JP3502683B2 - 記録媒体ディスク用基板 - Google Patents
記録媒体ディスク用基板Info
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- JP3502683B2 JP3502683B2 JP01481295A JP1481295A JP3502683B2 JP 3502683 B2 JP3502683 B2 JP 3502683B2 JP 01481295 A JP01481295 A JP 01481295A JP 1481295 A JP1481295 A JP 1481295A JP 3502683 B2 JP3502683 B2 JP 3502683B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク装置や
磁気ディスク装置において、情報を記録する記録媒体デ
ィスクである光ディスクまたは磁気ディスクを構成する
基板に関し、特にイットリウム−アルミニウム−ガーネ
ット（Ｙ3Ａｌ5Ｏ12、以下ＹＡＧと称す）焼結体を支持
体とした記録媒体ディスク用基板に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】磁気ディスク装置はコンピュータの情報
処理システムの中で情報記憶の中心的な役割を果たして
いるが、近時、この磁気記録は高密度化及び大容量化の
傾向にあるため、スパッタリングなどの薄膜技術を利用
して磁気記録媒体の薄層化及び高面精度化を行い、その
要求に答えようとしている。 【０００３】かかる磁気記録媒体が形成される基板には
アルミニウム合金が使用され、その表面を酸化して得ら
れたアルマイト層が２μｍ位の厚みで被覆されており、
このアルマイト層によって基板表面の硬度を大きくして
ある。しかし、この硬質アルマイト層の厚みが小さく、
且つアルミニウム合金とアルマイト層の熱膨張係数が異
なっているため、基板温度が上昇するに伴い、基板に歪
が発生し易かった。 【０００４】例えば、スパッタリングによって基板上に
磁気記録媒体を形成する際には、スパッタ粒子や電子が
基板上に衝突するため、その衝突エネルギーによって基
板温度が上昇し、更にγ−Ｆｅ2Ｏ3 から成る磁気記録
媒体の場合では、通常３００℃以上に加熱処理すること
が行われている。これらの温度上昇に伴ってアルミニウ
ム基板に歪みが発生し易くなり、そのためアルミニウム
基板に磁気記録媒体を形成して高密度磁気記録に用いた
場合、正確な書き込みや読み取りが出来にくいという問
題があった。 【０００５】更に、磁気ディスク装置は、同一の回転軸
に複数の磁気ディスクを配置して１０００〜３０００ｒ
ｐｍ程度の高速回転をさせて、読み取り及び書き込みの
データ処理を行っているが、この磁気ディスク用基板が
アルミニウム合金から形成されていると、基板自体が遠
心力によって伸び易くなり、これによっても、高密度磁
気記録に適した正確な書き込み及び読み取りが出来なか
った。 【０００６】しかも、アルミニウム合金製磁気ディスク
用基板には、表面がアルマイト処理されていても、通常
その基板表面の片面全面に亘って２〜３μｍのボイドが
１００個以上もあるため、高密度記録用磁気ディスク装
置にとっては、このボイド欠陥に起因して正確な書き込
み及び読み取りが出来ないという問題もあり、ボイド欠
陥の少ない磁気ディスク用基板材料が望まれていた。 【０００７】そこで、他の磁気ディスク用基板材料とし
てプラスチックやガラスが検討されているが、プラスチ
ックは透湿性が高いこと、ガラスは割れ易いことと割れ
た場合の危険性が高いという問題点がある。しかも、こ
れらの材料はヤング率が小さいため、基板を高速回転さ
せると遠心力によって基板が伸び易くなるという問題点
