JPS60177005A - 光学式情報記録体 - Google Patents
光学式情報記録体Info
- Publication number
- JPS60177005A JPS60177005A JP59031786A JP3178684A JPS60177005A JP S60177005 A JPS60177005 A JP S60177005A JP 59031786 A JP59031786 A JP 59031786A JP 3178684 A JP3178684 A JP 3178684A JP S60177005 A JPS60177005 A JP S60177005A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aldehyde
- polyvinyl
- acecool
- aldehydes
- recording material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明はレーザー光の反射または透過により信号の記録
・再生を行うための光学式情報記録体に関する。
・再生を行うための光学式情報記録体に関する。
(従来技術)
ビデオディスク、オーディオディスク、コンビエータ用
情報ファイルディスクなどは従来から透明性に優れたポ
リメチルメタクリレートあるいポリカーボネートで作ら
れている。ポリメチルメタクリレートは成形加工性と強
度に優れているが耐湿性に劣る。そのため、高温・高湿
度下では成形品にそりが生じたり、あるいは吸湿と乾燥
とをくりかえすうちにひび割れが生じる。さらには、耐
衝撃性が低下する。特開昭58−5354号公報および
特開昭58−13652号公報には、数種のポリメタク
リレートを共重合させて耐湿性の向上した樹脂が開示さ
れている。しかし、ポリメタクリレートを主体とするか
ぎり、耐湿性はなお充分ではない。
情報ファイルディスクなどは従来から透明性に優れたポ
リメチルメタクリレートあるいポリカーボネートで作ら
れている。ポリメチルメタクリレートは成形加工性と強
度に優れているが耐湿性に劣る。そのため、高温・高湿
度下では成形品にそりが生じたり、あるいは吸湿と乾燥
とをくりかえすうちにひび割れが生じる。さらには、耐
衝撃性が低下する。特開昭58−5354号公報および
特開昭58−13652号公報には、数種のポリメタク
リレートを共重合させて耐湿性の向上した樹脂が開示さ
れている。しかし、ポリメタクリレートを主体とするか
ぎり、耐湿性はなお充分ではない。
他方、ポリカーボネートは表面硬度が低く傷がつきやす
い。しかも、成形性が悪く成形時の配向が樹脂中に残る
ため、複屈折が大きい。このため。
い。しかも、成形性が悪く成形時の配向が樹脂中に残る
ため、複屈折が大きい。このため。
大容量画像タイプのディスク、大容量コンピュータ用デ
ィスクなどには使用できない。その他の透明性に優れた
樹脂はいずれも複屈折が大きいためこれらディスク用に
は不適当である。透明性および耐湿性に優れ複屈折の小
さい樹脂としてはボリビニルブチラールを主体とするポ
リビニルアセクールが挙げられる。このように優れた性
質を有するポリビニルアセクールの耐熱性を向上させる
ことができればさらに優れた情報記録体が得られうる。
ィスクなどには使用できない。その他の透明性に優れた
樹脂はいずれも複屈折が大きいためこれらディスク用に
は不適当である。透明性および耐湿性に優れ複屈折の小
さい樹脂としてはボリビニルブチラールを主体とするポ
リビニルアセクールが挙げられる。このように優れた性
質を有するポリビニルアセクールの耐熱性を向上させる
ことができればさらに優れた情報記録体が得られうる。
(発明の目的)
本発明の目的は、大容量記録タイプの光ディスクに使用
されうる。透明性に優れ複屈折がなく成形性、耐湿性お
よび耐熱性に優れた光学式情報記録体を提供することに
ある。
されうる。透明性に優れ複屈折がなく成形性、耐湿性お
よび耐熱性に優れた光学式情報記録体を提供することに
ある。
(発明の構成)
本発明は、透明性の高いポリビニルアセクールのアセタ
ール化度を高めることにより耐湿性に優れた樹脂が得ら
れ、そして、アセタール化に用いるアルデヒドの種類を
選択することにより耐熱性に優れた樹脂が得られるとい
う発明者の知見にもとづいて完成された。それゆえ1本
発明の光学式情報記録体は、アセタール化度が65モル
%以上のポリビニルアセクールを含有し、該ポリビニル
