JPS60200983A - クラツド容器 - Google Patents
クラツド容器Info
- Publication number
- JPS60200983A JPS60200983A JP5772884A JP5772884A JPS60200983A JP S60200983 A JPS60200983 A JP S60200983A JP 5772884 A JP5772884 A JP 5772884A JP 5772884 A JP5772884 A JP 5772884A JP S60200983 A JPS60200983 A JP S60200983A
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- JP
- Japan
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- vessel
- alloy
- oxide
- long life
- ore
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/167—Means for preventing damage to equipment, e.g. by molten glass, hot gases, batches
- C03B5/1672—Use of materials therefor
- C03B5/1675—Platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/06—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in pot furnaces
- C03B5/08—Glass-melting pots
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B14/00—Crucible or pot furnaces
- F27B14/08—Details peculiar to crucible or pot furnaces
- F27B14/10—Crucibles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、クラッド容器に関するものである。
従来、Ｗ又はＷ合金の容器は高温ガラスや金属酸化物を
含む鉱石熔解用るつぼや真空蒸着用のトレー、ボートな
どに広く用いられていた。これは、Ｗの融点が約３４０
０°Ｃと非常に高く、高温での機械的性質に優れている
からである。ところが、Ｗは５００℃をこえると空気中
の酸素と反応して酸化物を作り、この酸化物が蒸発しや
すいため小店性雰囲気で使用しなければならないという
わずられしさがあった。さらに、このような不活性雰囲
気中で使用しても、金属酸化物を含むカラスや鉱石など
を溶解する場合には、溶融物の中に含まれる酸素とＷが
結合して酸化物を作り、容器のＷが溶出して容器の寿命
か短かいという欠点があった。このため他の金属を加え
て合金とし耐消耗性の向上が図られているが、Ｗの酸化
を防止するに足る合金が発見されていないのが実情であ
る。
含む鉱石熔解用るつぼや真空蒸着用のトレー、ボートな
どに広く用いられていた。これは、Ｗの融点が約３４０
０°Ｃと非常に高く、高温での機械的性質に優れている
からである。ところが、Ｗは５００℃をこえると空気中
の酸素と反応して酸化物を作り、この酸化物が蒸発しや
すいため小店性雰囲気で使用しなければならないという
わずられしさがあった。さらに、このような不活性雰囲
気中で使用しても、金属酸化物を含むカラスや鉱石など
を溶解する場合には、溶融物の中に含まれる酸素とＷが
結合して酸化物を作り、容器のＷが溶出して容器の寿命
か短かいという欠点があった。このため他の金属を加え
て合金とし耐消耗性の向上が図られているが、Ｗの酸化
を防止するに足る合金が発見されていないのが実情であ
る。
本発明は上記欠点に鑑みなされたものであり、耐消耗性
の優れた長寿命の容器を提供することを目的とする。
の優れた長寿命の容器を提供することを目的とする。
本発明は、Ｗ又はＷ合金の表面にＲｈ又はｌ’＜ ｈ合
金が被覆されていることを特徴とするクラッド容器であ
る。
金が被覆されていることを特徴とするクラッド容器であ
る。
本発明において、Ｒｈ又はＲｈ合金を用いるのは、Ｉぐ
ｈの融点か１９６６°ＣとＷと同様に高く、しかも６０
０°Ｃをこえれば酸素と結合するものの１１００℃では
分解し耐酸化性特に金属酸化物に対する耐酸化性に僚れ
ているからである。しかし、無垢のＲｈやＲｌ１合金の
容器は高価で加工が困難なため被覆することとした。被
覆はイオンブレーティングやスパッタリングや蒸着など
の物理的蒸着が湿式蒸着よりも良い。これは、物理的蒸
着によればＷ容器の表面層にＲｈ原子が埋没されてＲｈ
とＷ合金の接合面の密着強度が高くなり、機械的強度の
高いクラッド容器がｆａられるからである。このように
、Ｒｈ又はＲｈ合金を被覆したルツボは耐酸化性に榎れ
、接合面の機械的強度も優れていることから長寿命のも
のとなる。なお、Ｒｋ＋金合金しては、Ｐｔ−Ｒｈ、Ｉ
ｒ−Ｒｈがある。
ｈの融点か１９６６°ＣとＷと同様に高く、しかも６０
０°Ｃをこえれば酸素と結合するものの１１００℃では
分解し耐酸化性特に金属酸化物に対する耐酸化性に僚れ
ているからである。しかし、無垢のＲｈやＲｌ１合金の
容器は高価で加工が困難なため被覆することとした。被
覆はイオンブレーティングやスパッタリングや蒸着など
の物理的蒸着が湿式蒸着よりも良い。これは、物理的蒸
着によればＷ容器の表面層にＲｈ原子が埋没されてＲｈ
とＷ合金の接合面の密着強度が高くなり、機械的強度の
高いクラッド容器がｆａられるからである。このように
、Ｒｈ又はＲｈ合金を被覆したルツボは耐酸化性に榎れ
、接合面の機械的強度も優れていることから長寿命のも
のとなる。なお、Ｒｋ＋金合金しては、Ｐｔ−Ｒｈ、Ｉ
ｒ−Ｒｈがある。
以下、実施例と従来例について説明する。
〔実施例１〕
肉厚５ｍｍ、高さ １００ｍ＋＋、内径８０關の断面コ
の字形ＷＭるつほの内壁に次の条件でＲｈを厚さ１０μ
ｒｎまでイオンブレーティングした。
