JPH0229952A - 情報記録媒体用基板及びその製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用基板及びその製造方法Info
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- JPH0229952A JPH0229952A JP1111001A JP11100189A JPH0229952A JP H0229952 A JPH0229952 A JP H0229952A JP 1111001 A JP1111001 A JP 1111001A JP 11100189 A JP11100189 A JP 11100189A JP H0229952 A JPH0229952 A JP H0229952A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学的に情報の記録、再生を行う情報記録媒体
用基板及びその製造方法に関するものである。
用基板及びその製造方法に関するものである。
従来、光カードの信号の読み出しにおいては、記録部と
未記録部からのレーザー光の反射光の位相差によって信
号を検出する方法、および記録部と未記録部からのレー
ザー光の反射光量の差によって信号を検出する方法があ
る。しかし、いずれの場合においても、入射レーザー光
は基板の保護層及び基板を通り記録媒体面に達し、再び
基板及び基板の保護層を通り読み込み装置に到達するも
のである。
未記録部からのレーザー光の反射光の位相差によって信
号を検出する方法、および記録部と未記録部からのレー
ザー光の反射光量の差によって信号を検出する方法があ
る。しかし、いずれの場合においても、入射レーザー光
は基板の保護層及び基板を通り記録媒体面に達し、再び
基板及び基板の保護層を通り読み込み装置に到達するも
のである。
従って、信号を正確に読み出す為には、光路中にゴミ、
キズ及び光学的ひずみ等がないことが重要な条件とされ
ている。特に、携帯して使用される光カードの基板表面
にはキズが付く機会が多(、キズの防止の為に例えばU
SP4,673.626号公報の第5図及びその対応す
る部分には基板35上に硬化樹脂層36を形成して表面
硬度を向上させた光カードが開示されている。
キズ及び光学的ひずみ等がないことが重要な条件とされ
ている。特に、携帯して使用される光カードの基板表面
にはキズが付く機会が多(、キズの防止の為に例えばU
SP4,673.626号公報の第5図及びその対応す
る部分には基板35上に硬化樹脂層36を形成して表面
硬度を向上させた光カードが開示されている。
このような、ハードコート層を設けるにはハードコート
材を酢酸エチル、トルエン、セロソルブ。
材を酢酸エチル、トルエン、セロソルブ。
アセテート等の溶剤に溶解し、その溶液をスピンナー法
、ロールコータ−法、ディッピング法。
、ロールコータ−法、ディッピング法。
スプレー法等で基板表面に塗布する方法が知られている
。
。
しかしながら、上記従来例では、透明基板上にハードコ
ート層を設ける際に、ハードコート材の塗布時に、基板
表面がハードコートを溶解するために使用する溶剤(以
下、ハードコート溶剤と記す)によって一部溶解もしく
はマイクロクラック等を生じるため、基板面の荒れが生
じ、反射率の低下を起こし、トラッキングサーボ信号レ
ベルの低下をまねいたり、また、記録・再生時の信号に
ノイズが生じたり、あるいは記録・再生が不可能となる
等の欠点があった。
ート層を設ける際に、ハードコート材の塗布時に、基板
表面がハードコートを溶解するために使用する溶剤(以
下、ハードコート溶剤と記す)によって一部溶解もしく
はマイクロクラック等を生じるため、基板面の荒れが生
じ、反射率の低下を起こし、トラッキングサーボ信号レ
ベルの低下をまねいたり、また、記録・再生時の信号に
ノイズが生じたり、あるいは記録・再生が不可能となる
等の欠点があった。
また、特開昭61−92450号公報には注型成形で光
学的記録媒体用基板を作成する際に注型成形用型の鏡面