アセクールの少な(とも5モル%が脂肪族環式アルデヒ
ド、芳香族アルデヒド、および複素環を有するアルデヒ
ドでなる群から選択される少なくとも一種によりアセタ
ール化されてなり、そのことにより上記目的が達成され
る。
ール化度を高めることにより耐湿性に優れた樹脂が得ら
れ、そして、アセタール化に用いるアルデヒドの種類を
選択することにより耐熱性に優れた樹脂が得られるとい
う発明者の知見にもとづいて完成された。それゆえ1本
発明の光学式情報記録体は、アセタール化度が65モル
%以上のポリビニルアセクールを含有し、該ポリビニル
アセクールの少な(とも5モル%が脂肪族環式アルデヒ
ド、芳香族アルデヒド、および複素環を有するアルデヒ
ドでなる群から選択される少なくとも一種によりアセタ
ール化されてなり、そのことにより上記目的が達成され
る。
このポリビニルアセタールはポリビニルアルコールに酸
性触媒下でアルデヒドを作用させ、アセタール化させて
得られる。このアセタール化度が低いと残存水酸基のた
めに吸湿性が高(なる。
性触媒下でアルデヒドを作用させ、アセタール化させて
得られる。このアセタール化度が低いと残存水酸基のた
めに吸湿性が高(なる。
本発明の記録体を形成する樹脂組成物は、アセタール化
度が65モル%以上好ましくは70モル%以上であるた
め、耐湿性に優れている。このようなポリビニルアセク
ールを得るためには原料となるポリビニルアルコールの
純度の高いことが好ましい。
度が65モル%以上好ましくは70モル%以上であるた
め、耐湿性に優れている。このようなポリビニルアセク
ールを得るためには原料となるポリビニルアルコールの
純度の高いことが好ましい。
したがって、ポリビニルアルコールをポリ酢酸ビニルに
アルカリを作用してケン化して得るときに。
アルカリを作用してケン化して得るときに。
そのケン化度が95モル%以上であること、言いかえれ
ば、残存アセチル基が5モル%以下であることが好まし
い。アセチル基の残存度が高いと記録体の透明性が低下
する。
ば、残存アセチル基が5モル%以下であることが好まし
い。アセチル基の残存度が高いと記録体の透明性が低下
する。
ポリビニルアセタールを調製するときには、脂肪族アル
デヒドに加えて、樹脂に耐熱性を付与するべく、脂肪族
環式アルデヒド、芳香族アルデヒドおよび複素環を有す
るアルデヒドのうちの一種もしくはそれ以上がさらに用
いられる。
デヒドに加えて、樹脂に耐熱性を付与するべく、脂肪族
環式アルデヒド、芳香族アルデヒドおよび複素環を有す
るアルデヒドのうちの一種もしくはそれ以上がさらに用
いられる。
脂肪族アルデヒドには9例えば、ホルムアルデヒド、ア
セトアルデヒド、プロピルアルデヒド。
セトアルデヒド、プロピルアルデヒド。
n−ブチルアルデヒド、ジブチルアルデヒド、デシルア
ルデヒド、ドデシルアルデヒド、ベンズアルデヒドなど
がある。これらのアルデヒドは単独で使用しても数種混
合して用いてもよい。
ルデヒド、ドデシルアルデヒド、ベンズアルデヒドなど
がある。これらのアルデヒドは単独で使用しても数種混
合して用いてもよい。
脂肪族環式アルデヒドには9例えば、シクロヘキシルア
ルデヒド、トリメチルシクロヘキシルアルデヒド、ジメ
チルシクロヘキシルアルデヒド。
ルデヒド、トリメチルシクロヘキシルアルデヒド、ジメ
チルシクロヘキシルアルデヒド。
メチルシクロヘキシルアルデヒド、シクロペンチルアル
デヒド、メチルシクロペンチルアルデヒド。
デヒド、メチルシクロペンチルアルデヒド。
デカヒドロ−β−ナフトアルデヒド、シクロへキシルア
セトアルデヒドなどの飽和アルデヒドやα−カンフオレ
ンアルデヒド、フェラノドラール。
セトアルデヒドなどの飽和アルデヒドやα−カンフオレ
ンアルデヒド、フェラノドラール。
シクロシトラール、トリメチルテトラハイドロベンズア
ルデヒド、α−ピロネンアルデヒド、ミルテナール、ジ
ヒドロミルテナール、カンフェニランアルデヒドなどの
テルペン系アルデヒドあるいは4−メチルシクロヘキセ
ンアルデヒド、3−メチルシクロヘキセンアルデヒドな
どがある。
ルデヒド、α−ピロネンアルデヒド、ミルテナール、ジ
ヒドロミルテナール、カンフェニランアルデヒドなどの
テルペン系アルデヒドあるいは4−メチルシクロヘキセ
ンアルデヒド、3−メチルシクロヘキセンアルデヒドな
どがある。
芳香族アルデヒドには9例えば、ベンズアルデヒド、フ
ェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピルアルデヒド
、トルアルデヒド、ジメチルベンズアルデヒド、クミン
アルデヒド、ナフチルアルデヒドなどがある。
ェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピルアルデヒド
、トルアルデヒド、ジメチルベンズアルデヒド、クミン
アルデヒド、ナフチルアルデヒドなどがある。
複素環を有するアルデヒドには9例えば、フルフラール
や5−メチルフルフラールのようなフラン環を有するア
ルデヒドなどがある。
や5−メチルフルフラールのようなフラン環を有するア
ルデヒドなどがある。
上記脂肪族環式アルデヒド、芳香族アルデヒドおよび複
素環を有するアルデヒドは、それぞれ単独で使用されて
も数種混合して使用されてもよい。
素環を有するアルデヒドは、それぞれ単独で使用されて
も数種混合して使用されてもよい。
ただし、その総量がアルデヒド全体の5モル%を越える
ことが必要である。5モル%を下まわると充分な耐熱性
が得られない。使用されるアルデヒドはこれらのアルデ
ヒドのみで構成されてもよい。
ことが必要である。5モル%を下まわると充分な耐熱性
が得られない。使用されるアルデヒドはこれらのアルデ
ヒドのみで構成されてもよい。
゛ ポリビニルアセタールは溶解法、均一法、沈澱法な
ど1通常用いられる方法により調製されうる。
ど1通常用いられる方法により調製されうる。
また、ポリ酢酸ビニルをケン化し、ひきつづいてアセタ
ール化を行う方法で調製されてもよい。
ール化を行う方法で調製されてもよい。
このように調製されたポリビニルアセタール樹脂は射出
成形やプレス成形など通常行われる方法で成形される。
成形やプレス成形など通常行われる方法で成形される。
必要に応じて、老化防止剤、抗酸化剤、滑剤など通常用
いられる添加剤が添加されうる。
いられる添加剤が添加されうる。
(実施例)
以下に本発明を実施例について説明する。
大族且上
(A)ポリビニルアセタールの調製:ケン化度99.2
モル%そして重合度1500のポリビニルアルコール1
00gを蒸留水’880gの溶解させた。これに濃塩酸
57gを加えた後、 14.4℃に保ちながらイソブチ
ルアルデヒド28.8gを15分間かけて滴下した。
モル%そして重合度1500のポリビニルアルコール1
00gを蒸留水’880gの溶解させた。これに濃塩酸
57gを加えた後、 14.4℃に保ちながらイソブチ
ルアルデヒド28.8gを15分間かけて滴下した。
滴下10分後にポリビニルブチラールの沈澱が析出した
。さらにシクロヘキシルアルデヒF63.5gt−加え
、この反応系を昇温しで40℃に10時間保った。
。さらにシクロヘキシルアルデヒF63.5gt−加え
、この反応系を昇温しで40℃に10時間保った。
これを降温し重曹で中和した。得られたポリビニルアセ
タールを水洗し70℃にて48時間乾燥させた。
タールを水洗し70℃にて48時間乾燥させた。
(B)ポリビニルアセクールの成形および性能評価=
(A)項で得られた樹脂をシリンダ一温度255℃そし
て金型温度75℃の条件下で射出成形した。得られた1
、2a+n X 120mm X 120mjの射出成
形板の吸水後のそり、吸水率、全光線透過率、曇価。
(A)項で得られた樹脂をシリンダ一温度255℃そし
て金型温度75℃の条件下で射出成形した。得られた1
、2a+n X 120mm X 120mjの射出成
形板の吸水後のそり、吸水率、全光線透過率、曇価。
および複屈折率を測定した。その結果を下表に示す。各
測定法は以下に示すとおりである。
測定法は以下に示すとおりである。
+11 吸水後のそり二上記成形板の基板の片面にアル
ミニウムを蒸着し、これにさらに保護コートを行って蒸
着面からの水の浸入を遮断した。この試料を20℃の水
中に浸漬し、72時間後の試料中央部のそりを測定した
。
ミニウムを蒸着し、これにさらに保護コートを行って蒸
着面からの水の浸入を遮断した。この試料を20℃の水
中に浸漬し、72時間後の試料中央部のそりを測定した
。
(2)吸水率:蒸着処理されていない成形板を20℃の
水中に浸漬し72時間後の試料の重量を測定し、増加率
を算出した。
水中に浸漬し72時間後の試料の重量を測定し、増加率
を算出した。
(3) 全光線透過率:ASTM D −1003の方
法により測定した。
法により測定した。
(4)曇価:ASTM D−1003の方法により測定
した。
した。
(5) 複屈折の有無:蒸着処理されていない成形板を
2枚の偏光板の間にはさみ、可視光を透過して干渉縞を
