JPS60172937A - ナフタレン類のメチル化方法 - Google Patents
ナフタレン類のメチル化方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
a、産業上の利用分野
本発明は、ナフタレン類のメチル化方法に関Jるもので
ある。更に詳しくは、ナフタレン及び/又はモノメチル
ナフタレンをメチル化剤ににリメチル化してモノメチル
ナフタレン及び/又はジメチルナフタレンを製造する方
法に関づるものである。
ある。更に詳しくは、ナフタレン及び/又はモノメチル
ナフタレンをメチル化剤ににリメチル化してモノメチル
ナフタレン及び/又はジメチルナフタレンを製造する方
法に関づるものである。
b、従来技術
一般に、芳香族炭化水素の核炭素をアルキル化づる方法
として、フリーデル・クラフト触媒(例えば塩化アルミ
ニウム触媒)を用いる方法が知られている。この方法は
殊にプ1]ピレンをアルキル化剤として用いる方法が代
表的である。しかしこのフリーデル・クラフッ触媒を使
用するアルギル化方法は、触媒が均−系であるために、
反応終了後反応生成物と触媒との分離を行なう必要があ
り、経演的に不利である。
として、フリーデル・クラフト触媒(例えば塩化アルミ
ニウム触媒)を用いる方法が知られている。この方法は
殊にプ1]ピレンをアルキル化剤として用いる方法が代
表的である。しかしこのフリーデル・クラフッ触媒を使
用するアルギル化方法は、触媒が均−系であるために、
反応終了後反応生成物と触媒との分離を行なう必要があ
り、経演的に不利である。
一方、固体酸の一種であるシリカアルミナを触媒として
使用しアルキル化する方法が知られているが、この方法
は500℃以上の高温を必要とし、そのため触媒表面上
に炭素質物質の発生が著しく長詩間活性を維持リ−るこ
とは困難である。
使用しアルキル化する方法が知られているが、この方法
は500℃以上の高温を必要とし、そのため触媒表面上
に炭素質物質の発生が著しく長詩間活性を維持リ−るこ
とは困難である。
木光明名らは、固体酸触媒としてシリカアルミノ−以外
の下記の如き種々のゼオライ1−を使用しナフタレン類
のアルキル化を行ったところ、満足すべき結果は百られ
なかった。すなわち、フォージャサイト(F allj
asite)を用いてナフタレンのメチル化を液相にて
行った場合、高次のメチル化物が主として生成し、七ノ
ー又はジメチルナフタレンの選択性は低く、さらにモノ
メチルナフタレンのメチル化を行った場合、得られたジ
メチルナフタレン混合物中の50%以上が1,2−ジメ
チルナフタレンであって、有用な2.6−又は2,7−
ジメチルナフタレン類の含有量は少ない。その上、この
反応ではトリメデルナフタレンの生成量が多いという難
点があった。
の下記の如き種々のゼオライ1−を使用しナフタレン類
のアルキル化を行ったところ、満足すべき結果は百られ
なかった。すなわち、フォージャサイト(F allj
asite)を用いてナフタレンのメチル化を液相にて
行った場合、高次のメチル化物が主として生成し、七ノ
ー又はジメチルナフタレンの選択性は低く、さらにモノ
メチルナフタレンのメチル化を行った場合、得られたジ
メチルナフタレン混合物中の50%以上が1,2−ジメ
チルナフタレンであって、有用な2.6−又は2,7−
ジメチルナフタレン類の含有量は少ない。その上、この
反応ではトリメデルナフタレンの生成量が多いという難
点があった。
またモルデナイl−(MBdenite)を触媒として
使用した場合メチル化の活性が低く、高転化率でメチル
化を行うことは容易ではなく、しかも活性劣化が著しく
太きくII的六方法しては不適当である。
使用した場合メチル化の活性が低く、高転化率でメチル
化を行うことは容易ではなく、しかも活性劣化が著しく
太きくII的六方法しては不適当である。
さらに高シリカゼオライトであるゼオライト75M−5
を用いてナフタレンのメチル化を気相で行ったところ、
転化率が未だ低く工業的方法どしては不充分であった。
を用いてナフタレンのメチル化を気相で行ったところ、
転化率が未だ低く工業的方法どしては不充分であった。
C6発明の目的
そこで本発明の目的は、ナフタレン又はモノメチルナフ
タレンをメチル化し、メチル基を1個又は2個、特に1
個導入し得る方法を提供することにある。
タレンをメチル化し、メチル基を1個又は2個、特に1
個導入し得る方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、優れた活性を有し、しかも活性野
面の長い触媒を用いて、メチル化する方法を提供するこ
とにある。
面の長い触媒を用いて、メチル化する方法を提供するこ
とにある。
本発明のさらに他の目的は、原料の転化率が高く、目的
どづ−るメチル化物の選択性の高いメチル化方法を提供
することにある。
どづ−るメチル化物の選択性の高いメチル化方法を提供
することにある。
さらに本発明の他の目的は、メヂルプフタレン又はジメ
チルナフタレンの工業的に価値のある製造法を提供り°
ることにある。
チルナフタレンの工業的に価値のある製造法を提供り°
ることにある。
本発明の他の目的は、以下の説明から明らかとなるであ
ろう。
ろう。
d1発明の構成
木光明者らのイd]究によれば、かかる本発明の目的は
、ノーフタレン及び/又゛はモノメチルナフタレンをメ
チル化剤によりメチル化する方法において、該メチル化
をSL 02 / M 203 (モル比)が10〜1
00であり且つX線格子面間隔が表−八に示した特徴を
有する結晶性アルミノシリケートゼオライトを含有する
触媒の存在下に行なうことにより達成されることがわか
った。
、ノーフタレン及び/又゛はモノメチルナフタレンをメ
