JPH07105067B2 - 情報記録媒体用基板及びその製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用基板及びその製造方法Info
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- JPH07105067B2 JPH07105067B2 JP1111001A JP11100189A JPH07105067B2 JP H07105067 B2 JPH07105067 B2 JP H07105067B2 JP 1111001 A JP1111001 A JP 1111001A JP 11100189 A JP11100189 A JP 11100189A JP H07105067 B2 JPH07105067 B2 JP H07105067B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学的に情報の記録、再生を行う情報記録媒体
用基板及びその製造方法に関するものである。
用基板及びその製造方法に関するものである。
従来、光カードの信号の読み出しにおいては、記録部と
未記録部からのレーザー光の反射光の位相差によって信
号を検出する方法、および記録部と未記録部からのレー
ザー光の反射光量の差によって信号を検出する方法があ
る。しかし、いずれの場合においても、入射レーザー光
は基板の保護層及び基板を通り記録媒体面に達し、再び
基板及び基板の保護層を通り読み込み装置に到達するも
のである。
未記録部からのレーザー光の反射光の位相差によって信
号を検出する方法、および記録部と未記録部からのレー
ザー光の反射光量の差によって信号を検出する方法があ
る。しかし、いずれの場合においても、入射レーザー光
は基板の保護層及び基板を通り記録媒体面に達し、再び
基板及び基板の保護層を通り読み込み装置に到達するも
のである。
従って、信号を正確に読み出す為には、光路中にゴミ、
キズ及び光学的ひずみ等がないことが重要な条件とされ
ている。特に、携帯して使用される光カードの基板表面
にはキズが付く機会が多く、キズの防止の為に例えばUS
P4,673,626号公報の第５図及びその対応する部分には基
板35上に硬化樹脂層36を形成して表面硬度を向上させた
光カードが開示されている。
キズ及び光学的ひずみ等がないことが重要な条件とされ
ている。特に、携帯して使用される光カードの基板表面
にはキズが付く機会が多く、キズの防止の為に例えばUS
P4,673,626号公報の第５図及びその対応する部分には基
板35上に硬化樹脂層36を形成して表面硬度を向上させた
光カードが開示されている。
このような、ハードコート層を設けるにはハードコート
材を酢酸エチル，トルエン，セロソルブ，アセテート等
の溶剤に溶解し、その溶液をスピンナー法，ロールコー
ター法，デイツピング法，スプレー法等で基板表面に塗
布する方法が知られている。
材を酢酸エチル，トルエン，セロソルブ，アセテート等
の溶剤に溶解し、その溶液をスピンナー法，ロールコー
ター法，デイツピング法，スプレー法等で基板表面に塗
布する方法が知られている。
しかしながら、上記従来例では、透明基板上にハードコ
ート層を設ける際に、ハードコート材の塗布時に、基板
表面がハードコートを溶解するために使用する溶剤（以
下、ハードコート溶剤と記す）によって一部溶解もしく
はマイクロクラツク等を生じるため、基板面の荒れが生
じ、反射率の低下を起こし、トラツキングサーボ信号レ
ベルの低下をまねいたり、また、記録・再生時の信号に
ノイズが生じたり、あるいは記録・再生が不可能となる
等の欠点があった。
ート層を設ける際に、ハードコート材の塗布時に、基板
表面がハードコートを溶解するために使用する溶剤（以
下、ハードコート溶剤と記す）によって一部溶解もしく
はマイクロクラツク等を生じるため、基板面の荒れが生
じ、反射率の低下を起こし、トラツキングサーボ信号レ
ベルの低下をまねいたり、また、記録・再生時の信号に
ノイズが生じたり、あるいは記録・再生が不可能となる
等の欠点があった。
また、特開昭61−92450号公報には注型成形で光学的記
録媒体用基板を作成する際に注型成形用型の鏡面型の表
面に予め紫外線硬化樹脂の硬化塗膜を形成した後にエポ