観察することにより複屈折の有無を調べた。
2枚の偏光板の間にはさみ、可視光を透過して干渉縞を
観察することにより複屈折の有無を調べた。
(6)耐熱変形温度:ASTM D−648(18,6
kg/CIA)の方法により測定した。
kg/CIA)の方法により測定した。
尖巖適1
(A)ポリビニルアセクールの調製:ケン化度99.2
モル%1重合度1500のポリビニルアルコール100
gを蒸留水100gおよびイソプロピルアルコール70
0gの混液に分散させた。これに濃塩酸57gを加えた
後、攪拌下65℃に保ちながらイソブチルアルデヒド2
8.8gと2・2・6−ドリメチルシクロヘキシルアル
デヒド95.8gとを加えた。温度を65℃に15時間
保ち、中和後、大量の水を加えて沈澱を析出させた。得
られたポリビニルアセクール樹脂を水洗し70℃にて4
8時間乾燥させた。
モル%1重合度1500のポリビニルアルコール100
gを蒸留水100gおよびイソプロピルアルコール70
0gの混液に分散させた。これに濃塩酸57gを加えた
後、攪拌下65℃に保ちながらイソブチルアルデヒド2
8.8gと2・2・6−ドリメチルシクロヘキシルアル
デヒド95.8gとを加えた。温度を65℃に15時間
保ち、中和後、大量の水を加えて沈澱を析出させた。得
られたポリビニルアセクール樹脂を水洗し70℃にて4
8時間乾燥させた。
(B)ポリビニルアセクール―虱の成形および性能評価
:実施例1と同様である。
:実施例1と同様である。
去籐例ユ
(A)ポリビニルアセクールの調製ニジクロヘキシルア
ルデヒドの代わりにフエラノドラール86.2 gを加
えたこと以外は実施例1と同様である。
ルデヒドの代わりにフエラノドラール86.2 gを加
えたこと以外は実施例1と同様である。
(B)ポリビニルアセクールの成形および性能評価:実
施例1と同様である。
施例1と同様である。
犬施■土
(A)ポリビニルアセクールの調製:イソブチルアルデ
ヒドの使用量を61.3 g 、シクロヘキシルアルデ
ヒドの使用量を12.7 gとしたこと以外は実施例1
と同様である。
ヒドの使用量を61.3 g 、シクロヘキシルアルデ
ヒドの使用量を12.7 gとしたこと以外は実施例1
と同様である。
(B)ポリビニルアセクールの成形および性能評価:実
施例1と同様である。
施例1と同様である。
l施例5
(A)ポリビニルアセクールの調製ニジクロヘキシルア
ルデヒドの代わりにヘンズアルデヒド54.4 gを用
いたこと以外は実施例1と同様である。
ルデヒドの代わりにヘンズアルデヒド54.4 gを用
いたこと以外は実施例1と同様である。
(B)ポリビニルアセクールの成形および性能評価:実
施例1と同様である。
施例1と同様である。
太隻斑■
(A)ポリビニルアセタールの調製:イソプチルアルデ
ヒドの使用量を61.3 gとし、シクロヘキシルアル
デヒドの代わりにフルフラール21.8 gを用いたこ
と以外は実施例1と同様である。
ヒドの使用量を61.3 gとし、シクロヘキシルアル
デヒドの代わりにフルフラール21.8 gを用いたこ
と以外は実施例1と同様である。
(B)ポリビニルアセクールの成形および性能評価:実
施例1と同様である。
施例1と同様である。
北較炎上
(A)ポリビニルアセクールの調製:イソブチルアルデ
ヒドの使用量を57.3 gとし、シクロヘキシルアル
デヒドを用いなかったこと以外は実施例1と同様である
。
ヒドの使用量を57.3 gとし、シクロヘキシルアル
デヒドを用いなかったこと以外は実施例1と同様である
。
(B)ポリビニルアセクールの成形および性能評価:実
施例1と同様である。
施例1と同様である。
ル較ILu
光学式ディスク用樹脂として一般に用いられているポリ
メチルメタクリレ−+−gi’誹< ta和ガス化学株
式会社製パラペソl−F 1000)を用いて成形し。
メチルメタクリレ−+−gi’誹< ta和ガス化学株
式会社製パラペソl−F 1000)を用いて成形し。
以下実施例1と同様に性能評価を行った。
(発明の効果)
本発明の光学式情報記録体は、このように、アセタール
化度の高いポリビニルアセクールを基材としているため
耐湿性に優れている。アセタール化に脂肪族環式アルデ
ヒド、芳香族アルデヒドまたは複素環を有するアルデヒ
ドを使用しているので基材の耐熱性にも優れている。こ
のため、保存中にそりやひずみが生じない。基材樹脂の
成形が優れているため、スタンパ−の微細なピントを転
写することができる。成形時のひずみや配向が残ること