型の表面に予め紫外線硬化樹脂の硬化塗膜を形成した後
にエポキシ樹脂を注型成形し硬化させた樹脂の表面に前
記の硬化塗膜を転写させた光学的記録媒体用基板が開示
されている。
学的記録媒体用基板を作成する際に注型成形用型の鏡面
型の表面に予め紫外線硬化樹脂の硬化塗膜を形成した後
にエポキシ樹脂を注型成形し硬化させた樹脂の表面に前
記の硬化塗膜を転写させた光学的記録媒体用基板が開示
されている。
しかし、この方法では予め注型成形装置の鏡面型に成形
のたびに転写被覆樹脂層を形成する必要があり大量生産
に適さない。
のたびに転写被覆樹脂層を形成する必要があり大量生産
に適さない。
また、ここで用いられている樹脂は耐熱性という観点か
ら高いガラス転移温度を有するため記録感度が大幅に低
下するという問題点があった。
ら高いガラス転移温度を有するため記録感度が大幅に低
下するという問題点があった。
即ち、情報の記録は記録層がレーザー光を吸収し、蒸発
や溶融により変形することにより行なわれるが記録層に
接する基板のガラス転移温度が高いと記録層における変
形が抑制されるため記録感度が低下してしまう。
や溶融により変形することにより行なわれるが記録層に
接する基板のガラス転移温度が高いと記録層における変
形が抑制されるため記録感度が低下してしまう。
〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明は、この
様な従来技術の欠点を解決するためになされたものであ
り情報記録媒体用基板の記録再生光入射面に傷が付きに
り<、且つ記録感度の低下が起こらない情報記録媒体用
基板を提供することを目的とするものである。
様な従来技術の欠点を解決するためになされたものであ
り情報記録媒体用基板の記録再生光入射面に傷が付きに
り<、且つ記録感度の低下が起こらない情報記録媒体用
基板を提供することを目的とするものである。
また、本発明の他の目的はハードコート溶剤の選択の幅
が広くなり最適なハードコート層を塗布によって設ける
ことができる情報記録媒体用基板を提供することである
。
が広くなり最適なハードコート層を塗布によって設ける
ことができる情報記録媒体用基板を提供することである
。
また本発明の更に他の目的は情報記録媒体用基板の記録
・再生光入射面に傷が付きにクク、ハードコート溶剤の
選択の巾が広(なり最適なハードコート層を塗布によっ
て設けることができ、また記録感度を低下させない情報
記録媒体用基板の製造方法を提供することである。
・再生光入射面に傷が付きにクク、ハードコート溶剤の
選択の巾が広(なり最適なハードコート層を塗布によっ
て設けることができ、また記録感度を低下させない情報
記録媒体用基板の製造方法を提供することである。
即ち本発明の情報記録媒体用基板は表側に凹凸プリフォ
ーマットを有する情報記録媒体用基板であって該基板の
裏側の鏡面が表側の凹凸プリフォーマット形成面よりも
架橋の度合が高い樹脂で形成されていることを特徴とす
るものである。
ーマットを有する情報記録媒体用基板であって該基板の
裏側の鏡面が表側の凹凸プリフォーマット形成面よりも
架橋の度合が高い樹脂で形成されていることを特徴とす
るものである。
また、表側に凹凸プリフォーマットを有する情報記録媒
体用基板の製造方法に於て該基板の裏側の記録・再生光
入射面を表側の凹凸プリフォーマット形成面より架橋の
度合を高く形成することを特徴とするものである。
体用基板の製造方法に於て該基板の裏側の記録・再生光
入射面を表側の凹凸プリフォーマット形成面より架橋の
度合を高く形成することを特徴とするものである。
本発明の情報記録媒体用基板は凹凸プリフオ−マットの
形成されていない記録再生光の入射面となる基板裏側の
架橋の度合が高く凹凸プリフォーマットの形成された側
の架橋の度合が裏側に比べて低く形成されているため裏
面は化学的安定に優れ且つ硬度も高くなるためハードコ
ート層の塗布形成の際に用いる溶剤に対して塗布面の荒
れやクラック等の発生を防止でき、またハードコートの
効果が一層向上する。