キシ樹脂を注型成形し硬化させた樹脂の表面に前記の硬
化塗膜を転写させた光学的記録媒体用基板が開示されて
いる。しかし、この方法では予め注型成形装置の鏡面型
に成形のたびに転写被覆樹脂層を形成する必要があり大
量生産に適さない。
録媒体用基板を作成する際に注型成形用型の鏡面型の表
面に予め紫外線硬化樹脂の硬化塗膜を形成した後にエポ
キシ樹脂を注型成形し硬化させた樹脂の表面に前記の硬
化塗膜を転写させた光学的記録媒体用基板が開示されて
いる。しかし、この方法では予め注型成形装置の鏡面型
に成形のたびに転写被覆樹脂層を形成する必要があり大
量生産に適さない。
また、ここで用いられている樹脂は耐熱性という観点か
ら高いガラス転移温度を有するため記録感度が大幅に低
下するという問題点があった。
ら高いガラス転移温度を有するため記録感度が大幅に低
下するという問題点があった。
即ち、情報の記録は記録層がレーザー光を吸収し、発熱
や溶融により変形することにより行なわれるが記録層に
接する基板のガラス転移温度が高いと記録層における変
形が抑制されるため記録感度が低下してしまう。
や溶融により変形することにより行なわれるが記録層に
接する基板のガラス転移温度が高いと記録層における変
形が抑制されるため記録感度が低下してしまう。
本発明は、この様な従来技術の欠点を解決するためにな
されたものであり情報記録媒体用基板の記録再生光入射
面に傷が付きにくく、且つ記録感度の低下が起こらない
情報記憶媒体用基板を提供することを目的とするもので
ある。
されたものであり情報記録媒体用基板の記録再生光入射
面に傷が付きにくく、且つ記録感度の低下が起こらない
情報記憶媒体用基板を提供することを目的とするもので
ある。
また、本発明の他の目的はハードコート溶剤の選択の幅
が広くなり最適なハードコート層を塗布によって設ける
ことができる情報記録媒体用基板を提供することであ
る。
が広くなり最適なハードコート層を塗布によって設ける
ことができる情報記録媒体用基板を提供することであ
る。
また本発明の更に他の目的は情報記録媒体用基板の記録
・再生光入射面に傷が付きにくく、ハードコート溶剤の
選択の巾が広くなり最適なハードコート層を塗布によっ
て設けることができ、また記録感度を低下させない情報
記録媒体用基板の製造方法を提供することである。
・再生光入射面に傷が付きにくく、ハードコート溶剤の
選択の巾が広くなり最適なハードコート層を塗布によっ
て設けることができ、また記録感度を低下させない情報
記録媒体用基板の製造方法を提供することである。
即ち本発明の情報記録媒体用基板は表側に凹凸のプリフ
ォーマットを有する情報記録媒体用基板であって、該基
板の裏側の鏡面のロックウエル硬度が表側より３以上高
くなるように、基板の裏側の鏡面が表側の凹凸プリフォ
ーマット形成面よりも架橋の度合が高い樹脂で形成され
ていることを特徴とするものである。
ォーマットを有する情報記録媒体用基板であって、該基
板の裏側の鏡面のロックウエル硬度が表側より３以上高
くなるように、基板の裏側の鏡面が表側の凹凸プリフォ
ーマット形成面よりも架橋の度合が高い樹脂で形成され
ていることを特徴とするものである。
また、表側に凹凸のプリフォーマットを有する情報記録
媒体用基板の映像方法に於いて、前記基板の裏側の鏡面
のロックウエル硬度が表側より３以上高くなるように、
基板の裏側の裏側の記録・再生光入射面を表側の凹凸プ
リフォーマット形成面より架橋の度合を高く形成するこ
とを特徴とするものである。
媒体用基板の映像方法に於いて、前記基板の裏側の鏡面
のロックウエル硬度が表側より３以上高くなるように、
基板の裏側の裏側の記録・再生光入射面を表側の凹凸プ
リフォーマット形成面より架橋の度合を高く形成するこ
とを特徴とするものである。
本発明の情報記録媒体用基板は凹凸プリフオーマツトの
形成されていない記録再生光の入射面となる基板裏側の
架橋の度合が高く凹凸プリフオーマツトの形成された側
の架橋の度合が裏側に比べて低く形成されているため裏
面は化学的安定に優れ且つ硬度も高くなるためハードコ
ート層の塗布形成の際に用いる溶剤に対して塗布面の荒
れやクラツク等の発生を防止でき、またハードコートの
効果が一層向上する。
形成されていない記録再生光の入射面となる基板裏側の