もない。このため、情報が誤って記録されもしくは読み
出されたりすることがない。したがって9本発明の記録
体を用いれば、大容量画像タイプのディスク、大容量コ
ンピュータ用ディスクなど多方面への応用が可能である
。
化度の高いポリビニルアセクールを基材としているため
耐湿性に優れている。アセタール化に脂肪族環式アルデ
ヒド、芳香族アルデヒドまたは複素環を有するアルデヒ
ドを使用しているので基材の耐熱性にも優れている。こ
のため、保存中にそりやひずみが生じない。基材樹脂の
成形が優れているため、スタンパ−の微細なピントを転
写することができる。成形時のひずみや配向が残ること
もない。このため、情報が誤って記録されもしくは読み
出されたりすることがない。したがって9本発明の記録
体を用いれば、大容量画像タイプのディスク、大容量コ
ンピュータ用ディスクなど多方面への応用が可能である
。
以上
出願人 積水化学工業株式会社
手Uト翔i iE7・X’ (自発)
昭和60年 5月17ト1
1、事件の表示
昭和59年特許願第 31786号
2、発明の名称
光学式情報記録体
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
郵便番号 530
住 所 大阪市北区西天満二丁目4番4号特許部 置
(06) 365〜2181特許部東京駐在Tl化 (
03) 434−9552東 補正の対象 01 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、 補正の内容 (盲) 明細書fg5頁第7行に、 「レプチルアルデヒド」 とあるのを、 「インブチルアルデヒド」 と補正する。
(06) 365〜2181特許部東京駐在Tl化 (
03) 434−9552東 補正の対象 01 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、 補正の内容 (盲) 明細書fg5頁第7行に、 「レプチルアルデヒド」 とあるのを、 「インブチルアルデヒド」 と補正する。
(2) 明細書第5頁第11行〜下から第7行に、[シ
クロヘキシルアルデヒド、・・・・・・、メチルシクロ
ヘキシルアルデヒド、」とあるのを、 「シクロヘキサンアルデヒド、トリメチルシクロヘキサ
ンアルデヒド、ジメチルシクロヘキサンアルデヒド、メ
チルシクロヘキサンアルデヒド、」 と補正する。
クロヘキシルアルデヒド、・・・・・・、メチルシクロ
ヘキシルアルデヒド、」とあるのを、 「シクロヘキサンアルデヒド、トリメチルシクロヘキサ
ンアルデヒド、ジメチルシクロヘキサンアルデヒド、メ
チルシクロヘキサンアルデヒド、」 と補正する。
(3) 明細書@5頁下から第6行く。
「メチルシクロペンチルアルデヒド、」とあ♂のを、
と補正する。
(4)明細書第5真下から第5行〜下から第4行に、
「シクロヘキシルアセトアルデヒド」
とあるのを、
「シクロヘキサンアセトアルデヒド」
行〜第9行、第10頁下から第7行〜下から第6行、第
11頁第1行〜第2行及び第11頁第8行〜第9行に、 「シクロヘキシルアルデヒド」 とあるのを、 「シクロヘキサンアルデヒド、」 と補正する。
11頁第1行〜第2行及び第11頁第8行〜第9行に、 「シクロヘキシルアルデヒド」 とあるのを、 「シクロヘキサンアルデヒド、」 と補正する。
(6) 明細書第9真下から8行〜下から第7行に1「
2・2・6−ドリメチルシクロヘキシルアルデヒド、」 とあるのを、 「2@2・6−トリメチルシクロヘキサンアルデヒド、
」 と補正する。
2・2・6−ドリメチルシクロヘキシルアルデヒド、」 とあるのを、 「2@2・6−トリメチルシクロヘキサンアルデヒド、
」 と補正する。
(7) 明細書第12頁を別紙のとおり補正する。
6、 添付可傾の目録
111 補正後の第12頁を記載した書面 1通以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、アセタール化度が65モル%以上のポリビニルアセ
クールを含有し、該ポリビニルアセクールの少なくとも
5モル%が脂肪族環式アルデヒド。 芳香族アルデヒド、および複素環を有するアルデヒドで
なる群から選択される少なくとも一種によりアセクール
化されてなる樹脂組成物からなる光学式記録体。 2、前記複素環がフラン環である特許請求の範囲第1項