形成されていない記録再生光の入射面となる基板裏側の
架橋の度合が高く凹凸プリフォーマットの形成された側
の架橋の度合が裏側に比べて低く形成されているため裏
面は化学的安定に優れ且つ硬度も高くなるためハードコ
ート層の塗布形成の際に用いる溶剤に対して塗布面の荒
れやクラック等の発生を防止でき、またハードコートの
効果が一層向上する。
また、記録層と接する凹凸プリフォーマットの形成され
ている面は架橋の度合が低いため、比較的硬度が低く又
ガラス転移温度も低くなり記録時の記録層のピット変形
の際に基板面が変形を抑制しないため記録感度を低下さ
せることがない。
ている面は架橋の度合が低いため、比較的硬度が低く又
ガラス転移温度も低くなり記録時の記録層のピット変形
の際に基板面が変形を抑制しないため記録感度を低下さ
せることがない。
以下図面に基づき本発明を説明する。
第1図は本発明の情報記録媒体用基板を使用した光学的
情報記録担体の一実施態様を表わす断面図である。同第
1図において、本発明の情報記録媒体用基板は、表側に
凹凸プリフォーマットパターンの溝面6を有する透明な
樹脂基板1の裏側の鏡面7が表側の溝面6よりも架橋の
度合が高い樹脂で形成されてなるものである。樹脂基板
lはプリフォーマット形成の面6から鏡面7にかけて架
橋の度合が徐々に高くなっている。
情報記録担体の一実施態様を表わす断面図である。同第
1図において、本発明の情報記録媒体用基板は、表側に
凹凸プリフォーマットパターンの溝面6を有する透明な
樹脂基板1の裏側の鏡面7が表側の溝面6よりも架橋の
度合が高い樹脂で形成されてなるものである。樹脂基板
lはプリフォーマット形成の面6から鏡面7にかけて架
橋の度合が徐々に高くなっている。
光学的情報記録担体は、前記情報記録媒体用基板の溝面
6上には、染料等の記録材料により形成された光記録層
2を設け、該記録層2と保護または記録担体の支持用の
保護基板4とを接着剤層3を介して接着し、他方情報記
録媒体用基板の裏側の鏡面7上にはハードコート層5を
設けてなるものである。
6上には、染料等の記録材料により形成された光記録層
2を設け、該記録層2と保護または記録担体の支持用の
保護基板4とを接着剤層3を介して接着し、他方情報記
録媒体用基板の裏側の鏡面7上にはハードコート層5を
設けてなるものである。
本発明において透明な樹脂基板を形成するために用いら
れる樹脂としては一般に光記録媒体用基板として用いら
れる透明な熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂もしくは熱可塑
性樹脂が用いられ、例えば、熱硬化性樹脂ではフェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル系樹脂等、熱可塑
性樹脂では、ビニル樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂
、ポリカーボネート樹脂、酢酸樹脂、ポリエステル系樹
脂等が挙げられる。
れる樹脂としては一般に光記録媒体用基板として用いら
れる透明な熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂もしくは熱可塑
性樹脂が用いられ、例えば、熱硬化性樹脂ではフェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル系樹脂等、熱可塑
性樹脂では、ビニル樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂
、ポリカーボネート樹脂、酢酸樹脂、ポリエステル系樹
脂等が挙げられる。
そしてこの樹脂基板は裏面即ち記録・再生光の入射面は
凹凸プリフォーマットの形成されている表面よりも架橋
の度合が低い。
凹凸プリフォーマットの形成されている表面よりも架橋
の度合が低い。
本発明において基板は架橋の度合の異なる部材を積層し
てもよく、また単一の層としてその表側と裏側で架橋の
度合を徐々に変化させてもよい。
てもよく、また単一の層としてその表側と裏側で架橋の
