JPH01313513A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスクに係シ、特に脂環式（メタ）アクリ
レートとエチレンとの共重合体で１７．示差走査型熱量
計で測定したガラス転移温度Ｔ、が１３０℃ないし３５
０℃の範囲にあるアクリル樹脂を基材とする光ディスク
に関する。

〔従来の技術〕

一般に、レーザ線のスポットビームを光デイスク上にあ
て、光デイスク上の微細なビットによって記録された信
号を反射光量または透過光量を検出することによって読
み出す光学式情報記録、再生方式は、著しく記録密度を
上げることができる〇また。光学式情報記録再生方式は
、再生される画像や音質に優れた特性を有することから
９画像や音声の記録再生および多量の情報の記録再生な
どに広く使用できることが期待されている。

上記の光学式情報記録再生方式に使用される光ディスク
は、レーザ光線を透過させるために光デイスク基材は透
明であることはもちろんのこと。

光学的に均質であることが強く要求されている。

そして、光ディスクには１例えば日経エレクトロニクス
の第２９２号（１９８２年６月７日号）に記載されてい
るように、メタクリル樹脂などが一般に用いられている
。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述したメタクリル樹脂などを光ディスクに使用する場
合、耐熱性、耐湿性および耐衝撃性の点でいまだ充分で
あるとは言い難い。また、ビスフェノールＡ（２，２−
ビス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン）をホスゲ
ンや炭酸ジフェニルなどと反応させて得られるポリカー
ボネート樹脂は、耐熱性、耐湿性および耐衝撃性などに
おいて優れているものの、レタデーション値（複屈折値
）が大きく、光学的性質が劣汎光ディスクに記録された
情報の読み取シ感度が低下した）、エラーが発生するな
どの問題があった（日経エレクトロニクス、第２９２号
、　　１９８２年６月７日号）。

本発明の目的は上記した従来技術の問題点を解消し、光
ディスクに用いる基材が透明性、耐熱性。

耐湿性および耐衝撃性が良好で、レタデーシ胃ンが小さ
く光学的均質性に優れた光ディスクを提供することにあ
る〇 〔課題を解決するための手段〕 上記本発明の目的は、下記の一般式（りまたは（２）で
表わされる。脂環式（メタ）アクリレートとエチレンと
の共重合体であシ、かつ示差走査型熱量計で測定したガ
ラス転移温度が１６０℃ないし６３０℃の範囲にあるア
クリル樹脂を基材とする光ディスクとすることによシ、
達成される。

ただし９式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基。

Ｒ２は炭素数１〜５のアルヤレン基またはアルキレンオ
キサイド基、ｎは１〜４の整数、Ｘとｙの比は７＝百〜
丁を示す０ 上記の一般式（１）または（２）で示される脂環式（メ
タ）アクリレートとエチレンとの共重合体において、　
Ｒ２の炭素数が３よシ大きいとガラス転移温度が１３０
℃よシ低くなシ、光ディスクが熱によって反シ、捩れな
どの変化が生じ易くなるので好ましくない０また。ｎは
１〜４の範囲が好ましく、ｎが４よシ大きいと脆くなシ
、光ディスクとしての耐衝撃性が低下するので望ましく
ない。そして。

並よ）小さいとガラス転移温度が１３０℃よシ低くな）
、ｉたＴより大きいと脆くなるので望ましくない。

さらに１本発明の光ディスクの基材に用いるアクリル樹
脂は、ガラス転移温度が１５０℃よ）低いと光ディスク
が熱によって反シ、捩れなどの変化を受は易（、５３０
℃よシ高いと成形が著しく困難になるので好ましくない
。

本発明の光ディスクは１本発明に係る上記のアクリル樹
脂を射出成形またはプレス成形などの方法によって、ス
タンパをセットした金型で記録信号となるビットを転写
し七ディスク基材を成形する。

さらに複製ディスクの場合においては、−数的にビット
転写面に金属の真空蒸着、スパッタリングまたはイオン
ブレーティングなどの方法によって反射層を形成し、さ
らに必要に応じて反射層に保護層を設けることによって
光ディスクを製造することができる。

また、メモリーディスクの場合には、ディスク基材に上
記と同様にトラッキング信号となるビットを転写させて
から、このビット面に１例えば非晶質レアーメタルやレ
ーザによって熱的に分解し得る化合物などよシなるユー
ザで書き込み可能な記録層をスパッタリング、蒸着また
は塗布などの方法によって形成し、必要に応じて上記の
反射層や保護層を形成させることによって光ディスクを
製造することができる。