に記載の記録体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59031786A JPS60177005A (ja) | 1984-02-21 | 1984-02-21 | 光学式情報記録体 |
CA000467602A CA1239727A (en) | 1983-11-15 | 1984-11-13 | Substrate for optical recording media |
EP84113776A EP0150293B1 (en) | 1983-11-15 | 1984-11-14 | Substrate for optical recording media |
DE8484113776T DE3473525D1 (en) | 1983-11-15 | 1984-11-14 | Substrate for optical recording media |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59031786A JPS60177005A (ja) | 1984-02-21 | 1984-02-21 | 光学式情報記録体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60177005A true JPS60177005A (ja) | 1985-09-11 |
JPH0151484B2 JPH0151484B2 (ja) | 1989-11-02 |
Family
ID=12340736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59031786A Granted JPS60177005A (ja) | 1983-11-15 | 1984-02-21 | 光学式情報記録体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60177005A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62141003A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-24 | Sekisui Chem Co Ltd | 不飽和環カルボアルデヒド−アセタ−ル化ポリビニルアルコ−ル |
JPS62141004A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-24 | Sekisui Chem Co Ltd | シクロヘキサンカルボアルデヒド及びアルキル化シクロヘキサンカルボアルデヒド−アセタ−ル化ポリビニルアルコ−ル |
JP2015189803A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | 積水化学工業株式会社 | ポリビニルアセタール樹脂 |
JP2015196753A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | 積水化学工業株式会社 | ポリビニルアセタール樹脂 |
-
1984
- 1984-02-21 JP JP59031786A patent/JPS60177005A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62141003A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-24 | Sekisui Chem Co Ltd | 不飽和環カルボアルデヒド−アセタ−ル化ポリビニルアルコ−ル |
JPS62141004A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-24 | Sekisui Chem Co Ltd | シクロヘキサンカルボアルデヒド及びアルキル化シクロヘキサンカルボアルデヒド−アセタ−ル化ポリビニルアルコ−ル |
JP2015189803A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | 積水化学工業株式会社 | ポリビニルアセタール樹脂 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0151484B2 (ja) | 1989-11-02 |
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