架橋の度合が高く凹凸プリフオーマツトの形成された側
の架橋の度合が裏側に比べて低く形成されているため裏
面は化学的安定に優れ且つ硬度も高くなるためハードコ
ート層の塗布形成の際に用いる溶剤に対して塗布面の荒
れやクラツク等の発生を防止でき、またハードコートの
効果が一層向上する。
また、記録層と接する凹凸プリフオーマツトの形成され
ている面は架橋の度合が低いため、比較的硬度が低く又
ガラス転移温度も低くなり記録時の記録層のピツト変形
の際に基板面が変形を抑制しないため記録感度を低下さ
せることがない。
ている面は架橋の度合が低いため、比較的硬度が低く又
ガラス転移温度も低くなり記録時の記録層のピツト変形
の際に基板面が変形を抑制しないため記録感度を低下さ
せることがない。
以下図面に基づき本発明を説明する。
第１図は本発明の情報記録媒体用基板を使用した光学的
情報記録担体の一実施態様を表わす断面図である。同第
１図において、本発明の情報記録媒体用基板は、表側に
凹凸プリフオーマツトパターンの溝面６を有する透明な
樹脂基板１の裏側の鏡面７が表側の溝面６よりも架橋の
度合が高い樹脂で形成されてなるものである。樹脂基板
１はプリフオーマツト形成の面６から鏡面７にかけて架
橋の度合が徐々に高くなっている。
情報記録担体の一実施態様を表わす断面図である。同第
１図において、本発明の情報記録媒体用基板は、表側に
凹凸プリフオーマツトパターンの溝面６を有する透明な
樹脂基板１の裏側の鏡面７が表側の溝面６よりも架橋の
度合が高い樹脂で形成されてなるものである。樹脂基板
１はプリフオーマツト形成の面６から鏡面７にかけて架
橋の度合が徐々に高くなっている。
光学的情報記録担体は、前記情報記録媒体用基板の溝面
６上には、染料等の記録材料により形成された光記録層
２を設け、該記録層２と保護または記録担体の支持用の
保護基板４とを接着剤層３を介して接着し、他方情報記
録媒体用基板の裏側の鏡面７上にはハードコート層５を
設けてなるものである。
６上には、染料等の記録材料により形成された光記録層
２を設け、該記録層２と保護または記録担体の支持用の
保護基板４とを接着剤層３を介して接着し、他方情報記
録媒体用基板の裏側の鏡面７上にはハードコート層５を
設けてなるものである。
本発明において透明な樹脂基板を形成するために用いら
れる樹脂としては一般に光記録媒体用基板として用いら
れる透明な熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂もしくは熱可塑
性樹脂が用いられ、例えば、熱硬化性樹脂ではフエノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル系樹脂等、熱可塑
性樹脂では、ビニル樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、酢酸樹脂、ポリエステル系
樹脂等が挙げられる。
れる樹脂としては一般に光記録媒体用基板として用いら
れる透明な熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂もしくは熱可塑
性樹脂が用いられ、例えば、熱硬化性樹脂ではフエノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル系樹脂等、熱可塑
性樹脂では、ビニル樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、酢酸樹脂、ポリエステル系
樹脂等が挙げられる。
そしてこの樹脂基板は裏面即ち記録・再生光の入射面は
凹凸プリフオーマツトの形成されている表面よりも架橋
の度合が低い。
凹凸プリフオーマツトの形成されている表面よりも架橋
の度合が低い。
本発明において基板は架橋の度合の異なる部材を積層し
てもよく、また単一の層としてその表側と裏側で架橋の
度合を徐々に変化させてもよい。又何れの場合も樹脂の
モノマー成分を基板の裏側と表側で変えた場合基板内で
光学的異方性が生じ記録・再生に悪影響を及ぼすおそれ
があるため、基板の表側と裏側で樹脂の繰り返し単位が
実質的に同一のものを用いるのが好ましい。
てもよく、また単一の層としてその表側と裏側で架橋の
度合を徐々に変化させてもよい。又何れの場合も樹脂の