度合を徐々に変化させてもよい。
又何れの場合も樹脂のモノマー成分を基板の裏側と表側
で変えた場合基板内で光学的異方性が生じ記録・再生に
悪影響を及ぼすおそれがあるため、基板の表側と裏側で
樹脂の繰り返し単位が実質的に同一のものを用いるのが
好ましい。
で変えた場合基板内で光学的異方性が生じ記録・再生に
悪影響を及ぼすおそれがあるため、基板の表側と裏側で
樹脂の繰り返し単位が実質的に同一のものを用いるのが
好ましい。
次に本発明の情報記録媒体用基板の製造方法について説
明する。
明する。
第2図は本発明の情報記録媒体用基板の製造方法の一実
施態様に用いる注型成形装置の説明図である。同第2図
において、鏡面型9上に架橋剤層10を設は次いで注型
成形装置8にこれを設置し、液状透明樹脂を通常の注型
法により、注入し固化せしめた後脱型することにより本
発明の情報記録媒体用基板を得ることができる。このよ
うにして、基板は成形時に鏡面の部分がプリフォーマッ
ト面の部分より架橋の度合が高くなるように成形される
。
施態様に用いる注型成形装置の説明図である。同第2図
において、鏡面型9上に架橋剤層10を設は次いで注型
成形装置8にこれを設置し、液状透明樹脂を通常の注型
法により、注入し固化せしめた後脱型することにより本
発明の情報記録媒体用基板を得ることができる。このよ
うにして、基板は成形時に鏡面の部分がプリフォーマッ
ト面の部分より架橋の度合が高くなるように成形される
。
架橋剤層に用いられる架橋剤としては、例えばエポキシ
樹脂の場合にアミン類、多価カルボン酸またはその無水
物、さらにフェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂などが用いられる。
樹脂の場合にアミン類、多価カルボン酸またはその無水
物、さらにフェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂などが用いられる。
また、この他注型成形装置に注入する樹脂に含まれる架
橋剤の割合を徐々に減少させていくことにより本発明の
光記録媒体用基板を作成することもでき更に予め架橋の
度合の異なる薄い樹脂シートを積層し圧着や融着等で一
体化することにより基板を作成することも可能である。
橋剤の割合を徐々に減少させていくことにより本発明の
光記録媒体用基板を作成することもでき更に予め架橋の
度合の異なる薄い樹脂シートを積層し圧着や融着等で一
体化することにより基板を作成することも可能である。
又本発明による情報記録媒体用基板の架橋の度合が高い
面にハードコートを設けるとき、その基板面が既にある
程度の固さを有するためハードコートの効果は一層太き
(なる。
面にハードコートを設けるとき、その基板面が既にある
程度の固さを有するためハードコートの効果は一層太き
(なる。
ハードコート層を形成するハードコート材としては多官
能アクリル系樹脂、シリカ系樹脂、ウレタン系樹脂、メ
ラミン系樹脂等が用いられる。
能アクリル系樹脂、シリカ系樹脂、ウレタン系樹脂、メ
ラミン系樹脂等が用いられる。
また1、ハードコート溶剤としては酢酸エチル、トルエ
ン、セロソルブ、アセテート等が特に制限なく用いるこ
とができハードコート層を形成するには、前記ハードコ
ート材をハードコート溶剤に溶解し、その溶液をスピン
ナー法、ロールコータ−法、ディッピング法、スプレー
法等で樹脂基板の表面に塗布する方法で行なうことがで
きる。
ン、セロソルブ、アセテート等が特に制限なく用いるこ
とができハードコート層を形成するには、前記ハードコ
ート材をハードコート溶剤に溶解し、その溶液をスピン
ナー法、ロールコータ−法、ディッピング法、スプレー
法等で樹脂基板の表面に塗布する方法で行なうことがで
きる。
また本発明において基板の裏側に形成される凹凸プリフ
ォーマットとしては例えばレーザービームのガイドとな
るトラッキンググループやスタートピットやアドレスピ
ット等の位置情報となる情報ピット等が挙げられ、具体
的には例えば巾0.5 p m〜2 μmピッチ1.O
