平均
径が３μｍ以下、また、硬度がＭｎ−Ｚｎフェライトの
一般的な硬度（ＨV ＝６５０）よりも小さいという優れ
た特性を有していることが判った。
熱膨張係数が１４０〜１４４×１０-7／℃で、ポア平均
径が３μｍ以下、また、硬度がＭｎ−Ｚｎフェライトの
一般的な硬度（ＨV ＝６５０）よりも小さいという優れ
た特性を有していることが判った。
【００２３】そして、本発明者は、実施例Ｎｏ．１〜１
３の試料について１２４０℃でアルゴン２０００気圧で
熱間静水圧加圧（ＨＩＰ）処理し、この材料を上記と同
様に評価した。この結果を表２に記す。
３の試料について１２４０℃でアルゴン２０００気圧で
熱間静水圧加圧（ＨＩＰ）処理し、この材料を上記と同
様に評価した。この結果を表２に記す。
【００２４】
【表２】
【００２５】表２よりＨＩＰ処理した試料は１μｍ以上
のポアはなく致密な材料が得られることが判った。
のポアはなく致密な材料が得られることが判った。
【００２６】
【発明の効果】以上のように、本発明の非磁性セラミッ
クスでは、熱膨張係数を、センダスト，アモルファス磁
性膜の熱膨張係数にほぼ一致する１４０〜１４５×１０
-7／℃とすることができる。さらに、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2
Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉ
Ｏ3 の少なくとも一種を適宜選定し、所定の割合で添加
することにより、熱膨張係数の範囲を１４０〜１４５×
１０-7／℃の範囲で制御することができる。また、Ｍｎ
−Ｚｎフェライトの一般的な硬度（ＨV ＝６５０）より
も小さい硬度となり、加工性に優れた緻密な非磁性セラ
ミックスを得ることができる。
クスでは、熱膨張係数を、センダスト，アモルファス磁
性膜の熱膨張係数にほぼ一致する１４０〜１４５×１０
-7／℃とすることができる。さらに、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2
Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉ
Ｏ3 の少なくとも一種を適宜選定し、所定の割合で添加
することにより、熱膨張係数の範囲を１４０〜１４５×
１０-7／℃の範囲で制御することができる。また、Ｍｎ
−Ｚｎフェライトの一般的な硬度（ＨV ＝６５０）より
も小さい硬度となり、加工性に優れた緻密な非磁性セラ
ミックスを得ることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】ＭｎＯを４１〜４９モル％、ＮｉＯを５９
〜５１モル％含有することを特徴とする非磁性セラミッ
クス。 - 【請求項２】ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＴｉＯ
2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＣａＴｉＯ3 の少なくとも一種を
１〜５モル％含有することを特徴とする請求項１記載の
非磁性セラミックス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4314986A JPH06157128A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 非磁性セラミックス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4314986A JPH06157128A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 非磁性セラミックス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06157128A true JPH06157128A (ja) | 1994-06-03 |
Family
ID=18060043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4314986A Pending JPH06157128A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 非磁性セラミックス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06157128A (ja) |
-
1992
- 1992-11-25 JP JP4314986A patent/JPH06157128A/ja active Pending
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