モノマー成分を基板の裏側と表側で変えた場合基板内で
光学的異方性が生じ記録・再生に悪影響を及ぼすおそれ
があるため、基板の表側と裏側で樹脂の繰り返し単位が
実質的に同一のものを用いるのが好ましい。
次に本発明の情報記録媒体用基板の製造方法について説
明する。
明する。
第２図は本発明の情報記録媒体用基板の製造方法の一実
施態様に用いる注型成形装置の説明図である。同第２図
において、鏡面型９上に架橋剤層10を設け次いで注型成
形装置８にこれを設置し、液状透明樹脂を通常の注型法
により、注入し固化せしめた後脱型することにより本発
明の情報記録媒体用基板を得ることができる。このよう
にして、基板は成形時に鏡面の部分がプリフオーマツト
面の部分より架橋の度合が高くなるように成形される。
施態様に用いる注型成形装置の説明図である。同第２図
において、鏡面型９上に架橋剤層10を設け次いで注型成
形装置８にこれを設置し、液状透明樹脂を通常の注型法
により、注入し固化せしめた後脱型することにより本発
明の情報記録媒体用基板を得ることができる。このよう
にして、基板は成形時に鏡面の部分がプリフオーマツト
面の部分より架橋の度合が高くなるように成形される。
架橋剤層に用いられる架橋剤としては、例えばエポキシ
樹脂の場合にアミン類，多価カルボン酸またはその無水
物，さらにフエノール樹脂，尿素樹脂，メラミン樹脂，
ポリエステル樹脂，ポリアミド樹脂などが用いられる。
樹脂の場合にアミン類，多価カルボン酸またはその無水
物，さらにフエノール樹脂，尿素樹脂，メラミン樹脂，
ポリエステル樹脂，ポリアミド樹脂などが用いられる。
また、この他注型成形装置に注入する樹脂に含まれる架
橋剤の割合を徐々に減少させていくことにより本発明の
光記録媒体用基板を作成することもでき更に予め架橋の
度合の異なる薄い樹脂シートを積層し圧着や融着等で一
体化することにより基板を作成することも可能である。
橋剤の割合を徐々に減少させていくことにより本発明の
光記録媒体用基板を作成することもでき更に予め架橋の
度合の異なる薄い樹脂シートを積層し圧着や融着等で一
体化することにより基板を作成することも可能である。
又本発明による情報記録媒体用基板の架橋の度合が高い
面にハードコートを設けるとき、その基板面が既にある
程度の固さを有するためハードコートの効果は一層大き
くなる。
面にハードコートを設けるとき、その基板面が既にある
程度の固さを有するためハードコートの効果は一層大き
くなる。
ハードコート層を形成するハードコート材としては多官
能アクリル系樹脂、シリカ系樹脂、ウレタン系樹脂、メ
ラミン系樹脂等が用いられる。また、、ハードコート溶
剤としては酢酸エチル、トルエン、セロソルブ、アセテ
ート等が特に制限なく用いることができハードコート層
を形成するには、前記ハードコート材をハードコート溶
剤に溶解し、その溶液をスピンナー法、ロールコーター
法、デイツピング法、スプレー法等で樹脂基板の表面に
塗布する方法で行なうことができる。
能アクリル系樹脂、シリカ系樹脂、ウレタン系樹脂、メ
ラミン系樹脂等が用いられる。また、、ハードコート溶
剤としては酢酸エチル、トルエン、セロソルブ、アセテ
ート等が特に制限なく用いることができハードコート層
を形成するには、前記ハードコート材をハードコート溶
剤に溶解し、その溶液をスピンナー法、ロールコーター
法、デイツピング法、スプレー法等で樹脂基板の表面に
塗布する方法で行なうことができる。
また本発明において基板の裏側に形成される凹凸プリフ
オーマツトとしては例えばレーザービームのガイドとな
るトラツキンググルーブやスタートピツトやアドレスピ
ツト等の位置情報となる情報ピツト等が挙げられ、具体
的には例えば巾0.5μｍ〜２μｍピツチ1.0μｍ〜５μｍ
のスパイラル或は同心円状の光デイスク用トラツク溝や
巾２μｍ〜５μｍのピツチ８μｍ〜15μｍの平行な光カ
ード用トラツク溝や縦10μｍ以下横10μｍ以下の長方形
や長径10μｍ以下の長円形の情報ピツト等である。
オーマツトとしては例えばレーザービームのガイドとな
るトラツキンググルーブやスタートピツトやアドレスピ
ツト等の位置情報となる情報ピツト等が挙げられ、具体
的には例えば巾0.5μｍ〜２μｍピツチ1.0μｍ〜５μｍ
のスパイラル或は同心円状の光デイスク用トラツク溝や
巾２μｍ〜５μｍのピツチ８μｍ〜15μｍの平行な光カ
ード用トラツク溝や縦10μｍ以下横10μｍ以下の長方形
や長径10μｍ以下の長円形の情報ピツト等である。
また本発明に於て基板表側のロツクウエル硬度はM92〜M
98、特にM95付近が好ましく、また基板の表側と裏側の
硬度の差は少なくとも３以上好ましくは５以上に形成さ
れる。
98、特にM95付近が好ましく、また基板の表側と裏側の
硬度の差は少なくとも３以上好ましくは５以上に形成さ
れる。
以下、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明する。但
し本発明はこの実施例の範囲に限定されるものではな
い。
し本発明はこの実施例の範囲に限定されるものではな
い。
実施例１ 第２図に示す注型成形装置の鏡面型上に、架橋剤として
２−エチル−４−メチルイミダゾールを厚さ500〜1000
Åに塗布し、この鏡面型を用いて周辺に厚さ0.4mmのス
ペーサーを設けて注型成形装置を組み立てた。これに、
液状樹脂として、以下の配合組成の未硬化の液状エポキ
シ樹脂を注入し、100℃、10時間硬化させた。
２−エチル−４−メチルイミダゾールを厚さ500〜1000
Åに塗布し、この鏡面型を用いて周辺に厚さ0.4mmのス
ペーサーを設けて注型成形装置を組み立てた。これに、
液状樹脂として、以下の配合組成の未硬化の液状エポキ
シ樹脂を注入し、100℃、10時間硬化させた。
（配合組成） ビスフエノールＡ型エポキシ樹脂 100重量部 メチルヘキサヒドロフタール酸無水物 88重量部 ２−エチル−４−メチルイミダゾール 0.3重量部 2,6−ジーターシヤリーブチル−ｐ−クレゾール1.0重量
部 次いで、型から脱型して厚さ0.4mm大きさ85mm×54mmで
表側にプリフオーマツトとしてトラツク溝（幅３μｍ、
ピツチ12μｍ）を有し、裏側は鏡面の光カード用基板を
得た。
部 次いで、型から脱型して厚さ0.4mm大きさ85mm×54mmで
表側にプリフオーマツトとしてトラツク溝（幅３μｍ、
ピツチ12μｍ）を有し、裏側は鏡面の光カード用基板を
得た。
このようにして得た基板のプリフオーマツト形成面及び
鏡面側の硬度測定し、その結果を表−１に示す。
鏡面側の硬度測定し、その結果を表−１に示す。
また、上記方法で製造した基板について基板の鏡面側の
酢酸エチル、トルエン、セロソルブ、アセテートの各溶
剤に12時間浸漬したときの鏡面の変化について目視及び
光学顕微鏡（×200）で観察した。その結果を表−１に
示す。
酢酸エチル、トルエン、セロソルブ、アセテートの各溶
剤に12時間浸漬したときの鏡面の変化について目視及び
光学顕微鏡（×200）で観察した。その結果を表−１に
示す。
該基板の鏡面にハードコート材としてウレタンアクリレ
ートをセロソルブアセテート溶剤に溶解した50重量％の
溶液をデイツピング法にて塗布した。その結果、基板に
ハードコート溶剤による溶解浸食はみられなかった。
ートをセロソルブアセテート溶剤に溶解した50重量％の
溶液をデイツピング法にて塗布した。その結果、基板に
ハードコート溶剤による溶解浸食はみられなかった。
次いでこの基板のプリフオーマツト面上に1,1,5,5−テ
トラキス（ｐ−ジエチルアミノフエニル）−2,4−ペン
タジエニル−パークロレートの２％ジアセトンアルコー
ル溶液を塗布し厚さ1000Åの記録層を形成した後、ホツ
トメルト接着剤を介して厚さ0.3mmの保護基板を接着し
て光カードを作成した。この光カードについて記録感度
を測定した。
トラキス（ｐ−ジエチルアミノフエニル）−2,4−ペン
タジエニル−パークロレートの２％ジアセトンアルコー
ル溶液を塗布し厚さ1000Åの記録層を形成した後、ホツ
トメルト接着剤を介して厚さ0.3mmの保護基板を接着し
て光カードを作成した。この光カードについて記録感度
を測定した。
比較例１ 注型成形装置の鏡面型上に架橋剤を塗布しなかった以外
は実施例１と同様にして光カード用基板を作成した。
は実施例１と同様にして光カード用基板を作成した。
このようにして得た基板の特性及び耐溶剤性は表−１に
示す。
示す。
次いで実施例１と同様にこの基板を用いて光カードを作
成し、その記録感度を測定した。
成し、その記録感度を測定した。
比較例２ 図２に示す注型成形装置に下記組成の液状アクリル樹脂
を注入し、硬化させて厚さ0.4mm、大きさ85mm×54mmで
巾３μｍピツチ12μｍのトラツキンググルーブを有する
光カード用基板を作成した。このようにして得た基板の
特性及び耐溶剤性を表−１に示す。次いでこの基板を用
いて実施例１と同様にして光カードを作成し、その記録
感度を測定した。
を注入し、硬化させて厚さ0.4mm、大きさ85mm×54mmで
巾３μｍピツチ12μｍのトラツキンググルーブを有する
光カード用基板を作成した。このようにして得た基板の
特性及び耐溶剤性を表−１に示す。次いでこの基板を用
いて実施例１と同様にして光カードを作成し、その記録
感度を測定した。
（組成） メタクリル酸メチル 70wt％ メタクリル酸ｔ−ブチル 20wt％ ポリエチレングリコールジメタクリレート 10wt％ （分子量620） 実施例２ 図２に示す注型成形装置に下記組成（Ｉ）の液状アクリ
ル樹脂を注入し厚さ0.2mmのアクリル樹脂基板を成形し
た。
ル樹脂を注入し厚さ0.2mmのアクリル樹脂基板を成形し
た。
組成（Ｉ） この上に更に下記組成（II）の液状アクリル樹脂を注入
し120℃で10時間硬化させた。
し120℃で10時間硬化させた。
組成（II） 次いで型から脱型し、厚さ0.4mm大きさ84mm×54mmの光
カード用基板を得た。この基板の硬度及び耐溶剤性を表
−１に示す。
カード用基板を得た。この基板の硬度及び耐溶剤性を表
−１に示す。
次いでこの基板を用いて実施例１と同様にして光カード
を作成した。この光カードについて記録感度を測定し
た。
を作成した。この光カードについて記録感度を測定し
た。
実施例３ 配合組成を以下の（Ｉ），（II）及び（III）とした厚
さ0.4mmの直径120mmのdisc状樹脂基板を計３枚注型成形
法で作成した。但し、組成（Ｉ）及び（II）の基板は両
面共に鏡面とし組成（III）の基板は片面に巾0.6μｍ、
ピツチ1.6μｍのスパイラル状のトラツク溝を形成し
た。
さ0.4mmの直径120mmのdisc状樹脂基板を計３枚注型成形
法で作成した。但し、組成（Ｉ）及び（II）の基板は両
面共に鏡面とし組成（III）の基板は片面に巾0.6μｍ、
ピツチ1.6μｍのスパイラル状のトラツク溝を形成し
た。
この３枚の樹脂基板を各々（Ｉ），（II），（III）の
順にプリフオーマツト面は外側となるようにして積層し
て温度140℃圧力2,5Kg/cm2加圧時間５分で熱プレスして
圧着して光デイスク用基板を作成した。
順にプリフオーマツト面は外側となるようにして積層し
て温度140℃圧力2,5Kg/cm2加圧時間５分で熱プレスして
圧着して光デイスク用基板を作成した。
組成（III） メタクリル酸メチル 70wt％ メタクリル酸ｔ−ブチル 25wt％ ポリエチレングリコールジメタクリレート 5wt％ 組成（II） メタクリル酸メチル 70wt％ メタクリル酸ｔ−ブチル 20wt％ ポリエチレングリコールジメタクリレート 10wt％ 組成（Ｉ） メタクリル酸メチル 65wt％ メタクリル酸ｔ−ブチル 22wt％ ポリエチレングリコールジメタクリレート 13wt％ なお記録感度の測定は次のようにして行なった。
即ち光カードをwrite speedで往復させ20〜200μsecの
パルス幅のsweep signalsを記録した後、read speedで
光カードを往復させて得られた再生信号から飽和コント
ラストを求めこの飽和コントラストの90％のレベルを示
す記録パルス幅の値から記録感度を算出した。
パルス幅のsweep signalsを記録した後、read speedで
光カードを往復させて得られた再生信号から飽和コント
ラストを求めこの飽和コントラストの90％のレベルを示
す記録パルス幅の値から記録感度を算出した。
又、各々の基板の架橋の度合は、同じモノマーからなる
樹脂の場合硬度と比例することが知られているため、本
実施例においては基板の表側及び裏側のロツクウエル硬
度で示した。但し、この硬度の測定はASTM D785に規定
された方法で行った。
樹脂の場合硬度と比例することが知られているため、本
実施例においては基板の表側及び裏側のロツクウエル硬
度で示した。但し、この硬度の測定はASTM D785に規定
された方法で行った。
〔発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、基板の裏側の鏡面
のロックウエル硬度が表側より３以上高くなるように、
基板の裏側の鏡面が表側の凹凸プリフォーマット形成面
よりも架橋の度合いが高く形成されているため、耐溶剤
性が高く、且つ記録感度の低下しない情報記録媒体用基
板を得ることができる。
のロックウエル硬度が表側より３以上高くなるように、
基板の裏側の鏡面が表側の凹凸プリフォーマット形成面
よりも架橋の度合いが高く形成されているため、耐溶剤
性が高く、且つ記録感度の低下しない情報記録媒体用基
板を得ることができる。
基板の記録層と接する面は従来の基板と同様に記録層の
レーザー吸収による変形に伴なって変形するため記録・
再生特性は安定する。
レーザー吸収による変形に伴なって変形するため記録・
再生特性は安定する。
また、本発明の情報記録媒体用基板はハードコート溶剤
に溶解侵食されにくいので、ハードコート材の選択の範
囲が広がり、より耐擦傷性の高いハードコート層を設け
ることが可能となる。更にハードコート層が塗布形成で
きるため生産性も一層向上する。
に溶解侵食されにくいので、ハードコート材の選択の範
囲が広がり、より耐擦傷性の高いハードコート層を設け
ることが可能となる。更にハードコート層が塗布形成で
きるため生産性も一層向上する。
第１図は本発明の情報記録媒体用基板を用いた情報記録
媒体の一実施態様を示す模式的断面図である。 第２図は本発明に係る情報記録媒体用基板の製造装置の
一実施態様を示す模式的断面図である。 １……情報記録媒体用基板 ２……光記録層 ３……接着剤層 ４……保護基板 ５……ハードコート層 ６……プリフオーマツト形成面 ７……鏡面 ８……注型成形装置 ９……鏡面型 10……架橋剤層
媒体の一実施態様を示す模式的断面図である。 第２図は本発明に係る情報記録媒体用基板の製造装置の
一実施態様を示す模式的断面図である。 １……情報記録媒体用基板 ２……光記録層 ３……接着剤層 ４……保護基板 ５……ハードコート層 ６……プリフオーマツト形成面 ７……鏡面 ８……注型成形装置 ９……鏡面型 10……架橋剤層
Claims (10)
- 【請求項１】表側に凹凸のプリフォーマットを有する情
報記録媒体用基板であって、該基板の裏側の鏡面のロッ
クウエル硬度が表側より３以上高くなるように、基板の
裏側の鏡面が表側の凹凸プリフォーマット形成面よりも
架橋の度合が高い樹脂で形成されていることを特徴とす
る情報記録媒体用基板。 - 【請求項２】前記樹脂を構成する繰返し単位が基板の表
側と裏側で実質的に同一である請求項１の情報記録媒体
用基板。 - 【請求項３】前記基板が単一の層からなる請求項１の情
報記録媒体用基板。 - 【請求項４】前記基板の表側から裏側に向って架橋の度
合が徐々に高くなっている請求項２の情報記録媒体用基
板。 - 【請求項５】前記凹凸のプリフォーマットが注型成形法
によって転写される請求項１の情報記録媒体用基板。 - 【請求項６】表側に凹凸のプリフォーマットを有する情
報記録媒体用基板の製造方法に於いて、前記基板の裏側
の鏡面のロックウエル硬度が表側より３以上高くなるよ
うに、基板の裏側の鏡面を、表側の凹凸プリフォーマッ
ト形成面より架橋の度合が高くなるように形成すること
を特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項７】前記樹脂を構成する繰返し単位が基板の表
側と裏側で実質的に同一である請求項６の情報記録媒体
用基板の製造方法。 - 【請求項８】前記基板が単一の層からなる請求項６の情
報記録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項９】前記基板を注型成形で作成する請求項６の
情報記録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項１０】前記基板の表側から裏側に向って架橋の
度合が徐々に高くなっている請求項６の情報記録媒体用
基板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-103801 | 1988-04-28 | ||