p m〜5 μmのスパイラル或は同心円状の光デイス
ク用トラック溝や巾2μm〜5μmピッチ8μm〜15
μmの平行な光カード用トラック溝や縦10μm以下横
10μm以下の長方形や長径10μm以下の長円形の情
報ピット等である。
ォーマットとしては例えばレーザービームのガイドとな
るトラッキンググループやスタートピットやアドレスピ
ット等の位置情報となる情報ピット等が挙げられ、具体
的には例えば巾0.5 p m〜2 μmピッチ1.O
p m〜5 μmのスパイラル或は同心円状の光デイス
ク用トラック溝や巾2μm〜5μmピッチ8μm〜15
μmの平行な光カード用トラック溝や縦10μm以下横
10μm以下の長方形や長径10μm以下の長円形の情
報ピット等である。
また本発明に於て基板表側のロックウェル硬度はM92
〜M98、特にM95付近が好ましく、また基板の表側
と裏側の硬度の差は少なくとも3以上好ましくは5以上
に形成される。
〜M98、特にM95付近が好ましく、また基板の表側
と裏側の硬度の差は少なくとも3以上好ましくは5以上
に形成される。
以下、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明する。但
し本発明はこの実施例の範囲に限定されるものではない
。
し本発明はこの実施例の範囲に限定されるものではない
。
実施例1
第2図に示す注型成形装置の鏡面型上に、架橋剤として
2−エチル−4−メチルイミダゾールを厚さ500−1
000人に塗布し、この鏡面型を用いて周辺に厚さ0.
4mmのスペーサーを設けて注型成形装置を組み立てた
。これに、液状樹脂として、以下の配合組成の未硬化の
液状エポキシ樹脂を注入し、ioo℃、10時間硬化さ
せた。
2−エチル−4−メチルイミダゾールを厚さ500−1
000人に塗布し、この鏡面型を用いて周辺に厚さ0.
4mmのスペーサーを設けて注型成形装置を組み立てた
。これに、液状樹脂として、以下の配合組成の未硬化の
液状エポキシ樹脂を注入し、ioo℃、10時間硬化さ
せた。
(配合組成)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂 10
0重量部メチルへキサヒドロフタール酸無水物
88重量部2−エチル−4−メチルイミダゾール
0.3重量部2.6−ジ−ターシャリ−ブチ
ル−p−クレゾール 1.0重量部次いで、型から脱型
して厚さ0.4mm大きさ85 m mX54mmで表
側にプリフォーマットとしてトラック溝(幅3μm1ピ
ッチ12μm)を有し、裏側は鏡面の光カード用基板を
得た。
0重量部メチルへキサヒドロフタール酸無水物
88重量部2−エチル−4−メチルイミダゾール
0.3重量部2.6−ジ−ターシャリ−ブチ
ル−p−クレゾール 1.0重量部次いで、型から脱型
して厚さ0.4mm大きさ85 m mX54mmで表
側にプリフォーマットとしてトラック溝(幅3μm1ピ
ッチ12μm)を有し、裏側は鏡面の光カード用基板を
得た。
このようにして得た基板のプリフォーマット形成面及び
鏡面側の硬度測定し、その結果を表−1に示す。
鏡面側の硬度測定し、その結果を表−1に示す。
また、上記方法で製造した基板について基板の鏡面側の
酢酸エチル、トルエン、セロソルブ、アセテートの各溶
剤に12時間浸漬したときの鏡面の変化について目視及
び光学顕微鏡(X200)で観察した。その結果を表−
1に示す。
酢酸エチル、トルエン、セロソルブ、アセテートの各溶
剤に12時間浸漬したときの鏡面の変化について目視及
び光学顕微鏡(X200)で観察した。その結果を表−
1に示す。
該基板の鏡面にハードコート材としてウレタンアクリレ
ートをセロソルブアセテート溶剤に溶解した50重量%
の溶液をディッピング法にて塗布した。その結果、基板
にハードコート溶剤による溶解浸食はみられなかった。
ートをセロソルブアセテート溶剤に溶解した50重量%
の溶液をディッピング法にて塗布した。その結果、基板
にハードコート溶剤による溶解浸食はみられなかった。
次いでこの基板のプリフォーマット面上に1.1゜5.
