JPS60174509A - 共振器用プレ−ト並びに共振器用プレ−トの加工方法及び加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は共振器用プレート、特に共振器用プレートの薄
肉部分の加工方法及び加工装置並びにこれらによシ加工
された共振器用プレートに関する。

（従来の技術） 米国特許第３，６９４，６７７号には、中央に膜状部を
なす薄肉部分を有し、該薄肉部分が薄肉でない部分と段
状ゾーンによって結合されるごとき石英ディスクを組込
んだ圧電共振器が示されている。

第１の電極がディスクの一方の面上をディスクの外側か
ら薄肉部分の中央まで延び、段状ゾーンを横切っている
。第２の電極は、ディスクの他方の面上に設けられ、デ
ィスクの周囲から薄肉部分の中心まで延びている。ディ
スクの前記他方の面は平面であっても良く、段状ゾーン
を有していても良い。これらを第２の電極は横切らなけ
ればならない。

米国特許第３．６９４，６７７号によって教えられる方
法を用いて例えば銀またはアルミニウムから電極を作製
するとき、段状領域に弱いスポットができ、それは電気
的連続性を破断し、その結果共振器が作動しなくなるこ
とが分かった。

フランス国特許願煮８２０９５１．１　（１９８２年７
月１日出願）において、本出願人は段状領域に付着形成
された導電性タブで第１の電極を補強することを提案し
た。

普通吹付けまたは蒸着によシ付着形成される導電性層は
１００ＯＸの平均厚さを有することが好ましい・。この
導電性層は電極よシ一般に幅広となっている。

今日の技術の傾向はよシ高周波の共振器に向かっておシ
、このことは薄肉部分の厚さをよシ一層薄くすることを
必要とする。

これらの条件下で、段部の高さはよシ大きくなシ、該段
部を横切らなければならない電極に関する困難が増加す
る。補強タブによシ与えられた改良は、段部が高いとき
（５０μｍ程度あるいはそれ以上）には電気的な接触の
信頼性を保証するために常に十分であるとは言えない。

（発明の課題） 本発明はこれらの不都合を克服するようにしたものであ
る。このだめ本発明の目的は、当該段部を横切る電極の
機械的ふるまいを促進する段部を形成し、電極は前述の
フランス国特許願Ａ８２　０９５１１に記載されている
ような導電性タブを好ましく補強する。

（発明の要約） この発明は、まず、少なくとも１つのアイリスを用いて
イオンデンバードメントにより少なくとも１枚の共振器
用グレートの薄肉部分を加工するだめの方法であって、
アイリスの開口の近くの成型部分をイオンがンパードメ
ントの間に少なくとも一部を消費させ、アイリスの開口
の幅を広くさせ、グレートの薄肉部分と残シの部分との
間に段部を形成させるようにした方法に係るものである
。

本発明のある実施態様の方法によれば、成型部分はステ
ップ状断面を有する。

本発明の別の実施態様の方法によれば、成型部分は円錐
台状となっている。

本発明による方法は、段部領域内に導電性タブを付着形
成する工程と、いずれか一方が少なくとも部分的に導電
性タブを覆うごとき２つの電極を付着形成する工程を含
んでいて良い。

また、本発明は上記の方法を使用する装置に係る。この
装置は、少なくとも１枚の共振器用グレートに向けてイ
オンビームを発するイオンポンノマードメント装置と、
少なくとも１つのアイリスとを組込んでなシ、アイリス
は、プレートの周囲をマスクするとともにアイリス内の
開口を介してイオンビームを通過可能にするためにプレ
ートと面して設けられる。この装置は、アイリスが、プ
レートの薄肉部分と残部の部分との間に段部を形成させ
るためにイオンボンバードメントの間に少なくとも一部
を消費させかつアイリスの開口の幅を広くさせるごとき
成型部分をその開口近くに有していることを特徴とする
。

本発明のある実施態様の装置によれば、成型部分がステ
ップ状断面を有している。

本発明の別の実施態様の装置によれば、成型部分が円錐
台状をなす。

最後に、本発明は、本発明の方法を使用することによっ
て共振器用プレートにも係る。このプレートは、薄肉と
なっていない周囲部分と、薄肉の中央部分と、周囲部分
と中央部分を結合する段部とを有するタイプのものであ
る。このプレートは段部がなだらかになっていることを
特徴とする。

本発明のある実施態様のプレートによれば、段部が２段
のステップ状となっている。

本発明の別の実施態様のプレートによれば、段部の断面
形状が単調な曲線をなしている。

好ましい実施例によれば、プレートは段部領域内に付着
形成された金属層よシなる導電性タブと関連する電極を
有する。

（発明の構成及び作用） 第１ａ図及び第１ｂ図は本発明の第１の実施例に係るア
イリスの加工段階を示すもので本発明の加工方法を用い
た第１の方法において使用されるものである。第２ａ図
〜第２ｄ図は第１の方法の工程を示すものである。

第１ｂ図によればアイリス１はステップ９，６′状の部
分１２に囲まれた中央開口２を有する。アイリス１は、
中央に開口２があけられたディスクをスタート材として
形成される。このディスクは、その−面側において開口
２と隣接する好ましくは円形をなす部分６を除き、外側
表面がワニスマスクまたは金属被覆マスク３，４．５で
覆われる。

ディスクに化学的作用を施し、ディスクのマスクされて
いない部分６に穴をあけ、開口２よシ幅広であって底部
６′と面１１によシ境界がつけられる開口部１０を形成
する。そのまま、残った開口２の一部の面９と底部６′
は部分１２の境界となる。

第２ｂ図によれば、フェスまたは金属被覆３゜４．５を
除去した後、アイリス１は、イオン加工するために、例
えば石英またはリチウムタンタレートよシなる圧電性デ
ィスク２０から成るプレートと接触して置かれる。イオ
ン加工は、共振器の表面に対して直角にイオンビームＦ
を発するイオンボンバードメント（イオン衝撃）装置り
により真空中でなされる（第２ｂ図）。第２ｂ図は、特
に、部分１２が完全に消滅した瞬間を示すものである。

この時、ディスク２０はその中央に三方がふさがってい
る開口２１を有し、該開口２１の直径は開口２の直径に
相当する。アイリス１の開口は開口部１０の残部のみに
制限される。

加工は、一方がふさがっている開口２１の底部が所望の
厚さの膜状部２５の境界となるまで続けられる（第２Ｃ
図）。この段階で、アイリス１の厚さは更に減少し、そ
の開口は開口部１０の残部に制限される。

そしてディスク２０は２段のステップにより形成される
段部を有するようになる。第１のステップはディスク２
０の上面及び加工された垂直壁２３から成り、第２のス
テップは加工された平らな底部２２及び垂直壁２６から
成る。

第２ｄ図によれば、金属製タブ２９が付着形成され、該
タブ２９は、段部の２段のステップを横切って、ディス
ク２０の上面から膜状部２５の周囲に位置する端部３０
まで延びる。

次に第１の電極２７が付着形成され、該電極２７は段部
の２段のステップを横切って、′ディスク２０の上面の
周囲から膜２５の中心に位置する端部２８まで延びる。

同時に第２の電極２１が形成され、該電極２７′はディ
スク２０の下面の周囲から電極２７の端部２８と対向す
る膜状部２５の中心に位置する端部２８′まで延びる。

一般に、加工は複数のプレートを同一のイオンボンバー
ドメントにさらすことによりなされる。

各プレートはこのためアイリスに装着されることが分か
る。

第３図は本発明の第２の実施例に係るアイリスを示すも
ので、本発明の加工方法を用いた第２の方法において使
用されるものである。第４ａ図〜第４ｄ図は第２の方法
の工程を示すものである。

第３図によれば、アイリス３１は側部３３が円錐台状を
なす開口３２を有する。

アイリス３１は、その開口３２の小さい直径側の面が圧
電体ディスクよ９成るプレート４０に接触するように置
かれる（第４ａ図）。

とれら全体は、ディスクの表面に対して垂直なイオンビ
ームＦを形成するイオンボンバードメント装置Ｆを組込
んだ真空容器内に配される。加工中、屈曲面４２と平ら
な底部４３を有する一方がふさがった開口４１は徐々に
穴があけられる。アイリス３１の開口３２の側部３３が
円錐台形状のため、ディスク４０と接触するところのア
イリス３１の直径は徐々に幅が広がってくる。アイリス
３１のこの消費現象は面４３に対する屈曲したアウトラ
インを与える。加工が終了した時（第４ｃ図）、屈曲し
た段部４２及び膜状部４４を有するディスク４０が得ら
れる。膜状部４４の一方の面はディスク４０の下面をな
し、もう一方の面は開口４１の平らな底部４５をなす。

次に第４ｄ図に示すように、導電性夕、ブ４９が付着形
成される。このタブ４９は、ディスク４０の上面から膜
状部４４の周囲に位置する端部５０まで延び、屈曲した
段部４２を横切っている。

第１の電極４７及び第２の電極５．１も同時に付着形成
される。第１の電極４７は、屈曲した段部４２を横切シ
、ディスク４０の上面の周囲から膜状部４４の中央に位
置する端部５２まで延びる。

第２の電極５１はディスク４０の下面の周囲から′電極
４７の端部４８と対向する膜状部４４の中央に位置する
端部５２まで延びる。

前述したように、数枚のプレート５の加工は普通同時に
行なわれる。

上述した例は本発明を限定するものではない。

例えばイオンビームを加工すべきディスクの表面に垂直
に向けて発することは必ずしも必要ではない。

（売切の効果） 本発明によれば機械的に強くかつ電気的な連続性の信頼
度が保証される共振器用プレートを提供できる利点があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１ａ図及び第１ｂ図は本発明の第１の実施例に係るア
イリスの作製段階を示す図、第２ａ図〜第２ｄ図は本発
明の第１の加工方法による各工程を示す図、第３図は第
２の実施例に係るアイリスを示す図、第４ａ図〜第４ｄ
図は本発明の第２の加工方法による各工程を示す図であ
る。 １．３１・・・アイリス、２，３２・・・開口、３，４
゜５・・・ワニスまたは金属被覆マスク、２０．４０・
・・ディスク、２５．４４・・・膜状部。 特許出願人　コン・母ニイ　デレクトロニックエ　ド　
ビエゾーエレクトリシテ 特許出願代理人　弁理士　山　本　恵　−−一１−１ −０　０　″”０

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）　アイリスを用いてイオンボンバードメントによ
   り共振器用のプレートの薄肉部分を加工するだめの方法
   であって、前記アイリスの開口の近くの成型部分をイオ
   ンボンバードメントの間に少すくとも一部を消費させ、
   前記アイリスの前記開口の幅を広くさせ、前記プレート
   の薄肉部分と残りの部分との間に段部を形成させるよう
   にしたことを特徴とする共振器用フ０レートの加工方法
   。
2. （２）前記成型部分がステップ状断面を有する特許請求
   の範囲第１項に記載の方法。
3. （３）前記成型部分が円錐台状である特許請求の範囲第
   １項に記載の方法。
4. （４）前記段部領域内に導電性タブを付着形成する工程
   と、いずれか一方が少なくとも部分的に前記導電性タブ
   を覆うごとき２つの電極を付着形成する工程を含む特許
   請求の範囲第１項に記載の方法。
5. （５）特許請求の範囲第１項に記載の方法を使用するだ
   めの装置であって、少なくとも１枚の共振器用プレート
   に向けてイオンビームを発するイオンボンバードメント
   装置と、少なくとも１つのアイリスとを組込んでなシ、
   前記アイリスは、前記グレートの周囲をマスクするとと
   もに前記アイリス内の開口を介して前記イオンビームを
   通過可能にするために前記プレートと面して設けられ、
   前記アイリスは、前記プレートの薄肉部分と残シの部分
   との間に段部を形成させるためにイオンがンバードメン
   トの間に少なくとも一部を消費させかつ前記アイリスの
   開口の幅を広くさせるごとき成型部分をその開口近くに
   有することを特徴とする共振器用グレートの加工装置。
6. （６）前記成型部分がステップ状断面を有する特許請求
   の範囲第５項に記載の装置。
7. （７）前記成型部分が円錐台状である特許請求の範囲第
   ５項に記載の装置。
8. （８）・　薄肉でない周囲部分と、薄肉の中央部分と、
   該中央部分を前記周囲部分に結合する段部とを有し、前
   記段部がゆるやかとなっていることを特徴とする共振器
   用プレート。
9. （９）前記段部が２段のステップ状をなす特許請求の範
   囲第８項に記載のプレート。 αＱ　前記段部の断面形状が単調な曲線をなす特許請求
   の範囲第８項に記載のグレート。 αη　前記段部状領域内に付着形成される金属層よりな
   る導電性タブと関連する電極を有する特許請求の範囲第
   ８項に記載のプレート。