JPH01162250A - 光カードの光記録層保護用積層体 - Google Patents

光カードの光記録層保護用積層体

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JPH01162250A
JPH01162250A JP62321657A JP32165787A JPH01162250A JP H01162250 A JPH01162250 A JP H01162250A JP 62321657 A JP62321657 A JP 62321657A JP 32165787 A JP32165787 A JP 32165787A JP H01162250 A JPH01162250 A JP H01162250A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、情報記録部材における光記録層を保護するた
めの積層体、殊に光カードにおける情報記録層を保護す
るための保護層として有用な積層体に関するものである
。
従来の技術 光エネルギーの入射加熱によって情報を記録する光カー
ドは、磁気カードに比べて格段に高い記録密度が可能で
あるため、今後の情報記録手段の有力な方式の一つであ
ると考えられている。
光カードは、典型的には、大きさが８５．５ｍｍＸ５４
、ｈｍ程度、厚さが０．８ｍｍ程度のカードであり、再
生専用型、追記型などがある。
光カードは、読み出し方向または書き込み方向側に厚さ
０．４ｍｍ程度の保護層を設け、その背面に数４ｍの情
報記録層を配置し、さらにその背面に基材を接着積層し
た構造を有する。基材は単なる支持板であるので特別の
光学的性質は要求されないが、保護層は透明でかつ光学
的に等方性を有することが必要である。従来この保護層
としては、ポリ塩化ビニル板、ポリメチルメタクリレー
ト板、ポリカーボネート板が用いられている。保護層表
面には、傷防止のため、表面硬化層を設けることもある
。
再生専用型の光カードの層構成の一例は次の通りである
。読み出し方向から順に、傷防止用の表面硬化層／保護
層／情報記録層／接着剤層／基材。情報記録層は、たと
えば非銀塩パターン層／アルミニウム反射層の２層構成
。
追記型の光カードの層構成の一例は次の通りである。書
き込み方向から順に、傷防止用の表面硬化層／保護層／
情報記録層／基材／保護層、情報記録層は、たとえばク
ラスト層（銀塩パターン層）／下層の２層構成。
発明が解決しようとする問題点 光カードにおける記録層保護用の保護層としては、透明
であること、光学的に等方性であること（複屈折率が小
さいこと）、機械的強度が良好であると共に硬くて変形
しないこと、熱伝導率が小さいことのほか、耐熱性があ
ること、記録媒体を塗工する際の溶剤に耐性のあること
、吸湿性が小さいことなどの特性が要求される。またコ
スト的にも実用化の支障にならないという条件を満たす
ことが要求される。
しかしながら、ポリ塩化ビニル板を保護層とし、その上
に情報記録層を設けた光カードは、ポリ塩化ビニル板の
レターデーション値を所定の値に設定しても、その表面
に情報記録層を形成するときの溶剤との接触や熱履歴に
よりレターデーション値が変化することが多く、安定し
た性能の光カードを得ることができないという問題点が
ある。
ポリメチルメタクリレート板上に情報記録層を設けた光
カードは、支持体であるポリメチルメタクリレート板の
吸湿性を防ぐ適当な手段を見出しがたい上、耐溶剤性も
乏しいという不利がある。
ポリカーボネート板上に情報記録層を設けた光カードも
、同様に情報記録層形成時に溶剤により溶解しやすいと
いう問題点がある。
本発明は、光カードにおける情報記録層保護用の保護層
として好適な積層体を提供することを目的になされたも
のである。
問題点を解決するための手段 本発明の光記録層保護用積層体は、透明で光等方性を有
する合成樹脂シート（１１）の情報記録層設置面側の表
面に耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）を設けてなるもの
である。
以下本発明の詳細な説明する。
透明で光等方性を有する合成樹脂シート（１１）として
は、ガラス転移点温度が６０℃以上、レターデーション
値が１１００ｎ以下、可視光線透過率が８０％以上、吸
水率が５％以下のものが適当であり、たとえば、ポリ塩