5−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−2,
4−ペンタジェニル−バークロレートの2%ジアセトン
アルコール溶液を塗布し厚さ1000人の記録層を形成
した後、ホットメルト接着剤を介して厚さ0 、3 m
mの保護基板を接着して光カードを作成した。この光
カードについて記録感度を測定した。
5−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−2,
4−ペンタジェニル−バークロレートの2%ジアセトン
アルコール溶液を塗布し厚さ1000人の記録層を形成
した後、ホットメルト接着剤を介して厚さ0 、3 m
mの保護基板を接着して光カードを作成した。この光
カードについて記録感度を測定した。
比較例1
注型成形装置の鏡面型上に架橋剤を塗布しなかった以外
は実施例1と同様にして光カード用基板を作成した。
は実施例1と同様にして光カード用基板を作成した。
このようにして得た基板の特性及び耐溶剤性は表−1に
示す。
示す。
次いで実施例1と同様にこの基板を用いて光カードを作
成し、その記録感度を測定した。
成し、その記録感度を測定した。
比較例2
図2に示す注型成形装置に下記組成の液状アクリル樹脂
を注入し、硬化させて厚さ0 、4 m m %大きさ
85 m m X 54 m mで中3μmピッチ12
μmのトラッキンググループを有する光カード用基板を
作成した。このようにして得た基板の特性及び耐溶剤性
を表−1に示す。次いでこの基板を用いて実施例1と同
様にして光カードを作成し、その記録感度を測定した。
を注入し、硬化させて厚さ0 、4 m m %大きさ
85 m m X 54 m mで中3μmピッチ12
μmのトラッキンググループを有する光カード用基板を
作成した。このようにして得た基板の特性及び耐溶剤性
を表−1に示す。次いでこの基板を用いて実施例1と同
様にして光カードを作成し、その記録感度を測定した。
(組成)
メタクリル酸メチル 70wt%メタク
リル酸t−ブチル 20wt%ポリエチレン
グリコールジメタクリレート 10wt%(
分子量620) 実施例2 図2に示す注型成形装置に下記組成(I)の液状アクリ
ル樹脂を注入し厚さ0.2 m mのアクリル樹脂基板
を成形した。
リル酸t−ブチル 20wt%ポリエチレン
グリコールジメタクリレート 10wt%(
分子量620) 実施例2 図2に示す注型成形装置に下記組成(I)の液状アクリ
ル樹脂を注入し厚さ0.2 m mのアクリル樹脂基板
を成形した。
組成(I)
この上に更に下記組成(II)の液状アクリル樹脂を注
入し120℃で10時間硬化させた。
入し120℃で10時間硬化させた。
組成(11)
次いで型から脱型し、厚さ0 、4 m m大きさ84
m mX54mmの光カード用基板を得た。この基板
の硬度及び耐溶剤性を表−1に示す。
m mX54mmの光カード用基板を得た。この基板
の硬度及び耐溶剤性を表−1に示す。
次いでこの基板を用いて実施例1と同様にして光カード
を作成した。この光カードについて記録感度を測定した
。
を作成した。この光カードについて記録感度を測定した
。
実施例3
配合組成を以下の(I)、(n)及び(III)とした
厚さ0.4 m mの直径120 m mのdisc状
樹脂基板を計3枚注型成形法で作成した。但し、組成(
I)及び(n)の基板は両面共に鏡面とし組成(III
)の基板は片面に巾0.6μm1ピッチ1.6μmのス
パイラル状のトラック溝を形成した。
厚さ0.4 m mの直径120 m mのdisc状
樹脂基板を計3枚注型成形法で作成した。但し、組成(
I)及び(n)の基板は両面共に鏡面とし組成(III
)の基板は片面に巾0.6μm1ピッチ1.6μmのス
パイラル状のトラック溝を形成した。
この3枚の樹脂基板を各々(I)、(IF )、(m)
の順にプリフォーマット面は外側となるようにして積層
して温度140℃圧力2.5Kg/c%加圧時間5分で
熱プレスして圧着して光デイスク用基板を作成した。
の順にプリフォーマット面は外側となるようにして積層
して温度140℃圧力2.5Kg/c%加圧時間5分で
熱プレスして圧着して光デイスク用基板を作成した。
組成(m)
メタクリル酸メチル 70wt%メタクリ
ル酸t−ブチル 25wt%ポリエチレングリ
コールジメタクリレート 5wt%組成(n) メタクリル酸メチル 70wt%メタクリ
ル酸t−ブチル 20wt%ポリエチレングリ
コールジメタクリレー) 10wt%組成(I
) メタクリル酸メチル 65wt%メタクリ
ル酸t−ブチル 22wt%ポリエチレングリ
コールジメタクリレート 13wt%なお記録感
度の測定は次のようにして行なった。
ル酸t−ブチル 25wt%ポリエチレングリ