チル化剤によりメチル化する方法において、該メチル化
をSL 02 / M 203 (モル比)が10〜1
00であり且つX線格子面間隔が表−八に示した特徴を
有する結晶性アルミノシリケートゼオライトを含有する
触媒の存在下に行なうことにより達成されることがわか
った。
かかる本発明によれば、後述づる結晶性アルミノシリケ
ートゼオライトを含有する触媒を使用りることによって
、ナフタレンからモノメチルナフタレンが高転化率且つ
高選択率で4!7られるばかりでなく、またモノメチル
ナフタレンからジメチルナフタレンが高転化率且つ高選
択率で得られ、しかも活性の劣化が少なく長時間使用す
ることが出来るという優れた利点が得られる。
ートゼオライトを含有する触媒を使用りることによって
、ナフタレンからモノメチルナフタレンが高転化率且つ
高選択率で4!7られるばかりでなく、またモノメチル
ナフタレンからジメチルナフタレンが高転化率且つ高選
択率で得られ、しかも活性の劣化が少なく長時間使用す
ることが出来るという優れた利点が得られる。
以下本発明方法について更に詳■1に説明づるが、先ず
本発明のゼオライ1〜及び触媒につい01次にメチル化
の方法について説明覆る。
本発明のゼオライ1〜及び触媒につい01次にメチル化
の方法について説明覆る。
本発明方法において触媒の活性成分としく使用される結
晶性アルミノシリグー1〜ゼオライ1〜は、前述した通
り(i) SL Ot / /V 203(U:/L/
比)が10〜100であり、且つ(ii) X線極子面
間隔が下記表−八に示しl〔特徴を有している。このゼ
オライトは従来公知のゼオライトZSM−5と同様に高
い5LO2/ /V 2o 3(モル比)の組成を有す
るが、X線回折格子面間隔(小においてZSM−5のそ
れとは明確に区別される。
晶性アルミノシリグー1〜ゼオライ1〜は、前述した通
り(i) SL Ot / /V 203(U:/L/
比)が10〜100であり、且つ(ii) X線極子面
間隔が下記表−八に示しl〔特徴を有している。このゼ
オライトは従来公知のゼオライトZSM−5と同様に高
い5LO2/ /V 2o 3(モル比)の組成を有す
るが、X線回折格子面間隔(小においてZSM−5のそ
れとは明確に区別される。
以下本明細書において結晶性アルミノシリケートビオラ
イ1〜を単に゛ゼオライト“′と略称することがある。
イ1〜を単に゛ゼオライト“′と略称することがある。
本発明のゼオライトはゼオライトZSM−5と1ii1
様に高いSj O2/ /V 203 (モル比)を有
しており、その割合は10〜100の範囲、好ましくは
15〜70の範1■、より好ましくは20〜50の範囲
にある。
様に高いSj O2/ /V 203 (モル比)を有
しており、その割合は10〜100の範囲、好ましくは
15〜70の範1■、より好ましくは20〜50の範囲
にある。
また本発明のゼオライトは下記表−八に示されたX線格
子面間隔の特徴を有しているが、本発明者らの解析によ
れば本発明のゼオライトのX線回折チレートをZSM−
5のそれと詳細に比較検討Jるど1,37干の相違が認
められることがわかった。
子面間隔の特徴を有しているが、本発明者らの解析によ
れば本発明のゼオライトのX線回折チレートをZSM−
5のそれと詳細に比較検討Jるど1,37干の相違が認
められることがわかった。
その1つの大きな相違点はZSM−5の最強ピークを勺
えるX線格子面間隔d(入)は、米国特許第3,702
,886号明1Iり書によればd(入)=3.85(2
θ−23,14)に最強ピークが分校し、d(入)=
3.86および3.83 (2B−=23.05および
23.25 >に別れて認められることである。
えるX線格子面間隔d(入)は、米国特許第3,702
,886号明1Iり書によればd(入)=3.85(2
θ−23,14)に最強ピークが分校し、d(入)=
3.86および3.83 (2B−=23.05および
23.25 >に別れて認められることである。
また他の1つの大きな相違点はZ S M−5に43い
て認められるd(入)= 3.00 (2θ−29,7
6)の1つのピークが、本発明のゼオライトでは同じd
(入) = 3.00 (2θ−29,75)においC
分校した凹型のピークとして観察されることである。
て認められるd(入)= 3.00 (2θ−29,7
6)の1つのピークが、本発明のゼオライトでは同じd
(入) = 3.00 (2θ−29,75)においC
分校した凹型のピークとして観察されることである。
この後者の凹型ピークは本発明の全てのゼオライトに認
められるわけではないが、はとんど゛の場合認められる
。次に本発明のゼオライトのX線格子面間隔d(入)と
その相対強度を示す。この相対強度(1/lo)は、d
(入) = 3.86 (20・−23,05)の強度
(Io)を100としi=s含の各ピークの相対的強度
[1/lo (%)]を100〜60がVS(非常に強
い)、60〜40がS(強い)、40〜20がM(中位
)、20〜10がW(弱い)で表わしたものである。
められるわけではないが、はとんど゛の場合認められる
。次に本発明のゼオライトのX線格子面間隔d(入)と
その相対強度を示す。この相対強度(1/lo)は、d
(入) = 3.86 (20・−23,05)の強度
(Io)を100としi=s含の各ピークの相対的強度
[1/lo (%)]を100〜60がVS(非常に強
い)、60〜40がS(強い)、40〜20がM(中位
)、20〜10がW(弱い)で表わしたものである。
表−八
に旦JLIL[旧l 1LJLJL 狙l」L[d(入