化ビニル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホニ スチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリ−４−メチ
ルペンテン−１、ＡＢＳ樹脂、フタル酸樹脂、セルロー
ストリアセテート、セルロースブチルアセテートなどが
用いられる。これらの樹脂は共重合体であってもよく、
２種以上の樹脂のブレンド物であってもよい。
前記の合成樹脂シー）　（１１）は、キャスティング法
によって成形することもできる．この場合、１回で所定
の厚さのシートを得ると、表面の凹凸や気泡の混入、透
明性の喪失などの問題点を生じやすい。一方数回に分割
してキャスティングすると、価格上高くなる欠点のほか
に、厚さを均一に揃えるのが困難になるという不利があ
る。
そこで、一般的には、前記の如き樹脂をエクストルージ
ョン法もしくはインジェクション法で成形して所定の厚
さにすることが経済的である．その際所定のレターデー
ション値が得られないときは、該樹脂のガラス転移点よ
りも約１０℃程度高い温度に加熱することにより分子配
向を緩和し、レターデーション値を小さくすることが必
要に応じ行われる。
上述の合成樹脂シー）　（１１）の厚さは、少なくとも
０．２ｍｎ＋以上、殊に０．３ｍｍ以上とすることが望
ましい．というのは、この合成樹脂シー）　（１１）は
後述の情報記録層（２）を保護するための層であるので
一定以上の厚さが必要であり、また入射した光線を読取
装置へ確実に反射させなければならないのでカーリング
やベンディングがあってはならず、さらには、その表面
に塵埃等が付着した場合、入射した光線が反射層で反射
した際にこの塵埃等で遮蔽されて記録自体を解読できな
くなることを避けるためにも、−室以上の厚さが必要で
あるからである。ただし、カードとしての取扱性、光学
的等方性確保の点からおのずから上限があり、通常は１
．５ｍｍ程度以下とする。特に好ましい範囲は０．３〜
０．７■である。
上記合成樹脂シー）　（１１）の情報記録層設置面側の
表面には、耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）を設ける。
核層（１２）の設置により、後述の情報記録層（２）形
成時に合成樹脂シー）　（１１）のレターデーション値
が変化するのを回避することができる。
耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）としては、情報記録層
（２）を形成する際に用いる有機溶剤に耐性を有するこ
とが必要で、エチレン−酢酸ビニル共重合体部分鹸化物
、ポリビニルアルコール、ポリアミド系樹脂、ポリアク
リロニトリル系樹脂、ポリハラ／＜ン酸樹脂、ポリアミ
ノ樹脂、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹
脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂などの層が適当であ
る。これらの中では、フェノキシエーテル型架橋性樹脂
、ポリパラバン酸樹脂またはポリアクリロニトリル系樹
脂の層が特に好ましい。
耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）は、上述の合成樹脂シ
ー）　（１１）面に流延製膜法により形成してもよく、
予め流延製膜した耐有機溶剤性合成樹脂層。
（１２）を合成樹脂シー）　（１１）面に接着剤により
貼着積層してもよい０通常ｔ’を後者の接着による積層
法が採用される０合成樹脂シー）　（１１）と耐有機溶
剤性合成樹脂層（１２）との間には、必要に応じ中間層
（１３）を介在させることもできる。ただしこの中間層
（１３）も光等方性を有することが要求される。
耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）の厚さは、１〜５００
ＩＬｍ、好ましくは２〜３００ＩＬＩｌの範囲に設定す
る。
このようにして合成樹脂シー）　（１１）と耐有機溶剤
性合成樹脂層（１２）との積層構成を有する光等方性の
保護層（１）が得られるが、この保護層（１）は入射光
・反射光の通路であるため、その全体のレターデーショ
ン値は、１１００ｎ以下、特に８０ｎ■以下、なかんず
（５０ｎｉｔ以下に設定することが望ましい。
ここでレターデーション値Ｒとは、次式のように、フィ
ルムまたはシートの厚さｄと、該フィルムまたはシート
に対して垂直方向の２つの屈折率の差の絶対値との積で
表わされる値である。
Ｒ＝ｄ＠ｌｎｌ　−Ｈ２ｌ （ただし、ｎｌは、任意方向の屈折率、Ｈ２は、ｎｌと
直交する屈折率） 合成樹脂シート（１１）と耐有機溶剤性合成樹脂層（１
２）との積層構成を有する光等方性の保護層（１）の耐
有機溶剤性合成樹脂層（１２）面には、情報記録層（２
）が設けられる。
情報記録層（２）は、通常、 ■　記録層（２１）と反射層（２２）、あるいは■　記
録層（２１）と非反射層（２３）の２層構成とする。い
ずれの場合も耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）に近い方
に記録層（２１）を配置する。
■の場合には、書き込み時に記録層（２１）に記録ビッ
トを形成させ、読み出し時の光が記録ビットに当ったと
きは反射せず、記録ビットに当らないときは反射層（２
２）により反射されるようにする。
■の場合には、記録層（２１）を銀塩パターン層などの
反射可能な層とし、書き込み時に記録層（２１）を破壊
し、読み出し時の光がその破壊部分に当ったときは光は
反射されず、破壊部分以外の個所に当ったときは反射さ
れるようにする。
■の場合の記録層（２１）としては、Ｔｅ系、Ｔｅ　−
Ｃ系（Ｔｅ−アルキル系）　、　ＣＳｚ　−Ｔｅ系、Ｔ
ｅ　−Ｓｅ系、Ｐｂ　−Ｔｅ　−Ｓｅ系、ＴｅＯｘ系、
ＴｅＯｘ　−Ｐｄ系、Ｂｉ　−Ｔｅ系、Ｔｅ　−Ｔｉ　
−Ａｇ　−Ｓｅ系、Ｂｉ２．Ｔｅ３−５ｂｚＳｅ３系、
Ｓｎ系、Ｉｎ系、　　Ｉｎ　−Ｉｎｚ０３系、Ｉｎ　−
ＣＨ４−Ｏｚ系、Ｓｅ系、Ｓｂ　−Ｓｅ系、Ｇｅ系、５
ｉ０２系、Ｔｂ　−Ｇｄ系、　Ｇｄ　−Ｇｏ系、Ｇｄ−
Ｔｂ　−Ｆｅ系、　Ｇｄ　−Ｔｂ　−Ｆｅ　−Ｇｅ系、
Ｇｄ−丁ｂ　−Ｇｏ系、Ｔｂ　−Ｆｅ系、Ｔｂ　−Ｆｅ
　−Ｇｏ系、Ａｇ　−Ｚｎ　−Ａｌ系、Ｃｕ　−ＡＩ　
−Ｉｎ　−Ｓｎ系、Ａｕ−Ａｌ系、Ｍｎ　−Ｃｕ　−Ｂ
ｉ系、Ｍｎ　−ｐｔ　−ｓｂ系などの無機材料系、シア
ニン系、ロイコ系、キノン系染料等の有機色素系、スピ
ロピラン系、フルキト系等の有機フォトクロミック系材
料、および有機金属錯体系などが例示される。
■の場合の記録層（２１）としては、銀塩パターン層な
どがあげられる。
■の場合の反射層（２２）としては、通常アルミニウム
などの金属蒸着層があげられる。
■の場合の非反射層（２３）としては、アクリル樹脂、
ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などの接着性を有する光吸
収性樹脂があげられる。
合成樹脂シー）　（１１）の耐有機溶剤性合成樹脂層（
１２）設置側とは反対側の表面には、必要に応じ傷防止
用の表面硬化層を設けることができる。
情報記録層（２）の背後には、ポリ塩化ビニル、ポリエ
ステル、ポリカーボネートなどの基材（３）が設けられ
る。基材（３）は単なる支持板であるので、特別の光学
的性質は要求されない、基材（３）の背後からさらに上
述の保護層（１）を積層することもできる。
情報記録層（２）の背後に設ける基材（３）（または基
材（３）および保護層（１））の厚さは０．２〜０．６
■とすることが好ましい。
このようにして作製される光カード全体の厚さは、通常
は０．８ｍｍ前後とすることが多い、光カードの大きさ
に特に制限はないが、通常は８５．５ｍｍＸ５４、Ｏｍ
ｍ程度とすることが多い。
作　　　用 上に詳述したように、透明で光等方性を有する合成樹脂
シー）　（１１）の表面に耐有機溶剤性合成樹脂層（１
２）を設け、その耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）の上
から情報記録層（２）を設け、さらにその情報記録層（
２）の背後から基材（３）（または基材（３）および保
護層（１））を設けることにより光カードが作製される
。
情報記録Ｍ（２）として適当なものを選択することによ
り、再生専用型、追記型などとする。場合により、消去
可能型、書き換え型などとすることもできる。記録、再
生、消去は、通常レーザービームを用いる。
合成樹脂シート（１１）と耐有機溶剤性合成樹脂層（１
２）との積層体は、情報記録層（２）を物理的に保護す