コールジメタクリレート 5wt%組成(n) メタクリル酸メチル 70wt%メタクリ
ル酸t−ブチル 20wt%ポリエチレングリ
コールジメタクリレー) 10wt%組成(I
) メタクリル酸メチル 65wt%メタクリ
ル酸t−ブチル 22wt%ポリエチレングリ
コールジメタクリレート 13wt%なお記録感
度の測定は次のようにして行なった。
即ち光カードをwrite 5peedで往復させ2
0〜200μsecのパルス幅のsweep sig
nalsを記録した後、read 5peedで光カ
ードを往復させて得られた再生信号から飽和コントラス
トを求めこの飽和コントラストの90%のレベルを示す
記録パルス幅の値から記録感度を算出した。
0〜200μsecのパルス幅のsweep sig
nalsを記録した後、read 5peedで光カ
ードを往復させて得られた再生信号から飽和コントラス
トを求めこの飽和コントラストの90%のレベルを示す
記録パルス幅の値から記録感度を算出した。
又、各々の基板の架橋の度合は、同じモノマーからなる
樹脂の場合硬度と比例することが知られているため、本
実施例においては基板の表側及び裏側のロックウェル硬
度で示した。但し、この硬度の測定はASTM D7
85に規定された方法で行った。
樹脂の場合硬度と比例することが知られているため、本
実施例においては基板の表側及び裏側のロックウェル硬
度で示した。但し、この硬度の測定はASTM D7
85に規定された方法で行った。
以上説明したように本発明によれば、凹凸プリフォーマ
ットが形成されている表側よりも裏側がその架橋の度合
いが高く形成されているため耐溶剤性が高く、且つ記録
感度の低下しない情報記録媒体用基板を得ることができ
る。
ットが形成されている表側よりも裏側がその架橋の度合
いが高く形成されているため耐溶剤性が高く、且つ記録
感度の低下しない情報記録媒体用基板を得ることができ
る。
基板の記録層と接する面は従来の基板と同様に記録層の
レーザー吸収による変形に伴なって変形するため記録・
再生特性は安定する。
レーザー吸収による変形に伴なって変形するため記録・
再生特性は安定する。
また、本発明の情報記録媒体用基板はハードコート溶剤
に溶解侵食されにくいので、ハードコート材の選択の範
囲が広がり、より耐擦傷性の高いハードコート層を設け
ることが可能となる。更にハードコート層が塗布形成で
きるため生産性も一層向上する。
に溶解侵食されにくいので、ハードコート材の選択の範
囲が広がり、より耐擦傷性の高いハードコート層を設け
ることが可能となる。更にハードコート層が塗布形成で
きるため生産性も一層向上する。
第1図は本発明の情報記録媒体用基板を用いた情報記録
媒体の一実施態様を示す模式的断面図である。 第2図は本発明に係る情報記録媒体用基板の製造装置の
一実施態様を示す模式的断面図である。 1・・・情報記録媒体用基板 2・・・光記録層 3・・・接着剤層 4・・・保護基板 5・・・ ハードコート層 6・・・プリフォーマット形成面 7・・・鏡面 8・・・注型成形装置 9・・・鏡面型 IO・・・架橋剤層
媒体の一実施態様を示す模式的断面図である。 第2図は本発明に係る情報記録媒体用基板の製造装置の
一実施態様を示す模式的断面図である。 1・・・情報記録媒体用基板 2・・・光記録層 3・・・接着剤層 4・・・保護基板 5・・・ ハードコート層 6・・・プリフォーマット形成面 7・・・鏡面 8・・・注型成形装置 9・・・鏡面型 IO・・・架橋剤層
Claims (10)
- (1)表側に凹凸のプリフオーマツトを有する情報記録
媒体用基板であって該基板の裏側の鏡面が表側の凹凸プ
リフオーマツト形成面よりも架橋の度合が高い樹脂で形
成されていることを特徴とする情報記録媒体用基板。 - (2)該樹脂を構成する繰返し単位が基板の表側と裏側
で実質的に同一である請求項1の情報記録媒体用基板。 - (3)該基板が単一の層からなる請求項1の情報記録媒
体用基板。 - (4)該基板の表側から裏側に向って架橋の度合が徐々
に高くなっている請求項2の情報記録媒体用基板。 - (5)該凹凸プリフオーマツトが注型成形法によって転
写される請求項1の情報記録媒体用基板。 - (6)表側に凹凸プリフオーマツトを有する情報記録媒
体用基板の製造方法に於いて、該基板の裏側の鏡面を、
表側の凹凸プリフオーマツト形成面より架橋の度合が高
くなるように形成することを特徴とする情報記録媒体用
基板の製造方法。 - (7)該樹脂を構成する繰返し単位が基板の表側と裏側
で実質的に同一である請求項6の情報記録媒体用基板の
製造方法。 - (8)該基板が単一の層からなる請求項6の情報記録媒
体用基板の製造方法。 - (9)該基板を注型成形で作成する請求項6の情報記録
媒体用基板の製造方法。 - (10)該基板の表側から裏側に向って架橋の度合が徐