もあった。 【０００８】また、近年、セラミック基板の提案も成さ
れているが、通常の構造材料として使われているセラミ
ックスではボイドが多く、前述のアルミニウム合金製と
同様の問題がある。そこで、特公平６−２２０５５号公
報に示すようにセラミックスをＨＩＰ（熱間静水圧加
圧）処理することによってボイドを小さくすることが提
案されている。 【０００９】 【発明が解決しようとする課題】しかし、セラミックス
にＨＩＰ処理を施すことは工程が煩雑になり、製造コス
トが高くなるものであった。また、ＨＩＰ処理を施すこ
とによって硬度が高くなるため、焼成後の研磨等の後加
工が困難になるという問題点もあった。 【００１０】一方、ＨＩＰ処理を施さないセラミックス
では、ボイドが多いため磁気ディスク用基板として使用
した場合に、高密度記録への対応が困難であった。 【００１１】一方、ＣＤや光磁気ディスク等の光ディス
ク装置においては、ディスク用基板としてポリカーボネ
ート等の樹脂が用いられているが、この場合も回転数が
大きくなると反りや撓み等が生じるという問題があっ
た。 【００１２】本発明は上述の問題点を解消するために成
されたもので、ＨＩＰ処理をすることなく基板表面にボ
イド欠陥を少なくし、またスパッタリングや熱処理に対
して基板に何等歪が発生せず、且つ基板に加えられる遠
心力に対して基板自体の伸びが生じることもなく、高密
度記録に適した書き込みや読み取りが出来る記録媒体デ
ィスク用基板を提供することを目的とする。 【００１３】 【課題を解決するための手段】本発明の記録媒体ディス
ク用基板は、Ｘ線回折の強度において、Ｙ3Ａｌ5Ｏ
12（ＹＡＧ）の面指数（４２０）の強度に対する、ＹＡ
ｌＯ3（以下ＹＡＰと称す）の面指数（１２１）＋Ｙ4Ａ
ｌ2Ｏ9（以下ＹＡＭと称す）の面指数（−１２２）の強
度比が１０％以下であって平均ボイド径１．５μｍ以下
で、理論密度の９８％以上の密度を持つイットリウム−
アルミニウム−ガーネット焼結体から成ることを特徴と
する。【００１４】 即ち、上述のＹＡＧ焼結体で作製された記
録媒体ディスク用基板は、アルミニウム等の金属やプラ
スチック等に比べて弾性率が小さく、かかる基板を高速
に回転しても基板自体が被る遠心力によって基板に伸び
が生じにくいものである。【００１５】また、 上記構成によりＨＩＰ処理を施すこ
となく平均ボイド径を１．５μｍ以下とすることがで
き、表面を研磨することによって平滑な鏡面を得られ、
その結果スパッタリングなどによって形成された磁気記
録媒体が著しく薄くなっても記録媒体の表面が粗れるこ
となく高密度磁気記録に向くディスク基板を得ることが
できる。【００１６】 また、ＹＡＧ焼結体の機械的物性はビッカ
ース硬度１３００ｋｇ／ｍｍ2、曲げ強度３０ｋｇ／ｍ
ｍ2 程度であり、ＨＩＰ処理したアルミナ（ビッカース
硬度２１００ｋｇ／ｍｍ2）等の高硬度セラミックに比
べれば、硬度が低いために焼成後の加工が容易であり、
加工コストを低く抑えられる。一方、ガラス（曲げ強度
１０ｋｇ／ｍｍ2、ビッカース硬度１０００ｋｇ／ｍｍ2
以下）に比べて硬度及び強度が高いため、表面に傷がつ
きにくく割れにくい記録媒体用ディスク基板を得ること
ができる。【００１７】 また、本発明のＹＡＧ焼結体においてＸ線
回折の強度比を限定したのは以下の理由による。【００１８】 即ち、Ａｌ2Ｏ3−Ｙ2Ｏ3系の結晶構造は、
３Ｙ2Ｏ3・５Ａｌ2Ｏ3組成のざくろ石構造、Ｙ2Ｏ3・Ａ
ｌ2Ｏ3組成のペロブスカイト構造、及び２Ｙ2Ｏ3・Ａｌ
2Ｏ3組成の単斜型構造の３種の化合物の存在が知られて
おり、これらの結晶構造はそれぞれ立方晶、斜方晶及び
単斜晶系に属したものである。そして、立方晶及び単斜
型は安定相であるが、斜方晶のペロブスカイト型化合物
は準安定相である。【００１９】 ここで、ＹＡＧは安定な立方晶であり、そ
れ故にボイドを小さく、少なくして透光性を有すること
ができるのである。このＹＡＧ焼結体中に、結晶系の違
う斜方晶や単斜晶の結晶が存在すればボイドが多くなっ
て透光性も低下してしまうことになる。従って、ＹＡＧ
焼結体中に存在するＹＡＰやＹＡＭ等の結晶系の違う化
合物を極力減少させることが重要となる。【００２０】 そこで、Ｘ線回折による分析において、Ｙ
ＡＧの面指数（４２０）の強度に対して、ＹＡＰの面指
数（１２１）＋ＹＡＭの面指数（−１２２）の強度の比
を１０％以下と少なくすれば、ボイドを少なくできるの
である。【００２１】 【実施例】次に本発明実施例として記録媒体ディスク用
基板の一例である磁気ディスク用基板をＹＡＧ焼結体で
形成した例を説明する。【００２２】 純度が９９％以上、ＢＥＴ比表面積５ｍ2
／ｇ以上のＡｌ2Ｏ3粉末とＹ2Ｏ3粉末を水で混合し、バ
インダーとしてＰＶＡを加えスラリーを作製した。これ
をスプレードライヤーで造粒し、電気炉で１３５０℃で
仮焼した。これに溶媒として水と高純度アルミナボール
を加え回転ミルにて粉砕を行い、平均粒径（Ｄ50）を２
μｍ以下にした後、バインダーとしてＰＥＧ、アクリル
樹脂、ＰＶＡを添加し混合攪拌した。【００２３】なお、混合前の上記Ｙ 2 Ｏ 3 粉末、Ａｌ 2 Ｏ 3
粉末の量を適宜変えた異なるスラリーを作製し、上記の
ように造粒、仮焼し、これらを２μｍ以下に粉砕して、
これらの異なる粒径の粉体をそれぞれ 再度スプレードラ
イヤーで噴霧し造粒を行った。更に、これらの造粒体を
金型プレス及び冷間静水圧プレスを用い、２．５ｇ／ｃ
ｍ3以上の生密度の成形体を作製した。この成形体を真
空中１７００〜１８８０℃で、好ましくは１８００〜１
８６０℃で焼成し表１に示す複数のＹＡＧ焼結体を得
た。【００２４】 このＹＡＧ焼結体をＸ線回折で分析したと
ころ、表１に示すように、前述のＹＡＧの面指数（４２
０）の強度に対する、ＹＡＰの面指数（１２１）＋ＹＡ
Ｍの面指数（−１２２）の強度比が０〜１５％であるＹ
ＡＧ焼結体を得ることができた。なお、Ｘ線回折による
ＹＡＧの面指数（４２０）のピークは２θ＝３３．３°
に、ＹＡＭの面指数（−１２１）のピークは２θ＝２
９．６°に、ＹＡＰの面指数（１２１）のピークは２θ
＝３４．３°にそれぞれ現れる。したがって、２θ＝３
０°近傍を拡大して分析し、上記各ピークの強度を測定
すれば容易に前述した強度比を求めることができる。【００２５】 このＹＡＧ焼結体をラップし、ポリッシュ
して磁気ディスク用基板を得た後、平均ボイド径と対理
論密度比を測定する。なお、平均ボイド径は、基板の表
面を画像回折装置（ルーゼックス製、ルーゼックス５０
０型）で測定して求めた。【００２６】 次に、各磁気ディスク用基板上に、それぞ
れＣｏを含んだＦｅをターゲットとした反応スパッタリ
ングによってα−Ｆｅ2Ｏ3膜（厚さ０．２μｍ）を被着
し、次いで、Ｆｅ3Ｏ4膜に変換し、空気中にて３２０℃
で酸化してγ−Ｆｅ2Ｏ3膜に変換し、高密度磁気ディス
クを作成した。このようにして得られた磁気ディスクに
ついて、浮上量０．２μｍで磁気ヘッドを浮上させて使
用テストを行い、信号エラー発生のあったものを×、無
かったものを○として評価した。【００２７】 結果は表１に示す通りである。この結果よ
り、比較例であるＮｏ．６ではＸ線回折の強度比が１５
％と大きく、平均ボイド径が３μｍを超え、対理論密度
比が９８％未満と低いことから、磁気ディスク用基板表
面のボイドが多く なり磁気ディスクとしての使用試験で
信号エラーが発生しやすかった。【００２８】 これに対し、本発明実施例であるＮｏ．１
〜５では、Ｘ線回折の強度比を１０％以下とし、平均ボ
イド径１．５μｍ以下で、かつ対理論密度比９８％以上
とすると、磁気ディスク用基板表面のボイドが少なくな
るため磁気ディスクとしての使用試験で信号エラーが発
生しなかった。また、Ｘ線回折の強度比が小さく、平均
ボイド径を小さく、対理論密度比を大きいほど、より好
ましい磁気ディスク用基板が得られることがわかった。【００２９】 【表１】 【００３０】次に、表１のＹＡＧ焼結体からなる磁気デ
ィスク用基板と、比較例として他材料からなる磁気ディ
スク用基板について、平均ボイド径とビッカース硬度を
比較した結果を表２に示す。【００３１】 この結果より、平均ボイド径について見て
みると、本発明のＹＡＧ焼結体からなる基板は、アルミ
ナセラミックスやアルミニウム等に比べて格段にボイド
径を小さく、ＨＩＰ処理を施したアルミナセラミックス
と同程度のボイドレベルであることがわかる。つまり、
本発明のＹＡＧ焼結体からなる磁気ディスク用基板は、
従来のＨＩＰ処理を施したアルミナセラミックス製基板
と同程度のボイドレベルをＨＩＰ処理なしで達成できる
のである。【００３２】 また、ビッカース硬度について見てみる
と、本発明のＹＡＧ焼結体はガラスやアルミニウムより
も硬度が高いことから傷がつきにくく、一方ＨＩＰした
アルミナセラミックスよりも硬度が低いため、焼成後の
加工が容易であり、磁気ディスク用基板として最適な硬
度を有している。なお、このような効果を奏するために
はＹＡＧ焼結体のビッカース硬度を１２００〜１４００
ｋｇ／ｍｍ2の範囲とすることが好ましい。【００３３】 さらに、本発明のＹＡＧ焼結体からなる磁
気ディスク用基板は透光性を有するため、表面の傷等を
容易に視認しやすい等の効果もある。【００３４】 【表２】 【００３５】なお、以上の実施例では磁気ディスク用基
板についてのみ述べたが、光ディスク用基板にも同様に
本発明を適用することができる。【００３６】 【発明の効果】このように本発明によれば、Ｘ線回折の
強度において、ＹＡＧの面指数（４２０）の強度に対す
る、ＹＡＰの面指数（１２１）＋ＹＡＭの面指数（−１
２２）の強度比が１０％以下であり、平均ボイド径１．
５μｍ以下で、理論密度の９８％以上の密度を持つＹＡ
Ｇ焼結体で記録媒体ディスク用基板を構成したことによ
って、従来のＨＩＰ処理を施したアルミナセラミックス
製基板と同程度のボイドレベルをＨＩＰ処理を施すこと
なく容易に得ることができる。【００３７】また、 本発明の記録媒体ディスク用基板
は、適度な硬度を有することから加工が容易であり、磁
気記録媒体の形成時に基板自体に歪が発生せず、かつ基
板に加わる遠心力に対して基板自体が伸びることもな
い。【００３８】 したがって、本発明によれば、正確に高密
度記録の書き込みや読み取りができる高信頼性の記録媒
体ディスク用基板を提供することができる。
磁気ディスク装置において、情報を記録する記録媒体デ
ィスクである光ディスクまたは磁気ディスクを構成する
基板に関し、特にイットリウム−アルミニウム−ガーネ
ット（Ｙ3Ａｌ5Ｏ12、以下ＹＡＧと称す）焼結体を支持
体とした記録媒体ディスク用基板に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】磁気ディスク装置はコンピュータの情報
処理システムの中で情報記憶の中心的な役割を果たして
いるが、近時、この磁気記録は高密度化及び大容量化の
傾向にあるため、スパッタリングなどの薄膜技術を利用
して磁気記録媒体の薄層化及び高面精度化を行い、その
要求に答えようとしている。 【０００３】かかる磁気記録媒体が形成される基板には
アルミニウム合金が使用され、その表面を酸化して得ら
れたアルマイト層が２μｍ位の厚みで被覆されており、
このアルマイト層によって基板表面の硬度を大きくして
ある。しかし、この硬質アルマイト層の厚みが小さく、
且つアルミニウム合金とアルマイト層の熱膨張係数が異
なっているため、基板温度が上昇するに伴い、基板に歪
が発生し易かった。 【０００４】例えば、スパッタリングによって基板上に
磁気記録媒体を形成する際には、スパッタ粒子や電子が
基板上に衝突するため、その衝突エネルギーによって基
板温度が上昇し、更にγ−Ｆｅ2Ｏ3 から成る磁気記録
媒体の場合では、通常３００℃以上に加熱処理すること
が行われている。これらの温度上昇に伴ってアルミニウ
ム基板に歪みが発生し易くなり、そのためアルミニウム
基板に磁気記録媒体を形成して高密度磁気記録に用いた
場合、正確な書き込みや読み取りが出来にくいという問
題があった。 【０００５】更に、磁気ディスク装置は、同一の回転軸
に複数の磁気ディスクを配置して１０００〜３０００ｒ
ｐｍ程度の高速回転をさせて、読み取り及び書き込みの
データ処理を行っているが、この磁気ディスク用基板が
アルミニウム合金から形成されていると、基板自体が遠
心力によって伸び易くなり、これによっても、高密度磁
気記録に適した正確な書き込み及び読み取りが出来なか
った。 【０００６】しかも、アルミニウム合金製磁気ディスク
用基板には、表面がアルマイト処理されていても、通常
その基板表面の片面全面に亘って２〜３μｍのボイドが
１００個以上もあるため、高密度記録用磁気ディスク装
置にとっては、このボイド欠陥に起因して正確な書き込
み及び読み取りが出来ないという問題もあり、ボイド欠
陥の少ない磁気ディスク用基板材料が望まれていた。 【０００７】そこで、他の磁気ディスク用基板材料とし
てプラスチックやガラスが検討されているが、プラスチ
ックは透湿性が高いこと、ガラスは割れ易いことと割れ
た場合の危険性が高いという問題点がある。しかも、こ
れらの材料はヤング率が小さいため、基板を高速回転さ
せると遠心力によって基板が伸び易くなるという問題点
もあった。 【０００８】また、近年、セラミック基板の提案も成さ
れているが、通常の構造材料として使われているセラミ
ックスではボイドが多く、前述のアルミニウム合金製と
同様の問題がある。そこで、特公平６−２２０５５号公
報に示すようにセラミックスをＨＩＰ（熱間静水圧加
圧）処理することによってボイドを小さくすることが提
案されている。 【０００９】 【発明が解決しようとする課題】しかし、セラミックス
にＨＩＰ処理を施すことは工程が煩雑になり、製造コス
トが高くなるものであった。また、ＨＩＰ処理を施すこ
とによって硬度が高くなるため、焼成後の研磨等の後加
工が困難になるという問題点もあった。 【００１０】一方、ＨＩＰ処理を施さないセラミックス
では、ボイドが多いため磁気ディスク用基板として使用
した場合に、高密度記録への対応が困難であった。 【００１１】一方、ＣＤや光磁気ディスク等の光ディス
ク装置においては、ディスク用基板としてポリカーボネ
ート等の樹脂が用いられているが、この場合も回転数が
大きくなると反りや撓み等が生じるという問題があっ
た。 【００１２】本発明は上述の問題点を解消するために成
されたもので、ＨＩＰ処理をすることなく基板表面にボ
イド欠陥を少なくし、またスパッタリングや熱処理に対
して基板に何等歪が発生せず、且つ基板に加えられる遠
心力に対して基板自体の伸びが生じることもなく、高密
度記録に適した書き込みや読み取りが出来る記録媒体デ
ィスク用基板を提供することを目的とする。 【００１３】 【課題を解決するための手段】本発明の記録媒体ディス
ク用基板は、Ｘ線回折の強度において、Ｙ3Ａｌ5Ｏ
12（ＹＡＧ）の面指数（４２０）の強度に対する、ＹＡ
ｌＯ3（以下ＹＡＰと称す）の面指数（１２１）＋Ｙ4Ａ
ｌ2Ｏ9（以下ＹＡＭと称す）の面指数（−１２２）の強
度比が１０％以下であって平均ボイド径１．５μｍ以下
で、理論密度の９８％以上の密度を持つイットリウム−
アルミニウム−ガーネット焼結体から成ることを特徴と
する。【００１４】 即ち、上述のＹＡＧ焼結体で作製された記
録媒体ディスク用基板は、アルミニウム等の金属やプラ
スチック等に比べて弾性率が小さく、かかる基板を高速
に回転しても基板自体が被る遠心力によって基板に伸び
が生じにくいものである。【００１５】また、 上記構成によりＨＩＰ処理を施すこ
となく平均ボイド径を１．５μｍ以下とすることがで
き、表面を研磨することによって平滑な鏡面を得られ、
その結果スパッタリングなどによって形成された磁気記
録媒体が著しく薄くなっても記録媒体の表面が粗れるこ
となく高密度磁気記録に向くディスク基板を得ることが
できる。【００１６】 また、ＹＡＧ焼結体の機械的物性はビッカ
ース硬度１３００ｋｇ／ｍｍ2、曲げ強度３０ｋｇ／ｍ
ｍ2 程度であり、ＨＩＰ処理したアルミナ（ビッカース
硬度２１００ｋｇ／ｍｍ2）等の高硬度セラミックに比
べれば、硬度が低いために焼成後の加工が容易であり、
加工コストを低く抑えられる。一方、ガラス（曲げ強度
１０ｋｇ／ｍｍ2、ビッカース硬度１０００ｋｇ／ｍｍ2
以下）に比べて硬度及び強度が高いため、表面に傷がつ
きにくく割れにくい記録媒体用ディスク基板を得ること
ができる。【００１７】 また、本発明のＹＡＧ焼結体においてＸ線
回折の強度比を限定したのは以下の理由による。【００１８】 即ち、Ａｌ2Ｏ3−Ｙ2Ｏ3系の結晶構造は、
３Ｙ2Ｏ3・５Ａｌ2Ｏ3組成のざくろ石構造、Ｙ2Ｏ3・Ａ
ｌ2Ｏ3組成のペロブスカイト構造、及び２Ｙ2Ｏ3・Ａｌ
2Ｏ3組成の単斜型構造の３種の化合物の存在が知られて
おり、これらの結晶構造はそれぞれ立方晶、斜方晶及び
単斜晶系に属したものである。そして、立方晶及び単斜
型は安定相であるが、斜方晶のペロブスカイト型化合物
は準安定相である。【００１９】 ここで、ＹＡＧは安定な立方晶であり、そ
れ故にボイドを小さく、少なくして透光性を有すること
ができるのである。このＹＡＧ焼結体中に、結晶系の違
う斜方晶や単斜晶の結晶が存在すればボイドが多くなっ
て透光性も低下してしまうことになる。従って、ＹＡＧ
焼結体中に存在するＹＡＰやＹＡＭ等の結晶系の違う化
合物を極力減少させることが重要となる。【００２０】 そこで、Ｘ線回折による分析において、Ｙ
ＡＧの面指数（４２０）の強度に対して、ＹＡＰの面指
数（１２１）＋ＹＡＭの面指数（−１２２）の強度の比
を１０％以下と少なくすれば、ボイドを少なくできるの
である。【００２１】 【実施例】次に本発明実施例として記録媒体ディスク用
基板の一例である磁気ディスク用基板をＹＡＧ焼結体で
形成した例を説明する。【００２２】 純度が９９％以上、ＢＥＴ比表面積５ｍ2
／ｇ以上のＡｌ2Ｏ3粉末とＹ2Ｏ3粉末を水で混合し、バ
インダーとしてＰＶＡを加えスラリーを作製した。これ
をスプレードライヤーで造粒し、電気炉で１３５０℃で
仮焼した。これに溶媒として水と高純度アルミナボール
を加え回転ミルにて粉砕を行い、平均粒径（Ｄ50）を２
μｍ以下にした後、バインダーとしてＰＥＧ、アクリル
樹脂、ＰＶＡを添加し混合攪拌した。【００２３】なお、混合前の上記Ｙ 2 Ｏ 3 粉末、Ａｌ 2 Ｏ 3
粉末の量を適宜変えた異なるスラリーを作製し、上記の
ように造粒、仮焼し、これらを２μｍ以下に粉砕して、
これらの異なる粒径の粉体をそれぞれ 再度スプレードラ
イヤーで噴霧し造粒を行った。更に、これらの造粒体を
金型プレス及び冷間静水圧プレスを用い、２．５ｇ／ｃ
ｍ3以上の生密度の成形体を作製した。この成形体を真
空中１７００〜１８８０℃で、好ましくは１８００〜１
８６０℃で焼成し表１に示す複数のＹＡＧ焼結体を得
た。【００２４】 このＹＡＧ焼結体をＸ線回折で分析したと
ころ、表１に示すように、前述のＹＡＧの面指数（４２
０）の強度に対する、ＹＡＰの面指数（１２１）＋ＹＡ
Ｍの面指数（−１２２）の強度比が０〜１５％であるＹ
ＡＧ焼結体を得ることができた。なお、Ｘ線回折による
ＹＡＧの面指数（４２０）のピークは２θ＝３３．３°
に、ＹＡＭの面指数（−１２１）のピークは２θ＝２
９．６°に、ＹＡＰの面指数（１２１）のピークは２θ
＝３４．３°にそれぞれ現れる。したがって、２θ＝３
０°近傍を拡大して分析し、上記各ピークの強度を測定
すれば容易に前述した強度比を求めることができる。【００２５】 このＹＡＧ焼結体をラップし、ポリッシュ
して磁気ディスク用基板を得た後、平均ボイド径と対理
論密度比を測定する。なお、平均ボイド径は、基板の表
面を画像回折装置（ルーゼックス製、ルーゼックス５０
０型）で測定して求めた。【００２６】 次に、各磁気ディスク用基板上に、それぞ
れＣｏを含んだＦｅをターゲットとした反応スパッタリ
ングによってα−Ｆｅ2Ｏ3膜（厚さ０．２μｍ）を被着
し、次いで、Ｆｅ3Ｏ4膜に変換し、空気中にて３２０℃
で酸化してγ−Ｆｅ2Ｏ3膜に変換し、高密度磁気ディス
クを作成した。このようにして得られた磁気ディスクに
ついて、浮上量０．２μｍで磁気ヘッドを浮上させて使
用テストを行い、信号エラー発生のあったものを×、無
かったものを○として評価した。【００２７】 結果は表１に示す通りである。この結果よ
り、比較例であるＮｏ．６ではＸ線回折の強度比が１５
％と大きく、平均ボイド径が３μｍを超え、対理論密度
比が９８％未満と低いことから、磁気ディスク用基板表
面のボイドが多く なり磁気ディスクとしての使用試験で
信号エラーが発生しやすかった。【００２８】 これに対し、本発明実施例であるＮｏ．１
〜５では、Ｘ線回折の強度比を１０％以下とし、平均ボ
イド径１．５μｍ以下で、かつ対理論密度比９８％以上
とすると、磁気ディスク用基板表面のボイドが少なくな
るため磁気ディスクとしての使用試験で信号エラーが発
生しなかった。また、Ｘ線回折の強度比が小さく、平均
ボイド径を小さく、対理論密度比を大きいほど、より好
ましい磁気ディスク用基板が得られることがわかった。【００２９】 【表１】 【００３０】次に、表１のＹＡＧ焼結体からなる磁気デ
ィスク用基板と、比較例として他材料からなる磁気ディ
スク用基板について、平均ボイド径とビッカース硬度を
比較した結果を表２に示す。【００３１】 この結果より、平均ボイド径について見て
みると、本発明のＹＡＧ焼結体からなる基板は、アルミ
ナセラミックスやアルミニウム等に比べて格段にボイド
径を小さく、ＨＩＰ処理を施したアルミナセラミックス
と同程度のボイドレベルであることがわかる。つまり、
本発明のＹＡＧ焼結体からなる磁気ディスク用基板は、
従来のＨＩＰ処理を施したアルミナセラミックス製基板
と同程度のボイドレベルをＨＩＰ処理なしで達成できる
のである。【００３２】 また、ビッカース硬度について見てみる
と、本発明のＹＡＧ焼結体はガラスやアルミニウムより
も硬度が高いことから傷がつきにくく、一方ＨＩＰした
アルミナセラミックスよりも硬度が低いため、焼成後の
加工が容易であり、磁気ディスク用基板として最適な硬
度を有している。なお、このような効果を奏するために
はＹＡＧ焼結体のビッカース硬度を１２００〜１４００
ｋｇ／ｍｍ2の範囲とすることが好ましい。【００３３】 さらに、本発明のＹＡＧ焼結体からなる磁
気ディスク用基板は透光性を有するため、表面の傷等を
容易に視認しやすい等の効果もある。【００３４】 【表２】 【００３５】なお、以上の実施例では磁気ディスク用基
板についてのみ述べたが、光ディスク用基板にも同様に
本発明を適用することができる。【００３６】 【発明の効果】このように本発明によれば、Ｘ線回折の
強度において、ＹＡＧの面指数（４２０）の強度に対す
る、ＹＡＰの面指数（１２１）＋ＹＡＭの面指数（−１
２２）の強度比が１０％以下であり、平均ボイド径１．