| JP10380188 | 1988-04-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0229952A JPH0229952A (ja) | 1990-01-31 |
| JPH07105067B2 true JPH07105067B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=14363500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1111001A Expired - Fee Related JPH07105067B2 (ja) | 1988-04-28 | 1989-04-27 | 情報記録媒体用基板及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4975310A (ja) |
| JP (1) | JPH07105067B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2859715B2 (ja) * | 1989-08-10 | 1999-02-24 | キヤノン株式会社 | 記録媒体用基板及びその製造方法、記録媒体、記録方法、記録再生方法、記録装置、記録再生装置 |
| JPH04205936A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Hitachi Ltd | 転写用成形媒体およびその製造方法 |
| JPH06111371A (ja) * | 1992-10-01 | 1994-04-22 | Pioneer Electron Corp | 光記録媒体 |
| US6146741A (en) * | 1997-03-14 | 2000-11-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Information recording medium and production process thereof |
| FR2813555B1 (fr) * | 2000-09-04 | 2003-04-04 | Rexam Beaute Metallisation | Procede pour donner un aspect metallise semi-transparent a des pieces de boitier ou d'emballage cosmetique et pieces ainsi obtenues |
| JP2007328873A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Toshiba Corp | 追記型多層光ディスク、記録方法、再生方法、および記録装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8002039A (nl) * | 1980-04-08 | 1981-11-02 | Philips Nv | Optisch uitleesbare informatieschijf. |
| JPS6192450A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学的記録媒体用基板および基板成形方法 |
-
1989
- 1989-04-27 JP JP1111001A patent/JPH07105067B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-28 US US07/344,758 patent/US4975310A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0229952A (ja) | 1990-01-31 |
| US4975310A (en) | 1990-12-04 |
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|---|---|---|---|
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