) 20 (1/10) 11.26 7.85 中 位 10.11 8.75 弱い〜中位 9.83 9.00 弱 い 9.12 9.70 弱 い ?、51 11.80 弱 い 6.78 13.05 弱 い G、05 14.65 弱い〜中位 5.74 15.45 弱 い 5.61 15.80 弱 い 5.41 16.40 弱 い 5.00 17.75 弱 い 4.6!3 19.10 弱 い 4.39 20.25 弱 い 4.28 20.75 弱い〜中6L 4.11 21.65 弱い〜中位 4.04 22.05 弱 い 3.86 23.05 非常に強い 3.83 23.25 非常に強い 3.75 23.70 強 い 3.7423.80 強 い 3.66 24.30 中位〜強い 3.61 24.65 弱 い 3.50 25.45 弱い〜中位 3.46 ’ 25.75 弱い〜中位3.36 26
.50 弱 い 3.33 26.80 弱い〜中位 3.28 27.20 弱 い 3.26 27.35 弱 い 3.06 29.15 弱い〜中位 3.00 29.75 弱い〜中位 :)、98 29.95 弱い〜中位 2.96 30.20 弱 い さらに本発明のより好ましいぜAライトに特徴的なd(
入) = 3.86および3.83の2・つの“°非常
に強い゛ビークは、一般にd(入) = 3.86(2
θ=23.05 )のピークの強度(■0)を100と
した場合のd(入) = 3.83 (2θ−23,2
5)のピークの相対的強度(1/Io )が少くとも7
0であり、好ましくは少くとも75であり、より典型的
にはγγ〜8()の範囲内にあるという相関を有してい
る。
) 20 (1/10) 11.26 7.85 中 位 10.11 8.75 弱い〜中位 9.83 9.00 弱 い 9.12 9.70 弱 い ?、51 11.80 弱 い 6.78 13.05 弱 い G、05 14.65 弱い〜中位 5.74 15.45 弱 い 5.61 15.80 弱 い 5.41 16.40 弱 い 5.00 17.75 弱 い 4.6!3 19.10 弱 い 4.39 20.25 弱 い 4.28 20.75 弱い〜中6L 4.11 21.65 弱い〜中位 4.04 22.05 弱 い 3.86 23.05 非常に強い 3.83 23.25 非常に強い 3.75 23.70 強 い 3.7423.80 強 い 3.66 24.30 中位〜強い 3.61 24.65 弱 い 3.50 25.45 弱い〜中位 3.46 ’ 25.75 弱い〜中位3.36 26
.50 弱 い 3.33 26.80 弱い〜中位 3.28 27.20 弱 い 3.26 27.35 弱 い 3.06 29.15 弱い〜中位 3.00 29.75 弱い〜中位 :)、98 29.95 弱い〜中位 2.96 30.20 弱 い さらに本発明のより好ましいぜAライトに特徴的なd(
入) = 3.86および3.83の2・つの“°非常
に強い゛ビークは、一般にd(入) = 3.86(2
θ=23.05 )のピークの強度(■0)を100と
した場合のd(入) = 3.83 (2θ−23,2
5)のピークの相対的強度(1/Io )が少くとも7
0であり、好ましくは少くとも75であり、より典型的
にはγγ〜8()の範囲内にあるという相関を有してい
る。
さらに、本発明の一層好ましいゼオライトは化学的活性
においても特異な性質を示し、例えば、活性化された状
態の該ゼオライトは後述する定義によって測定されるシ
クロヘキサン分解指数比が少なくとも1.1、好ましく
は少なくとも1.5、より好適には1.7以上である。
においても特異な性質を示し、例えば、活性化された状
態の該ゼオライトは後述する定義によって測定されるシ
クロヘキサン分解指数比が少なくとも1.1、好ましく
は少なくとも1.5、より好適には1.7以上である。
本明細書において、前記「活性化された状態」とは、本
発明のゼオライトの合成された直後に含まれるアルカリ
金属イオンの大部分が公知の方法に従って、水素イオン
で置換されていることを意味するものである。即ち、該
ゼオライトのアルミナに基づくカチオン交換サイトの7
0%以上、好ましくは90%以上が実質的に水素イオン
で占められることを意味し、これによって活性化状態の
ゼオライ1〜(かかる状態のゼオライ1−を14型ゼオ
ライトとけ、5;εどかある)が得られる。
発明のゼオライトの合成された直後に含まれるアルカリ
金属イオンの大部分が公知の方法に従って、水素イオン
で置換されていることを意味するものである。即ち、該
ゼオライトのアルミナに基づくカチオン交換サイトの7
0%以上、好ましくは90%以上が実質的に水素イオン
で占められることを意味し、これによって活性化状態の
ゼオライ1〜(かかる状態のゼオライ1−を14型ゼオ
ライトとけ、5;εどかある)が得られる。
一般にゼオライトはそのSi Ot / N 203
(モル比)によって活性、殊に酸性度は大略法った値を
有している。しかし本発明のゼオライトの1つの特徴は
、それとほぼ同じSi 02 / Aj to ! (
モル比〉を有するZSM−5の活性と比較して高い値を
示している。つまり、成る標準のZSM−5のシクロヘ
キサン分解活性を1とした場合、それとほぼ同じ5L0
2 / M 203 (モル比)を有する本発明の1?
71ライトのシクロヘキサン分解活性は、前述のとおり
シクロヘキサン分解指数比で表わす゛と1.1以上、好
ましくは1.5以上である。
(モル比)によって活性、殊に酸性度は大略法った値を
有している。しかし本発明のゼオライトの1つの特徴は
、それとほぼ同じSi 02 / Aj to ! (
モル比〉を有するZSM−5の活性と比較して高い値を
示している。つまり、成る標準のZSM−5のシクロヘ
キサン分解活性を1とした場合、それとほぼ同じ5L0
2 / M 203 (モル比)を有する本発明の1?
71ライトのシクロヘキサン分解活性は、前述のとおり
シクロヘキサン分解指数比で表わす゛と1.1以上、好
ましくは1.5以上である。
このことは、本発明のゼオライトはZSM−5と比較し
てその細孔内における酸強度が大であることに起因して
いるものと本発明者らは推察しくいる。なお、本発明の
ゼオライ1へのシクロヘキサン分解指数比の上限は一般
に3、好ましくは2.5以下であることが望ましい。
てその細孔内における酸強度が大であることに起因して
いるものと本発明者らは推察しくいる。なお、本発明の
ゼオライ1へのシクロヘキサン分解指数比の上限は一般
に3、好ましくは2.5以下であることが望ましい。
本発明において使用されるゼオライトは、前記SL O
e / M 2o 3 (モル比)の割合を有し且つ前
記X線格子面間隔の特徴を有するものであればよく、そ
の合成法の種類には特に左右されない。その内好ましい
ゼオライトは前記シクロヘキサン分解指数比が少なくと
も161、好ましくは少なくとも1.5のものであり、
一層好ましいのは下記の如き方法で合成されIこゼオラ
イトであるが、下記■示した合成法は一例であって、本
発明のゼオライトはそれらに限定されるわ(プではない
。
e / M 2o 3 (モル比)の割合を有し且つ前
記X線格子面間隔の特徴を有するものであればよく、そ
の合成法の種類には特に左右されない。その内好ましい
ゼオライトは前記シクロヘキサン分解指数比が少なくと
も161、好ましくは少なくとも1.5のものであり、
一層好ましいのは下記の如き方法で合成されIこゼオラ
イトであるが、下記■示した合成法は一例であって、本
発明のゼオライトはそれらに限定されるわ(プではない
。
方法A
このIj法Aは本発明者らが先に見出し既に提案した方
法Cあって、下記にその詳細を説明する。
法Cあって、下記にその詳細を説明する。
りなわら、この方法は5LO2/ M ao 3 (モ
ル比)が20〜300の結晶性アルミノシリケートゼオ
ライトZSM−5を、該ゼオライトZSM−5の1g当
り0.1〜1gのアルカリ金属水酸化物を含有する水溶
液中で、80〜250℃間の温度に加熱する方法である
。この方法は本発明者らが昭和58年6月17日に出願
した明細書(発明の名称=「新規結晶性アルミノシリケ
ートゼオライト及びその製造法」)に具体的、且つ詳細
に説明されている。
ル比)が20〜300の結晶性アルミノシリケートゼオ
ライトZSM−5を、該ゼオライトZSM−5の1g当
り0.1〜1gのアルカリ金属水酸化物を含有する水溶
液中で、80〜250℃間の温度に加熱する方法である
。この方法は本発明者らが昭和58年6月17日に出願
した明細書(発明の名称=「新規結晶性アルミノシリケ
ートゼオライト及びその製造法」)に具体的、且つ詳細
に説明されている。
この方法の原料であるZSM−5は、特公昭46−10
064号公報に記載された方法にょっ(製造することが
出来、またモービル・Aイル・]−ポレーションに商業
的に製造されているのでそれを使用することも出来る。
064号公報に記載された方法にょっ(製造することが
出来、またモービル・Aイル・]−ポレーションに商業
的に製造されているのでそれを使用することも出来る。
このZSM−5のSL O。
/ M 、o 3のモル比は20〜300の範囲のもの
、好ましくは30〜200の範囲のものが方法Aのゼオ
ライトを製造するために有利に使用される。、5LOe
/N、03モル比が20よりも低いZSM−5はそれ自
体製造が極めて困難であるばかりでなく、入手す容易で
ない。ところがこの方法Aによれば5LO2/M2O3
モル比が20以上、好ましくは3o以トのZSM−5を
原料としT 5LOt / /V 203−E JLt
比が2017.下のゼオライトを容易に製造づ−ること
が可能ぐあるばかりでなく、そのようなぜオライドが前
述しlc如き特異な活性を示ずことは驚くべきことであ
る。
、好ましくは30〜200の範囲のものが方法Aのゼオ
ライトを製造するために有利に使用される。、5LOe
/N、03モル比が20よりも低いZSM−5はそれ自
体製造が極めて困難であるばかりでなく、入手す容易で
ない。ところがこの方法Aによれば5LO2/M2O3
モル比が20以上、好ましくは3o以トのZSM−5を
原料としT 5LOt / /V 203−E JLt
比が2017.下のゼオライトを容易に製造づ−ること
が可能ぐあるばかりでなく、そのようなぜオライドが前
述しlc如き特異な活性を示ずことは驚くべきことであ
る。
上記原料ゼオライトZSM−5の処理に用いられるアル
カリ金属水酸化物としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リヂウチ等が上げられるが、中
でも特に水酸化す]〜リウムが好適である。かがるアル
カリ金属水酸化物の使用爪は、使用するZSM−5の1
g当り0.1g〜19であり、好ましくは0.2j〜0
.7CJの範囲、さらに好ましくは0.3g〜0.5g
の範囲とすることができる。
カリ金属水酸化物としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リヂウチ等が上げられるが、中
でも特に水酸化す]〜リウムが好適である。かがるアル
カリ金属水酸化物の使用爪は、使用するZSM−5の1
g当り0.1g〜19であり、好ましくは0.2j〜0
.7CJの範囲、さらに好ましくは0.3g〜0.5g
の範囲とすることができる。
アルカリ金属水酸化物は一般に水溶液の形で原料ゼAラ
イトZSIVI−5粒子と接触せしめられる。
イトZSIVI−5粒子と接触せしめられる。
この場合水の量は限界的ではなく、用いるZSM−5及
び/又はアルカリ金属水酸化物の種類や量等に応じて広