る保護層（１）としての役割を果たすが、耐有機溶剤性
合成樹脂層（１２）の存在により情報記録層（２）形成
時の合成樹脂シー）　（１１）のレターデージ１ン値の
変化が防止できるだけでなく、情報記録層（２）の酸化
あるは核層（２）への水分の浸透が有効に防止され、該
Ｒ（２）の劣化防止が図られる。
実　　施　　例 次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。
以下「部」とあるのは、重量基準で示したものである。
実施例１ 第１図は、本発明の光記録層保護用積層体の一例を示し
た断面図である。第２図は、その積層体を保護層（１）
として用いて作製した光カードの一例を示した断面図で
ある。
ポリエステルフィルム上に、エチレン含量３２モル％の
エチレン−ビニルアルコール共重合体の水／イソプロピ
ルアルコール（５０：５０）混合溶剤による１５％溶液
を流延した後、８０〜１２０℃で乾燥して、厚さ１５　
ｐ、、ｍの中間層（１３）を形成させた。
次に該中間層（１３）の上から、下記組成からなるフェ
ノキシエーテル系の架橋性樹脂組成物を流延した後乾燥
して、厚さ３８ｐｍの耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）
を形成させた。
ついでポリエステルフィルムから、（１３）／（１２）
の層構成を有する厚さ５３ルｍの積層物を剥離した。
なお、ポリエステルフィルム上にまずエチレン−ビニル
アルコール共重合体よりなる中間層（１３）を形成した
理由は、ポリエステルフィルム上に直接フェノキシエー
テル系の架橋性樹脂組成物を流延、乾燥して耐有機溶剤
性合成樹脂層（１２）を形成すると、核層（１２）がポ
リエステルフィルムから円滑に剥離できなくなるからで
ある。
上述の積層物の中間層（１３）側の面にエステルウレタ
ン系接着剤（ａｄ）を塗布して、別途インジェクション
法により得られた厚さ０．３５層膳、レターデーション
値３０ｎｍのポリカーボネートシートからなる合成樹脂
シー）　（１１）に接着し、（１１）／（ａｄ）／（１
３）／（１２）の層構成を有する厚さ０．４層層の積層
シートからなる保護層（１）を得た。
この保護層（１）の耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）側
の面に下記組成の記録層形成用溶液を塗布乾燥して、厚
さＬｏＩＬｓの記録層（２１）を形成させた。
基材（３）の−例である厚さ３５０　ｇｔａの表面マッ
ト化ポリエステルシートに反射層（２２）としてのアル
ミニウムを蒸着し、そのアルミニウム蒸着面にウレタン
系接着剤（ａｄ）を塗布して、前述の保護層（１）の記
録層（２１）側に積層接着した。
これにより、 保護層（１）／情報記録層（２）／基材（３）、さらに
詳しくは、 （１１）／（ａｄ）／（１３）／（１２）／（２１）／
（２２）／（ａｄ）／（３）よりなる積層構成の厚さ０
．７８層膳の光カードが得られた。
第２図中、記録層（２１）のところの（ｂ）は記録ビッ
トであり、白抜き矢印の方向から光を与えると、ピッ）
　（ｂ）からの反射率は約５％、ビット外（アルミニウ
ム反射層）からの反射率は約８０．％となるので、情報
記録層（２）に書き込んだ情報を読み出すことができる
。
比較例１ インジェクション法により得られた厚さ０．４０部１ｍ
、レターデージ；ン値３０ｎｍのポリカーボネートシー
）　（１１）を保護層（１）として用いたほかは実施例
１と同様にして 保護層（１）／情報記録層（２）／基材（３）からなる
積層構成の光カードを作製した。
しかしながら、ポリカーボネートシー）　（１１）上に
記録層形成用溶液を塗布したときに表面溶解ないしひび
割れを生じて光学透光性が低下し、その結果散乱反射を
生じ、記録、再生時にエラーが発生した。
実施例２ 第３図は、本発明の光記録層保護用積層体の他の一例を
示した断面図である。
ポリパラバン酸樹脂をジメチルホルムアミド／Ｎ−メチ
ルピロリドン（５０１５０）の混合溶剤に２０部濃度と
なるように溶解し、流延製膜して、厚さ２０１Ｌ１１の
フィルム（耐有機溶剤性合成樹脂層（１２））を形成し
た。
この耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）の片面にアクリル
系接着剤（ａｄ）を塗布して、別途インジェクション法
