JPS63122033A - 光デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスクに関し、特に、ディスク基材とし
て特定のポリサルホン樹脂を使用した、透明性、耐熱性
、耐湿性および機械的強度にすぐ〜れるとともに、光学
的性質としてレタデーシ冒ン（複屈折値）が小さく光学
的均質性にすぐれた光ディスクに関するものである。

〔従来の技術〕

レーザー光線のスポットビームなディスク上にあて、デ
ィスク上の微細なピットによって記録された信号を反射
または透過光量を検出することによって読み出す光学式
情報記鎌、再生方式は、著しく記録密度を上げることが
でき、また、それから再生される画像や音質がすぐれた
特性を有することから、画像や音声の記録再生、多量の
情報の記憶再生等に広く実用されることが期待されてい
る。

この記録再生方式に利用されるディスクには、ディスク
基材をレーザ光が透過するために透明であることは勿論
のこと、光学的均質性が強く求められる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

この種のディスク材料としては、従来からメタクリ、ル
樹脂などが知られているが、この樹脂は耐無性や耐湿性
、耐衝重性の点でまだ充分なものとは言い難い。また、
ビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フロパン）ヲホスゲンや炭酸ジフェニル等と反応
させて得られるポリカーボネート樹脂は、耐熱性、耐湿
性、耐衝粘性などにおいてすぐれているものの、レタデ
ーシ膳ン（複屈折値）が大きく光学的均質性に劣り、デ
ィスクに記録された情報の読み取り感度が低下したり、
エラーが発生するという欠点がある（日経エレクトロニ
クス、第２９２号、１９８２年６月７日号）。

本発明は、レタデーシｉンが小さく光学的均質性にすぐ
れ、ディスクに記録された情報の読み取り感度の高い光
ディスクを提供することを目的とするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

すなわち、本発明は、式 で表される繰り返し単位からなり、数平均分子量が２．
０００から２００　、０００の範囲にあるポリサルホン
樹脂を基材とする光ディスクを提供するものである。た
だし、上記Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ、水素またはメチル
基とする。

本発明に用いろポリサルホン樹脂の数平均分子量が２　
、０００未満であると、光ディスクが熱によって反り、
捩れ等の変化を受けやすい。また、数平均分子量が２０
０　、０００を超えると、成型が著しく困難となる。

さらに、本発明の基材の成分として、スタンパ−との離
型性を改良するために、たとえばシリコーン、ワックス
、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸金属塩、脂肪族アル
コール等の助剤や、帯電防止の目的で、たとえば高級ア
ルコールのスルホン酸塩、第４級アンモニウム塩等の助
剤を、本発明の目的達成を阻害しない範囲で、上記のポ
リサルホン樹脂と併用してもよい。

本発明の光ディスクは、上記ポリサルホン樹脂を射出成
型、またはプレス成型等の方法によってスタンパ−をセ
ットした金屋にて記録信号となるビットを転写し、ディ
スク基材を成型する。さらに複製ディスクの場合には、
一般的には、ビット転写面に金属の真空蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングなどの方法によって
反射層を形成し、さらに必要に応じて反射層の保護コー
ティングを行って製造することができる。また、メモリ
ーディスクの場合には、上記と同様にして・トツラッキ
／グ信号となるビットを転写した後、さらにビット面に
、たとえば非晶質レアーメタルやレーザーによって熱的
に分解し得る化合物等の、ユーザーでの書き込み可能な
記録層をスパッタリング、真空蒸着または塗布等し、さ
らに必要に応じ上記のような反射層や保護コーティング
の形成を行ってメモリー用光ディスクを製造することが
できる。

〔実施例〕

つぎに、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。

用いた本発明試料は以下の通りとする。

で表される繰り返し単位からなる、数平均分子量２０　
、０００のポリサルホン樹脂・・・・・・・・・川・・
・固成 で表される繰り返し単位からなる、数平均分子量４０．
０００のポリサルホン樹脂・・・・・・・・・・・・・
・・（Ｂ１式 で表される繰り返し単位からなる、数平均分子量６０　
、０００のポリサルホン樹脂・・・・・・・・・・・・
・・・（Ｏ上記（Ｃ）の化学構造で数平均分子量１８０
，０００のポリサルホン樹脂・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・■）また、比較
例試料として、式 で表される繰り返し単位からなる、数平均分子量３０．
０００の市販ポリカーボネート樹脂・・・・・・固成 で表される繰り返し単位からなる、数平均分子量。

３０．０００の市販ポリサルホン樹脂・・・・・・・・
・・・・（至）また、光ディスクの製造は以下のように
行った。

上記の各種樹脂ペレットを用いて、スタンパ−を装着し
た金型中に射出成型し、厚さ１．２朋、直径１２０１ｍ
＋のディスクを得た。

つぎに信号ビットの刻まれた面にスパッタリング法によ
ってアルミニウムの反射層を形成し、つぎに反射層に保
護コートとしてアクリルラッカーを塗布して乾燥し、光
ディスクを製造した。

特性は以下に示す方法で測定した。

（１）耐熱性：１２０６Ｃ，４時間　光ディスクを放置
して、反り、捩れの有無を測定した。

（２）光学的均質性：上記ディスクのレタデーションを
エリプソメータ（溝尻光学工業所社Ｍ）を用い、波長６
３２．８　ＦＬｍのＨｅ　−Ｎｅレーザーを光源として
ディスクの内側から外側まで１０箇所にわたって求め、
最も大きい値を最大レタデーシ四ンとした。小さい値の
ものは光学的均質性が優れている。

つぎＫ、実施例と比較例をまとめて第１表に示した。第
１表から、本発明のポリサルホン樹脂囚〜■）は、比較
例の市販ポリカーボネート樹脂（３）。

市販ポリサルホン樹脂菌とともに、光ディスクとしての
耐熱性を満足することがわかる。さらに、本発明の光デ
ィスクは最大レタデーシ罵ンが比較例のものに・比べて
極めて小さく、光学的均質性に著しく優れていることが
明らかである。

すなわち、本発明のポリサルホン樹脂を用いて成型した
光ディスクは、従来のポリカーボネート樹脂やポリサル
ホン樹脂を用いて成型し？ｅものに比べ、特に、光学的
均質性に優れ、耐熱性だけでなく、他の要求特性をも充
分満足する実用価値の高いものであった。

以下余白 〔発明の効果〕 上記したところから明らかなように、本発明の元ディス
クは、従来のポリカーボネート樹脂やポリサルホン樹脂
を用いた元ディスクに比べ、レタデーシツンが小さいの
で、光学的均質性に優れ、ディスクに記録された情報の
読み取り感度が高く、従来の光ディスクの欠点を大幅に
改良することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される繰り返し単位からなり、数平均分子量が２，
   ０００から２００，０００の範囲にあるポリサルホン樹
   脂を基材とすることを特徴とする光ディスク。 ただし、上記Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ、水素またはメチ
   ル基とする。