範に変えることができるが、通常、供給されたZSM−
5の全量が水溶液によって充分に浸漬されるに充分なm
以上であればよい。アルカリ金属水酸化物の水溶液中に
ありる濃麿も限界的ではなく広範に変えうるが、一般に
は1〜10重間%、りfましくは2〜7重量%の範囲が
適当である。
び/又はアルカリ金属水酸化物の種類や量等に応じて広
範に変えることができるが、通常、供給されたZSM−
5の全量が水溶液によって充分に浸漬されるに充分なm
以上であればよい。アルカリ金属水酸化物の水溶液中に
ありる濃麿も限界的ではなく広範に変えうるが、一般に
は1〜10重間%、りfましくは2〜7重量%の範囲が
適当である。
反応は80℃〜250℃、好ましくは100℃〜200
℃の範囲の温度に加熱することにJこって行なわれる。
℃の範囲の温度に加熱することにJこって行なわれる。
反応は前記特性をもつゼオライ1〜が実質的に生成する
まで行なうことが′Cき、その生成の目安として、形成
されたゼオライト/原料ゼオラ−(+−ZSM−50重
重量比用いることができる。ターなわら、反応は該重量
比が10〜80%の範囲、好ましくは20〜70%の範
囲、さらに女子ましくは30−60%の範囲になるまで
つづけることができる。
まで行なうことが′Cき、その生成の目安として、形成
されたゼオライト/原料ゼオラ−(+−ZSM−50重
重量比用いることができる。ターなわら、反応は該重量
比が10〜80%の範囲、好ましくは20〜70%の範
囲、さらに女子ましくは30−60%の範囲になるまで
つづけることができる。
かくして得られるゼオライ1−は前記の特定をイjし、
化学的組成は下記式で表わされる。
化学的組成は下記式で表わされる。
XM2 / n O’ Nl203・ysLo2・・−
・・・−” (II )[但し、式は無水の状態におり
る酸化物の形で表わしたものであり、Mは11値の一種
または二種以上の陽イオン、Xは0.5〜4、Vは10
〜200の値を示す。] ここでMは、方法Aで製造された直後のせオライドでは
アルカリ金属殊にナトリウムを表わ1が、これは通常知
られたイオン交換法に従って、水素イオン、アンモニウ
ムイオン、他の金属−(Aンなどの陽イオンに交換する
ことができる。もらろlυナトリウムイオン以外の他の
陽イオンに交換したものであっても本質的に本発明の前
記ゼオライ[・の要件を具備しているものである。
・・・−” (II )[但し、式は無水の状態におり
る酸化物の形で表わしたものであり、Mは11値の一種
または二種以上の陽イオン、Xは0.5〜4、Vは10
〜200の値を示す。] ここでMは、方法Aで製造された直後のせオライドでは
アルカリ金属殊にナトリウムを表わ1が、これは通常知
られたイオン交換法に従って、水素イオン、アンモニウ
ムイオン、他の金属−(Aンなどの陽イオンに交換する
ことができる。もらろlυナトリウムイオン以外の他の
陽イオンに交換したものであっても本質的に本発明の前
記ゼオライ[・の要件を具備しているものである。
また、1−記式(I)においてXはゼオライ1〜に結合
しているカチオンの量の指標であり、本発明のゼオライ
ドの場合には0.5〜4、好ましくは0.9〜3の範囲
内であることができる。
しているカチオンの量の指標であり、本発明のゼオライ
ドの場合には0.5〜4、好ましくは0.9〜3の範囲
内であることができる。
このh法Δによって七ノられたげオライドは前述した特
徴を有している他に、公知のゼA゛ライl−ZSM−5
及びその他の類似ビオライトと比較して上記の特徴を有
している。その特徴の1つは(シクUヘキ1ノン10−
ヘキサン)吸着比が界雷に人きいことである。この方法
AにJ:るゼオライ1へは前述吸着比が少なくとも0,
7、好ましくは少なくとも0.8、一層好ましくは0,
9以上の値を有している。(シクロヘキ゛リーン/11
−ヘキ1ノン)吸着比は、後述する定義に従って測定さ
れる値であるが、Z S M−5はそのWがいずれも0
.7よりも低い愉C′あって、0.7以上のものは本発
明者らが知る限り存イ1しない。
徴を有している他に、公知のゼA゛ライl−ZSM−5
及びその他の類似ビオライトと比較して上記の特徴を有
している。その特徴の1つは(シクUヘキ1ノン10−
ヘキサン)吸着比が界雷に人きいことである。この方法
AにJ:るゼオライ1へは前述吸着比が少なくとも0,
7、好ましくは少なくとも0.8、一層好ましくは0,
9以上の値を有している。(シクロヘキ゛リーン/11
−ヘキ1ノン)吸着比は、後述する定義に従って測定さ
れる値であるが、Z S M−5はそのWがいずれも0
.7よりも低い愉C′あって、0.7以上のものは本発
明者らが知る限り存イ1しない。
この吸着比は0−ヘキサンに対するシフ[1ヘキリンの
吸着割合を示す値であってこの値が高い程1iAライl
〜中の細孔の径(大ぎざ)が大きいことを示す指標とな
る。このh法ΔによるL’71ライトの吸着比の上限は
一般に1.3程瓜、典型的には1.2程度であり、この
ゼオライトは適度の細孔径をもっている。
吸着割合を示す値であってこの値が高い程1iAライl
〜中の細孔の径(大ぎざ)が大きいことを示す指標とな
る。このh法ΔによるL’71ライトの吸着比の上限は
一般に1.3程瓜、典型的には1.2程度であり、この
ゼオライトは適度の細孔径をもっている。
次にこのh法Aによって得られlcゼオライ1〜の特徴
を表わす指標である「(シクロベキ4Jン/1鬼−ヘキ
サン)吸着比」及び前記「シクロヘキリーン分解指数比
」の定義及び測定法についC詳細に説明する。
を表わす指標である「(シクロベキ4Jン/1鬼−ヘキ
サン)吸着比」及び前記「シクロヘキリーン分解指数比
」の定義及び測定法についC詳細に説明する。
この(シクロヘキサン/n−へキリン)吸着比は、ゼオ
ライトの単位重量当りに吸着されるn−ヘキサンの重量
に対するシクロへキリンの重量比を表わし、ゼオライ1
−の細孔径を規定づるパラメーターであり、この値ぐ大
きくなるということは、シクロヘキリンのような分子断
面積の大きい分子が細孔内に拡散しやりくなることを表
す。
ライトの単位重量当りに吸着されるn−ヘキサンの重量
に対するシクロへキリンの重量比を表わし、ゼオライ1
−の細孔径を規定づるパラメーターであり、この値ぐ大
きくなるということは、シクロヘキリンのような分子断
面積の大きい分子が細孔内に拡散しやりくなることを表
す。
ゼオライト単位重量当りの吸Mmは次のように測定され
る。即ち、電気炉中で450℃にて8時間焼成したベレ
ット状のゼオライトを吸着装置のスプリング・バランス
を用いて清科する。
る。即ち、電気炉中で450℃にて8時間焼成したベレ
ット状のゼオライトを吸着装置のスプリング・バランス
を用いて清科する。
次いで吸着内を真空にした後、60±2 /IaH(l
に達Jる迄シクロヘキサン又はI)−ヘキサンをガス状
にて導入し、20±1℃にて2時間保持する。
に達Jる迄シクロヘキサン又はI)−ヘキサンをガス状
にて導入し、20±1℃にて2時間保持する。
t’Jライトに吸着したシクロヘキサン又はn −ヘキ
サンの吸着量は吸着前後のスプリング・バランスの長さ
の差から測定Jることができる。
サンの吸着量は吸着前後のスプリング・バランスの長さ
の差から測定Jることができる。
シクロヘキサン分解指数比は、同一のシリカ/アルミナ
(モル比)を右1−る活性化された状態の1−1型ゼオ
ライトのシクロヘキサン分解指数の割合として定義され
る。
(モル比)を右1−る活性化された状態の1−1型ゼオ
ライトのシクロヘキサン分解指数の割合として定義され
る。
シクロヘキサン分解指数は、50重Mパーセン1〜のγ
−フルミナを含む10〜20メツシユのペレッ1−状に
成型したゼオライトを電気炉中で450℃に−(8時間
焼成した後、その一定重量を固定床反応器に充1眞し、
350℃、−気圧の条件下で(重量単位時間空間速度W
HS V = 2 HR−1(全重量基準)のシクロ
ヘキサン及び水素/シクロヘキサン−2/1 (モル比
)の水素を供給することによって測定される。この時の
シクロヘキサンの転化吊(フィート100fi量当り)
をシクロヘキサン分解指数という。尚、W 118 V
は次式により算出される値である。
−フルミナを含む10〜20メツシユのペレッ1−状に
成型したゼオライトを電気炉中で450℃に−(8時間
焼成した後、その一定重量を固定床反応器に充1眞し、
350℃、−気圧の条件下で(重量単位時間空間速度W
HS V = 2 HR−1(全重量基準)のシクロ
ヘキサン及び水素/シクロヘキサン−2/1 (モル比
)の水素を供給することによって測定される。この時の
シクロヘキサンの転化吊(フィート100fi量当り)
をシクロヘキサン分解指数という。尚、W 118 V
は次式により算出される値である。
単位時間当りの炭化水素原料の供給■聞触 媒 の 重
量 庇且 この方法Bもまた本発明者らが先に見出し既に提案した
方法であり、その出願は昭和58年7月6日に「結晶性
アルミノシリケ−1−L’オライドの製造方法J3よび
新規結晶性アルミノシリヶー(・ゼオ−ライト」という
発明の名称で出願された。その内容はその出願明細間に
具体的且つ詳細な説明されているが以下にその要旨を説
明する。
量 庇且 この方法Bもまた本発明者らが先に見出し既に提案した
方法であり、その出願は昭和58年7月6日に「結晶性
アルミノシリケ−1−L’オライドの製造方法J3よび
新規結晶性アルミノシリヶー(・ゼオ−ライト」という
発明の名称で出願された。その内容はその出願明細間に
具体的且つ詳細な説明されているが以下にその要旨を説
明する。
この方法Bは、シリカ源、アルミナ源並びにげオライド
ZSM−5及び下記の示7特性をもつゼオライトから選
ばれるゼオライトを、該ビオライ1−1g当り1〜20
0ミリモルのアルカリ金属水酸化物を含む水溶液中にて
、結晶性アルミノシリケートゼオライトが生成するよう
な温度、圧力及び時間条件下に維持することを特徴とプ
る、下記の特性をもつ; (a) シリカ/アルミナのモル比が10〜100の範
囲にあり 山〉 X線格子面間隔dが明細書の表−八に示したとお
りであり、且つ (C)n−−へキリンの比吸着■が少なくとも0.07
g/9である、 結晶性アルミノシリケートゼA−ライトの製造方法であ
る。
ZSM−5及び下記の示7特性をもつゼオライトから選
ばれるゼオライトを、該ビオライ1−1g当り1〜20
0ミリモルのアルカリ金属水酸化物を含む水溶液中にて
、結晶性アルミノシリケートゼオライトが生成するよう
な温度、圧力及び時間条件下に維持することを特徴とプ
る、下記の特性をもつ; (a) シリカ/アルミナのモル比が10〜100の範
囲にあり 山〉 X線格子面間隔dが明細書の表−八に示したとお
りであり、且つ (C)n−−へキリンの比吸着■が少なくとも0.07
g/9である、 結晶性アルミノシリケートゼA−ライトの製造方法であ
る。
このb法Bは、従来のZSM−5の製造におけるように
右奢幾アミン類を実質的に使用づることなく、換名1れ
ば、かかるイjl!!アミンに由来1”る有機カヂAン
が実質的に存在しない条件下であっても、ZSM−5又
は方法已によって予め製造されたゼオライ1〜の存在下
に、ゼオライトの製造を行なうことに木質的特徴を有づ
”る。
右奢幾アミン類を実質的に使用づることなく、換名1れ
ば、かかるイjl!!アミンに由来1”る有機カヂAン
が実質的に存在しない条件下であっても、ZSM−5又
は方法已によって予め製造されたゼオライ1〜の存在下
に、ゼオライトの製造を行なうことに木質的特徴を有づ
”る。
この方法Bは、原料として通常ビオライトの合成に使用
されるシリカ源、アルミナ源及びアルカリ金属水酸化物
の水溶液と、ゼオライl−Z S M −5及び方法B
で製造されるゼオライトから選ばれる出発ゼオライトを
使用するのみで、原料として使用した出発ゼオライトに
対して数倍、好適条件下では拾数倍に相当する極めて高
い収率Cビオラ−(トを合成することができる。
されるシリカ源、アルミナ源及びアルカリ金属水酸化物
の水溶液と、ゼオライl−Z S M −5及び方法B
で製造されるゼオライトから選ばれる出発ゼオライトを
使用するのみで、原料として使用した出発ゼオライトに
対して数倍、好適条件下では拾数倍に相当する極めて高
い収率Cビオラ−(トを合成することができる。
この方法Bにおいて、シリカ源としては、ぜオライド製
造に通常に使用されるものがいづれも使用可能であり、
例えばシリカ粉末、コロイド状シリカ、水溶性ケイ素化
合物、ケイ酸などが挙げられる。これらの貝体例を詳し
く説明すると、シリカ粉末としては、エーロジルシリカ
、発煙シリカ。
造に通常に使用されるものがいづれも使用可能であり、
例えばシリカ粉末、コロイド状シリカ、水溶性ケイ素化
合物、ケイ酸などが挙げられる。これらの貝体例を詳し
く説明すると、シリカ粉末としては、エーロジルシリカ
、発煙シリカ。
シリカゲルの如きアルカリ金属ケイ酸塩から沈降法によ
り製造された沈降シリカが好適であり、コロイド状シリ
カとしては、種々の粒子径のもの例えば10〜50ミク
ロンの粒子径のものが右利に使用できる。また、水溶性
ケイ素化合物とし−(は、アルカリ金属オキシド1モル
に対しU Si o21 ” 5モル特に2〜4モルを
含有覆るアルカリ金属ケイ酸塩例えば水ガラス、ケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウムなどが挙げられる。シリカ
源としては就中、」ロイ1へ状シリカまたは水力ラスが
好ましい。
り製造された沈降シリカが好適であり、コロイド状シリ
カとしては、種々の粒子径のもの例えば10〜50ミク
ロンの粒子径のものが右利に使用できる。また、水溶性
ケイ素化合物とし−(は、アルカリ金属オキシド1モル
に対しU Si o21 ” 5モル特に2〜4モルを
含有覆るアルカリ金属ケイ酸塩例えば水ガラス、ケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウムなどが挙げられる。シリカ
源としては就中、」ロイ1へ状シリカまたは水力ラスが
好ましい。
一方、アルミナ源としては、一般にゼオラーrトの製造
に使用されているものは、いずれも使用可能であり、例
えば、アルミナ、アルミニ「クムの鉱酸塩、アルミン酸
塩などが挙げられ、具体的にはコロイド状アルミナ、ブ
ソイドベーマイ1〜.べ一マイ1〜.γ−アルミナ、α
−アルミナ、β−アルミナ・三水和物の如き水和された
もしくは水和されうる状態のアルミナ;塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム:アルミン酸
すトリウム、アルミン酸カリウムなどが例示されるが、
この中でアルミン酸ナトリウムまl(はアルミニウムの
鉱酸塩が好適である。
に使用されているものは、いずれも使用可能であり、例
えば、アルミナ、アルミニ「クムの鉱酸塩、アルミン酸
塩などが挙げられ、具体的にはコロイド状アルミナ、ブ
ソイドベーマイ1〜.べ一マイ1〜.γ−アルミナ、α
−アルミナ、β−アルミナ・三水和物の如き水和された
もしくは水和されうる状態のアルミナ;塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム:アルミン酸
すトリウム、アルミン酸カリウムなどが例示されるが、
この中でアルミン酸ナトリウムまl(はアルミニウムの
鉱酸塩が好適である。
また、シリカ及びアルミナ共通の供給源としてアルミノ
クイ酸塩化合物、例えば天然に産出される長6類、カオ
リン、酸性]白土、ベンドブイト。
クイ酸塩化合物、例えば天然に産出される長6類、カオ
リン、酸性]白土、ベンドブイト。
モンモリロナイト等を使用りることも可能であり、これ
らアルミノケイ酸塩を前述したシリカ源及びまたはシリ
カ源の一部または全部と代替してもよい。
らアルミノケイ酸塩を前述したシリカ源及びまたはシリ
カ源の一部または全部と代替してもよい。
本発明の原料混合物におりるシリカ源のけは5LO2に
換算して一般に、原料と覆る出発ゼオライド1g当り0
.1〜200ミリモルの範囲、好ましくは1〜100ミ
リモルの範囲、さらに好ましくは5〜80ミリモルの範
囲内と覆ることが右利であり、またアルミナ源の母はN
2O3に換算しC一般に出発ゼオライト1グ当り 0.
01〜20ミリしル、りfましくは0.1〜10ミリモ
ル、さらに好ましくは0.5〜5ミリモルの範囲内とな
るようにJることか好ましい。且つ、このシリカ源とア
ルミナ源の混合比は限定的ではないが、一般にはそれぞ
れ5Lo2及びM 203に換算してS= Oe /
A# 203モル比が1〜200の範囲、好ましくは5
〜100の範囲内となるようにすることが好ましい。こ
のモル比が1よりも少ないと目的とするげオライドは得
られず、ま 、た200を越えると変性の割合が低くな
る、。
換算して一般に、原料と覆る出発ゼオライド1g当り0
.1〜200ミリモルの範囲、好ましくは1〜100ミ
リモルの範囲、さらに好ましくは5〜80ミリモルの範
囲内と覆ることが右利であり、またアルミナ源の母はN
2O3に換算しC一般に出発ゼオライト1グ当り 0.