により得られた厚さ０．３５腸脂、レターデーション値
１５ｎｍのＡＢＳ樹脂シートからなる合成樹脂シート（
１１）に接着し、（１１）／（ａｄ）／（１２）の層構
成を有する厚さ０．４＋ａｍの積層シートからなる保護
層（１）を得た。
この保護層（１）を用いて、以下実施例１と同様にして
厚さ０．７９ｍｍの光カードを作製した。ただし基材（
３）としては厚さ０．３８層膳のポリ塩化ビニルシート
を用いた。
実施例３ 合成樹脂シー）　（１１）として、インジェクション法
により得られた厚さ０．３５層膳、レターデーション値
３０ｎｍのポリスチレンシートを用いたほかは実施例２
を繰り返し、厚さ０．７８■膓の光カードを作製した。
実施例４ 第４図は、本発明の光記録層保護用積層体のさらに他の
一例を示した断面図である。第５図は、その積層体を保
護層（１）として用いて作製した光カードの一例を示し
た断面図である。
アクリロニトリル９５部とアクリル酸メチル５部との共
重合体であるアクリロニトリル−アクリル酸メチル共重
合体ｌＯ部をジメチルホルムアミド９０部に溶解した溶
液を、二軸延伸ポリエステルフィルム上に流延製膜して
、厚さ３５ＩＬＩＩのフィルム（耐有機溶剤性合成樹脂
層（１２））を形成した。
この耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）の片面にエステル
ウレタン系接着剤（ａｄ）を塗布して、別途インジェク
ション法により得られた厚さ０．３５■腸、レターデー
ション値３０ｎｍのポリカーボネートシートからなる合
成樹脂シー）　（１１）に接着し、（１１）／（ａｄ）
／（１２）の層構成を有する厚さ０．４ｍｍの積層シー
トからなる保護層（１）を得た。
この保護層（１）の耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）面
に銀塩パターン層からなる厚さ０．１ル腸の記録層（２
１）を設け、ついでその上からウレタン樹脂からなる厚
さ４〜５ＩＬ１１の非反射層（２３）を設け、さらにそ
の上から基材（３）の−例である厚さ０．３４■腸のポ
リ塩化ビニルシートを積層接着した。
これにより、目的とする厚さ０．７８ｓ＋ｓの追記型の
光カードが得られた。
発明の効果 本発明の光記録層保護用積層体は、特定の積層構成を採
用したため、透明性、光学的等方性、機械的強度、硬度
、耐溶剤性、低熱伝導率、耐熱性、耐吸湿性、耐透気性
などの性質を兼備しており、かつコスト的にも十分に実
用化に耐えうるちのである。
従って、本発明の光記録層保護用積層体は、従来のポリ
塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネ
ートなどの単体シートでは兼備することができなかった
諸要求項目を満足することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の光記録層保護用積層体の一例を示し
た断面図である。第２図は、その積層体を保！！（１）
として用いて作製した光カードの一例を示した断面図で
ある。 第３図は、本発明の光記録層保護用積層体の他の一例を
示した断面図である。 第４図は、本発明の光記録層保護用積層体の他の一例を
示した断面図である。第５図は、その積層体を保護層（
１）として用いて作製した光カードの一例を示した断面
図である。 （１）・・・保護層、 （１１）・・・合成樹脂シート、 （１２）・・・耐有機溶剤性合成樹脂層、（１３）・・
・中間層、 （２）・・・情報記録層、 （２１）・・・記録層。 （２２）・・・反射層、 （２３）・・・非反射層、 （ｂ）・・・ビット、 （３）・・・基材、 （ａｄ）・・・接着剤、 第１図 第２図 第３図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、透明で光等方性を有する合成樹脂シート（１１）の
    情報記録層設置面側の表面に耐有機溶剤性合成樹脂層（
    １２）を設けてなる光記録層保護用積層体。 ２、耐有機溶剤性合成樹脂層（１２）が、フェノキシエ
    ーテル型架橋性樹脂、ポリパラバン酸樹脂またはポリア
    クリロニトリル系樹脂の層である特許請求の範囲第１項
    記載の積層体。
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