の字形ＷＭるつほの内壁に次の条件でＲｈを厚さ１０μ
ｒｎまでイオンブレーティングした。
雰囲気ガス： ２．０Ｘ１０ １１１１１ Ｈｇイオン
化電圧、電流：４０Ｖ、５Ａ 重子ビーム溶解： ９ ｋ Ｖ、 ３００ ｍＡ熱電子
： ＩＯＶ、１００Ａ これを実施品１とする。
化電圧、電流：４０Ｖ、５Ａ 重子ビーム溶解： ９ ｋ Ｖ、 ３００ ｍＡ熱電子
： ＩＯＶ、１００Ａ これを実施品１とする。
〔実施例２〕
実施例１と同一形状のＷＵるつほの内外壁に次の条件で
Ｐ ｔ −Ｒｈ合金を厚さ０，１鮒マグネトロンスパツ
タリングした。
Ｐ ｔ −Ｒｈ合金を厚さ０，１鮒マグネトロンスパツ
タリングした。
圧力ニＡｒカス３Ｘ１０＋ｕ＋）１ｇ
印加電圧： ４００Ｖ
高周波電源： １３．５６ Ｍｌｌｚ
これを実施品２とする。
実施例１で用いたＷＭるつぼを従来品とした。
次に、上記実用晶１，２と従来品にアルカリ亜鉛硼珪酸
ガラスを５００ｇ入れＡ、ｒ雰囲気、温度約１２００”
ｃｘ（ｉＱ分間で使用した。これを１０回くり返したと
ころ、従来品は５０μそのＷ容器の表面から削られたの
に対し、実用晶Ｉは１０μ、実施品２は５μ削られたに
とどまった。
ガラスを５００ｇ入れＡ、ｒ雰囲気、温度約１２００”
ｃｘ（ｉＱ分間で使用した。これを１０回くり返したと
ころ、従来品は５０μそのＷ容器の表面から削られたの
に対し、実用晶Ｉは１０μ、実施品２は５μ削られたに
とどまった。
次に、実用晶２と従来例の容器の底部を大気中で直接ヒ
ーター加熱して温度約１’０００℃で１０時間保持した
ところ、従来例はＷが酸化され、蒸発して２０ｇ減景し
たのに対し、実施品２は減量しなかった。
ーター加熱して温度約１’０００℃で１０時間保持した
ところ、従来例はＷが酸化され、蒸発して２０ｇ減景し
たのに対し、実施品２は減量しなかった。
これらのことから本発明のクラットるつぼは従来品に比
べて金属酸化物の溶解用るつほとして著しく耐酸化性か
（狂れ、しかも外壁までＲｈ合金被覆した実施品２は人
気加熱しても耐酸化性か優れていることがわかる。
べて金属酸化物の溶解用るつほとして著しく耐酸化性か
（狂れ、しかも外壁までＲｈ合金被覆した実施品２は人
気加熱しても耐酸化性か優れていることがわかる。
以上詳述したように本発明によれば、耐消耗性の優れた
長寿命のクラット容器を提供することができる。しかも
、Ｗ製容器を完全に被覆ずれは人気中でも長寿命のもの
かえられ、高価な設備を必要とせず、高価なＲｈが少量
ですむことと併せて安価なものとなる。
長寿命のクラット容器を提供することができる。しかも
、Ｗ製容器を完全に被覆ずれは人気中でも長寿命のもの
かえられ、高価な設備を必要とせず、高価なＲｈが少量
ですむことと併せて安価なものとなる。
出願人 田中資金属工業株式会社
Claims (1)
- Ｗ又はＷ合金の表面にＲｈ又はＲｈ合金を被覆されてい
ることを特徴とするクラッド容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5772884A JPS60200983A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | クラツド容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5772884A JPS60200983A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | クラツド容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60200983A true JPS60200983A (ja) | 1985-10-11 |
| JPH0317074B2 JPH0317074B2 (ja) | 1991-03-07 |
Family
ID=13063982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5772884A Granted JPS60200983A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | クラツド容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60200983A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01132754A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-25 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| JPH01275779A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| JPH01279777A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-10 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP5772884A patent/JPS60200983A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01132754A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-25 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| JPH01275779A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| JPH01279777A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-10 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0317074B2 (ja) | 1991-03-07 |
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