〔実施例〕

以下に本発明の一実施例を挙げ、さらに詳細に説明する
。

本実施例において用いた樹脂は、下記の一般式で表わさ
れるアクリル樹脂１６種類である。

ｘ　　　　５０ （式中、７＝百） 、０ （式中、Ａ−＝旦） ｘ　　　　５０ （式中、７＝百） ｘ　　　　５０ （式中、７＝−面一） ｘ　　　　５０ （式中、７＝正） （式中、）；１了） 一般式（９）において＊　；”’　ｓで示される樹脂・
・・（１７）一般式（１０）において、７＝τで示され
る樹脂・・・（１８）また、比較例として、下記の一般
式（１９）および（２０）で表わされる繰シ返し単位か
らなシ、光ディスクに通常用いられているポリカーボネ
ート樹脂およびアクリル樹脂を用いた。

上記の１８種類の樹脂のペレットを、それぞれスタンパ
を装着した金型中に射出成形し、厚さ１．２１ｍ、直径
１２０　ｍｍの光デイスク用基材を得た。

次に、光ディスクの信号ビットの刻まれた面に。

スパッタリング法によってアルミニウムよシなる反射層
を形成し、この反射層上にアクリルラッカを塗布してか
ら乾燥し保護層を形成させて光ディスクを作製した。

次に、上記の１８種類の樹脂を用いて作製した光ディス
クの特性について、以下に示す方法で評価した。

（１）光透過率 上記の１８種類の樹脂板（厚さ１２　ｍｍ）を作製し。

分光光度計を用いて波長８５０ｎｍの光透過率を求めた
。

（２）ガラス転移温度で。

上記の１８種類の樹脂板を作製し、示差走査型熱量計を
用いてＴ、を求めた〇 （３）耐熱性 上記のようにして作製した１８種類の光ディスクを１２
０℃で４時間放置してから９反シ、捩れの有無を判定し
た。

（４）耐湿性 上記の１８種類の樹脂板（形状：　５０ｍｍＸ　５０ｍ
ｍＸ１ｍｍ）を作製し、２５℃水中に１週間放置後の重
量増加率を吸水率として求めた。

（５）耐衝撃性 上記の１８種類の樹脂板（形状：　５０ｍｍ　Ｘ　５０
ｍｍＸ　１ｍｍ）を作製し、上島製作所製デュポン衝撃
試験器を用いて、　　１０７ｇのおもシを上記樹脂板の
上に落下させてクラックが入る時の錘と樹脂板の間の距
離を落球衝撃強さの尺度として求めた。

（６）光学的均質性 上記のようにして作製した１８種類の光ディスクのレタ
デーシ曹ン値をエリプソメータ（溝尻光学工業所製）に
よって、波長６３２．８ｎｍのＨｅ　−Ｎｅレーザ光を
照射して光ディスクの内側から外側まで１０箇所測定し
た・そして、その最大値を最大レタデーシ目ン値として
表示した。なお、最大レタデーシヲン値の小さい方が光
学的均質性が良好であることを示す。

上記の実施例および比較例において作製した光ディスク
の特性評価結果を第１表に示す。

第１表から明らかなごとく１本発明に係る一般式（５）
〜（１８）で表わされるアクリル樹脂を用いて製造した
光ディスクは、いずれも１通常のポリカーボネート樹脂
〔一般式（１９））を用いて作製した光ディスクよシも
、最大レタデーション値が小さく光学的均質性に優れて
おシ、情報の読み取シ感度が高いことがわかる。また１
本発明に係るアクリル樹脂〔一般式（３）〜（１８）　
）を用いて作製した光ディスクは、いずれも１通常のア
クリル樹脂〔一般式（２０）　）を用いて作製した光デ
ィスクよ）も、耐熱性が優れておシ９反シの発生がなく
、信頼性が高いことを示している。さらに９本発明に係
るアクリル樹脂製の光ディスクは、透明性、耐湿性。

耐衝撃性についても第１表に示すごとく良好であること
が明らかである。

〔発明の効果〕

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記に示す一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（１） または、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（２） （式中、Ｒ＿１は水素原子またはメチル基、Ｒ＿２は炭
   素数１〜３のアルキレン基またはアルキレンオキサイド
   基、ｎは１〜４の整数、ｘとｙの比はｘ／ｙ＝５０／５
   ０〜９５／５を示す。）で表わされる脂環式（メタ）ア
   クリレートとエチレンとの共重合体からなるアクリル樹
   脂を基材とすることを特徴とする光ディスク。 ２、示差走査型熱量計で測定したガラス転移温度が１５
   ０〜３５０℃の範囲にある請求項１記載の光ディスク。