々に高くなっている請求項6の情報記録媒体用基板の製
造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10380188 | 1988-04-28 | ||
JP63-103801 | 1988-04-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0229952A true JPH0229952A (ja) | 1990-01-31 |
JPH07105067B2 JPH07105067B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=14363500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1111001A Expired - Fee Related JPH07105067B2 (ja) | 1988-04-28 | 1989-04-27 | 情報記録媒体用基板及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4975310A (ja) |
JP (1) | JPH07105067B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007328873A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Toshiba Corp | 追記型多層光ディスク、記録方法、再生方法、および記録装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2859715B2 (ja) * | 1989-08-10 | 1999-02-24 | キヤノン株式会社 | 記録媒体用基板及びその製造方法、記録媒体、記録方法、記録再生方法、記録装置、記録再生装置 |
JPH04205936A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Hitachi Ltd | 転写用成形媒体およびその製造方法 |
JPH06111371A (ja) * | 1992-10-01 | 1994-04-22 | Pioneer Electron Corp | 光記録媒体 |
US6146741A (en) * | 1997-03-14 | 2000-11-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Information recording medium and production process thereof |
FR2813555B1 (fr) * | 2000-09-04 | 2003-04-04 | Rexam Beaute Metallisation | Procede pour donner un aspect metallise semi-transparent a des pieces de boitier ou d'emballage cosmetique et pieces ainsi obtenues |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8002039A (nl) * | 1980-04-08 | 1981-11-02 | Philips Nv | Optisch uitleesbare informatieschijf. |
JPS6192450A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学的記録媒体用基板および基板成形方法 |
-
1989
- 1989-04-27 JP JP1111001A patent/JPH07105067B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-28 US US07/344,758 patent/US4975310A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007328873A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Toshiba Corp | 追記型多層光ディスク、記録方法、再生方法、および記録装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07105067B2 (ja) | 1995-11-13 |
US4975310A (en) | 1990-12-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |