JPS60200979A - クラツド容器 - Google Patents
クラツド容器Info
- Publication number
- JPS60200979A JPS60200979A JP5772484A JP5772484A JPS60200979A JP S60200979 A JPS60200979 A JP S60200979A JP 5772484 A JP5772484 A JP 5772484A JP 5772484 A JP5772484 A JP 5772484A JP S60200979 A JPS60200979 A JP S60200979A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vessel
- alloy
- ore
- life
- contg
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B14/00—Crucible or pot furnaces
- F27B14/08—Details peculiar to crucible or pot furnaces
- F27B14/10—Crucibles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/06—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in pot furnaces
- C03B5/08—Glass-melting pots
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、クラッド容器に関するものである。
従来、Ｔａ又はＴａ合金の容器は高温ガラスや金属酸化
物を含む鉱石４解用るつほや真空蒸着用のトレー、ボー
トなどに広く用いられていた。これは、Ｔａの融点か約
３０００°Ｃと非常に高り、延性展性に冨むため容易に
加工できるからである。ところが、Ｔａは４００℃をこ
えると空気中の酸素と反応して酸化物を作りやすいため
不活性雰囲気で使用しなければならないというわずられ
しさかあった。さらに、このような不活性雰囲気中で使
用しても、金属酸化物を含むガラスや鉱石などを溶解す
る場合には、溶融物の中に含まれる酸素とＴ ａが結合
して酸化物を作り、容器の”Ｉ−ａが溶出して容器の寿
命が短かいという欠点があった。このため他の金属を加
えて合金とし耐消耗性の向上が図られているが、′Ｉ″
ａの酸化を防止するに足る合金が発見されていないのが
実情である。
物を含む鉱石４解用るつほや真空蒸着用のトレー、ボー
トなどに広く用いられていた。これは、Ｔａの融点か約
３０００°Ｃと非常に高り、延性展性に冨むため容易に
加工できるからである。ところが、Ｔａは４００℃をこ
えると空気中の酸素と反応して酸化物を作りやすいため
不活性雰囲気で使用しなければならないというわずられ
しさかあった。さらに、このような不活性雰囲気中で使
用しても、金属酸化物を含むガラスや鉱石などを溶解す
る場合には、溶融物の中に含まれる酸素とＴ ａが結合
して酸化物を作り、容器の”Ｉ−ａが溶出して容器の寿
命が短かいという欠点があった。このため他の金属を加
えて合金とし耐消耗性の向上が図られているが、′Ｉ″
ａの酸化を防止するに足る合金が発見されていないのが
実情である。
本発明は上記欠点に鑑みなされたものであり、耐消耗性
の優れた長寿命の容器を提供することを目的とする。
の優れた長寿命の容器を提供することを目的とする。
本発明ば、Ｔ ａ又は′１゛ａ合金の表面にＩｒ又はＩ
ｒ合金か被覆されていることを特徴とするクラッド容器
である。
ｒ合金か被覆されていることを特徴とするクラッド容器
である。
本発明において、Ｉｒ又はＩｒ合金を用いるのは、［ｒ
のＭＪ！点が２４５４℃と′１゛ａと同様に高く、しか
も高温度におりる耐酸化性特に金属酸化物に対する耐酸
化性に優れ“ζいるからである。しかし、無垢の１ｒや
１ｒ合金の容器は高価で加工が困難なため被覆すること
とした。被覆はイオンブレーティングやスパックリング
や蒸着などの物理的蒸着が湿式ＡＩよりも良い。これは
、物理的蒸着によれば’ｌ’ ａ容器の表面層にＩｒ原
子が埋没されて１ｒと′１゛ａの接合面の密着硬度が高
くなり、機械的強度の高いクラット容器かｉＭられるか
らである。
のＭＪ！点が２４５４℃と′１゛ａと同様に高く、しか
も高温度におりる耐酸化性特に金属酸化物に対する耐酸
化性に優れ“ζいるからである。しかし、無垢の１ｒや
１ｒ合金の容器は高価で加工が困難なため被覆すること
とした。被覆はイオンブレーティングやスパックリング
や蒸着などの物理的蒸着が湿式ＡＩよりも良い。これは
、物理的蒸着によれば’ｌ’ ａ容器の表面層にＩｒ原
子が埋没されて１ｒと′１゛ａの接合面の密着硬度が高
くなり、機械的強度の高いクラット容器かｉＭられるか
らである。
。。ように、ｌｒ又はＩｒ合金を被覆したるつぼは耐酸
化性に優れ、接合面の機械的強度も優れていることから
長寿命のものとなる。なお、Ｉｒ合金としては、Ｐ ｔ
−Ｉ ｒ 、Ｒｋ＋ −１ｒかある。
化性に優れ、接合面の機械的強度も優れていることから
長寿命のものとなる。なお、Ｉｒ合金としては、Ｐ ｔ
−Ｉ ｒ 、Ｒｋ＋ −１ｒかある。
以下、実施例と従来例について説明する。
〔実施例１〕
肉厚５ｍｍ、高さ １００ｍｍ、内径８０１１１１の一
断面コノ字形゛ｌ″ａ’Ｍるつぼの内壁に次の条件で１
）ｔを厚さ１０μｍまでイオンブレーティングした。
断面コノ字形゛ｌ″ａ’Ｍるつぼの内壁に次の条件で１
）ｔを厚さ１０μｍまでイオンブレーティングした。
雰囲気ガス： ２．０Ｘ１０ ｍｍ １１ｇイオン化電
圧、電流：４０Ｖ、５Ａ 電子ヒ−ムｌ容解：９ｋｖ、３００ｍＡ熱電子 ： Ｉ
ＯＶ、１００Ａ これを実施晶１とする。
圧、電流：４０Ｖ、５Ａ 電子ヒ−ムｌ容解：９ｋｖ、３００ｍＡ熱電子 ： Ｉ
ＯＶ、１００Ａ これを実施晶１とする。
〔実施例２〕
実施例１と同一形状の’Ｉ’ ａ Ｍるっほの内外壁に
次の条件でＰ Ｌ −１ｒ合金を厚さ０．１ｍｍマグネ
１−ロンスパッタリングした。
次の条件でＰ Ｌ −１ｒ合金を厚さ０．１ｍｍマグネ
１−ロンスパッタリングした。
圧力ニＡｒガス３ Ｘ １０ ＋＋ｍ １１ｇ印加電圧
： ＜ＯＯＶ 高周波電源： １３．５６ Ｍｌｌｚ これを実施品２とする。
： ＜ＯＯＶ 高周波電源： １３．５６ Ｍｌｌｚ これを実施品２とする。
実施例１で用いたｌ’ ａ Ｍるつほを従来品とした。
次に、上記実施晶１，２と従来品に５ｉ０２−Ａｌ２Ｏ
，３カラスを５００ｇ入れＡｒ雰囲気、温度約２２００
’ｃ ｘ ６０分間で使用した。これを１０回くり返し
たところ、従来品は５０μそのＴａ容器の表面から削ら
れたのに刻し、実施晶１は５μ、実施晶２は３μ削られ
たにととまった。
，３カラスを５００ｇ入れＡｒ雰囲気、温度約２２００
’ｃ ｘ ６０分間で使用した。これを１０回くり返し