５μｍ以下で、理論密度の９８％以上の密度を持つＹＡ
Ｇ焼結体で記録媒体ディスク用基板を構成したことによ
って、従来のＨＩＰ処理を施したアルミナセラミックス
製基板と同程度のボイドレベルをＨＩＰ処理を施すこと
なく容易に得ることができる。【００３７】また、 本発明の記録媒体ディスク用基板
は、適度な硬度を有することから加工が容易であり、磁
気記録媒体の形成時に基板自体に歪が発生せず、かつ基
板に加わる遠心力に対して基板自体が伸びることもな
い。【００３８】 したがって、本発明によれば、正確に高密
度記録の書き込みや読み取りができる高信頼性の記録媒
体ディスク用基板を提供することができる。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】Ｘ線回折の強度において、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12の
面指数（４２０）の強度に対する、ＹＡｌＯ3の面指数
（１２１）とＹ4Ａｌ2Ｏ9の面指数（−１２２）の合計
の強度比が１０％以下であって平均ボイド径１．５μｍ
以下で、理論密度の９８％以上の密度を持つイットリウ
ム−アルミニウム−ガーネット焼結体から成ることを特
徴とする記録媒体ディスク用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01481295A JP3502683B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 記録媒体ディスク用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01481295A JP3502683B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 記録媒体ディスク用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08203119A JPH08203119A (ja) | 1996-08-09 |
| JP3502683B2 true JP3502683B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=11871458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01481295A Expired - Fee Related JP3502683B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 記録媒体ディスク用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3502683B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006282447A (ja) | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 透光性材料およびその製造方法 |
| KR20230008699A (ko) * | 2020-05-12 | 2023-01-16 | 닛폰 이트륨 가부시키가이샤 | 성막용 또는 소결용 분말 |
-
1995
- 1995-01-31 JP JP01481295A patent/JP3502683B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08203119A (ja) | 1996-08-09 |
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