たところ、従来品は５０μそのＴａ容器の表面から削ら
れたのに刻し、実施晶１は５μ、実施晶２は３μ削られ
たにととまった。
次に、実施品２と従来例の容器の底部を大気中で直接ピ
ータ−加熱して温度約１０００℃で１０時間保持したと
ごろ、従来例は′１′ａが殆んど酸化され、だのに対し
、実施晶２は殆んと酸化されなかった。
ータ−加熱して温度約１０００℃で１０時間保持したと
ごろ、従来例は′１′ａが殆んど酸化され、だのに対し
、実施晶２は殆んと酸化されなかった。
なお、従来品の表面ｊ−の硬度と実施品１，２の境界層
の硬度はそれぞれ１００１Ｉｖ、２２０１１ｖ、１６０
１１ｖで あ っ ノこ 。
の硬度はそれぞれ１００１Ｉｖ、２２０１１ｖ、１６０
１１ｖで あ っ ノこ 。
これらのことから本発明のクラッドるつほは従来品に比
べて金属酸化物の溶解用るつぼとし、て著しく耐酸化性
か優れ、しかも外壁までＩｒ合金被覆した実施晶２ば大
気加熱し−（も耐酸化性か優れていることかわかる。ま
た、実施品の境界層の硬度は従来品の表面層の硬度より
はるかに高いことから、実施品は機械的強度に優れてい
ることかわかる。
べて金属酸化物の溶解用るつぼとし、て著しく耐酸化性
か優れ、しかも外壁までＩｒ合金被覆した実施晶２ば大
気加熱し−（も耐酸化性か優れていることかわかる。ま
た、実施品の境界層の硬度は従来品の表面層の硬度より
はるかに高いことから、実施品は機械的強度に優れてい
ることかわかる。
以上詳述したように本発明によれは、耐消耗性の優れた
長ソｊ−命のクラット容器を提供することができる。し
かも、ｉ’ ａ製容器を完全に被覆ずれは大気中でも長
寿命のものかえられ、高価な設（１ｉ＃を必要とせず、
高価なＩｒか少量でずむごとと併せて安イ曲なものとな
る。
長ソｊ−命のクラット容器を提供することができる。し
かも、ｉ’ ａ製容器を完全に被覆ずれは大気中でも長
寿命のものかえられ、高価な設（１ｉ＃を必要とせず、
高価なＩｒか少量でずむごとと併せて安イ曲なものとな
る。
出願人 田中貴蚕属工業株式会社
Claims (1)
- １゛ａ又はＴａ合金の表面にｌｒ又は１ｒ合金を被覆さ
れていることを特徴とするクラッド容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5772484A JPS60200979A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | クラツド容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5772484A JPS60200979A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | クラツド容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60200979A true JPS60200979A (ja) | 1985-10-11 |
| JPH0317070B2 JPH0317070B2 (ja) | 1991-03-07 |
Family
ID=13063881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5772484A Granted JPS60200979A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | クラツド容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60200979A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01132750A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-25 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| JPH01275780A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| JPH01275779A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| GB2306512A (en) * | 1995-10-27 | 1997-05-07 | Leybold Ag | Electron beam vacuum coating plant having a crucible of high melting material |
| JP2012184147A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス製造用容器 |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP5772484A patent/JPS60200979A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01132750A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-25 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| JPH01275780A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| JPH01275779A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラッド容器 |
| GB2306512A (en) * | 1995-10-27 | 1997-05-07 | Leybold Ag | Electron beam vacuum coating plant having a crucible of high melting material |
| GB2306512B (en) * | 1995-10-27 | 1999-06-16 | Leybold Ag | Vacuum coating plant with a crucible disposed in the vacuum chamber for holding material to be evaporated |
| JP2012184147A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス製造用容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0317070B2 (ja) | 1991-03-07 |
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