01〜20ミリしル、りfましくは0.1〜10ミリモ
ル、さらに好ましくは0.5〜5ミリモルの範囲内とな
るようにJることか好ましい。且つ、このシリカ源とア
ルミナ源の混合比は限定的ではないが、一般にはそれぞ
れ5Lo2及びM 203に換算してS= Oe /
A# 203モル比が1〜200の範囲、好ましくは5
〜100の範囲内となるようにすることが好ましい。こ
のモル比が1よりも少ないと目的とするげオライドは得
られず、ま 、た200を越えると変性の割合が低くな
る、。
アルカリ金属水酸化物としては特に水酸化ナトリウム及
び水酸化カリウムが9f適であり、これらはそれぞれ単
独で用いることができ、或いは組合わ1IC用いてもよ
い。
び水酸化カリウムが9f適であり、これらはそれぞれ単
独で用いることができ、或いは組合わ1IC用いてもよ
い。
かかるアルカリ金属水酸化物は出発ゼオライ1〜1g当
り1〜200ミリモル、好ましくは5〜100ミリモル
、さりにaIましくは10〜80ミリモルの範囲の■で
使用される。また、前記シリカ源及びアルミナ源に対し
てアルカリ金属水酸化物は、アルカリ金属ケ酸塩’4’
)J / (5io2 +/’j1203 ) ’Eル
比に換算して、一般に0.1〜10.好ましくは0.2
〜5、さらにりfましくは0.3〜1の範囲内の量で使
用される。
り1〜200ミリモル、好ましくは5〜100ミリモル
、さりにaIましくは10〜80ミリモルの範囲の■で
使用される。また、前記シリカ源及びアルミナ源に対し
てアルカリ金属水酸化物は、アルカリ金属ケ酸塩’4’
)J / (5io2 +/’j1203 ) ’Eル
比に換算して、一般に0.1〜10.好ましくは0.2
〜5、さらにりfましくは0.3〜1の範囲内の量で使
用される。
上記アルカリ金属水酸化物は通常水溶液の形で使用され
、その際の水溶液中におけるアルカリ金属水酸化物の部
用は一般に、反応系中の水の全量を1% 11にしてホ
1モル当り1〜100ミリモル、好ましくは5〜50ミ
リモル、さらに好ましくは10・〜40ミリtルどりる
のが好都合である。
、その際の水溶液中におけるアルカリ金属水酸化物の部
用は一般に、反応系中の水の全量を1% 11にしてホ
1モル当り1〜100ミリモル、好ましくは5〜50ミ
リモル、さらに好ましくは10・〜40ミリtルどりる
のが好都合である。
さらに、/J法13においC1生成げオライドの結晶1
(1体どなりうる出発ZSM−5は公知のものであり、
アルカリ金属カチオンと共に成る特定の有機カチオンを
組み合わせ、シリカ源、アルミナ源と共にアルカリ水溶
液中において水熱合成条イ9下で合成されるところの公
知の方法に従つC得ることができる(例えば、特公昭4
6− 40064号公報参照)。
(1体どなりうる出発ZSM−5は公知のものであり、
アルカリ金属カチオンと共に成る特定の有機カチオンを
組み合わせ、シリカ源、アルミナ源と共にアルカリ水溶
液中において水熱合成条イ9下で合成されるところの公
知の方法に従つC得ることができる(例えば、特公昭4
6− 40064号公報参照)。
この公知の方法で合成したlff171ライトZSM−
5は通常十分水洗した後、例えば300〜700℃、好
ましくは400〜600°Cの範l111の温度で焼成
づることによって有機カチオンが除去される。しかしな
がら、本方法Bで使用する23M75にはかかる有機カ
チオンを焼II l、たちの(−あつ′Cb或いは残留
したものであっても差支えない。
5は通常十分水洗した後、例えば300〜700℃、好
ましくは400〜600°Cの範l111の温度で焼成
づることによって有機カチオンが除去される。しかしな
がら、本方法Bで使用する23M75にはかかる有機カ
チオンを焼II l、たちの(−あつ′Cb或いは残留
したものであっても差支えない。
また、原料混合物であるZSM−51271ライトは、
前記の焼成操作の後に、公知の7j法に従っC1ゼオラ
イト中に元々存在するイオンの一部または全部を他のカ
チオン例えばリヂ1クム、銀、アン[ニウムなどの一部
カチオン;マグネシウム、カルシウム、バリウムなどの
二価のアルカリ上類カチオン:コバル1〜.ニッケル、
白金、パラジウム等の第■族金属カチオン;稀土類金属
の如き111価のカヂAンによってイオン交換したもの
であっても良い。
前記の焼成操作の後に、公知の7j法に従っC1ゼオラ
イト中に元々存在するイオンの一部または全部を他のカ
チオン例えばリヂ1クム、銀、アン[ニウムなどの一部
カチオン;マグネシウム、カルシウム、バリウムなどの
二価のアルカリ上類カチオン:コバル1〜.ニッケル、
白金、パラジウム等の第■族金属カチオン;稀土類金属
の如き111価のカヂAンによってイオン交換したもの
であっても良い。
さらに、この方法Bでは、上記23M−5ゼオライl−
の代わりに、この方法Bで得られたゼオライトを出発げ
オライドとしC用いでも本発明の目的を達成することも
できる。かかるゼオライトの形態は、それが合成直後の
スラリー状であっても良く、濾液と分離し、乾燥、焼成
過程を経たものCあっCも良い。さらに該1iAライト
が前記ZStvl −51ffiオライ1〜と同様に、
前記金属カチAンとイオン交換したものであっても全く
さしつかえない。
の代わりに、この方法Bで得られたゼオライトを出発げ
オライドとしC用いでも本発明の目的を達成することも
できる。かかるゼオライトの形態は、それが合成直後の
スラリー状であっても良く、濾液と分離し、乾燥、焼成
過程を経たものCあっCも良い。さらに該1iAライト
が前記ZStvl −51ffiオライ1〜と同様に、
前記金属カチAンとイオン交換したものであっても全く
さしつかえない。
方法Bにおいては、前記した如き、シリカ河;。
アルミプ源、アルカリ金属水酸化物、ゼオライ1〜およ
び水を前述した如き割合となるような原料混合物とし、
その混合物を結晶性ゼオライトが生成するのに充分な湿
度、圧力及び時間条件下に維持づることによりゼオライ
1への合成が行われる。
び水を前述した如き割合となるような原料混合物とし、
その混合物を結晶性ゼオライトが生成するのに充分な湿
度、圧力及び時間条件下に維持づることによりゼオライ
1への合成が行われる。
シリカ源、アルミナ源、アルカリ金属水酸化物及び水は
前述した割合と覆る他に、原料混合物中のシリカ源、ア
ルミナ源及びアルカリ金属水酸化物を、それぞれ5LO
2、N 203及びアルカリ金属に基づく水酸イオン(
OH−)で表わして5L02 / /V 203 =
1〜200、り「ましくは5〜100、更に好ま しくは10〜80、 OH−/ (SjOp+/VaO3) = 0.1〜1
0、好ましくは0.2〜5、さらに 好ましくは0.3〜1. 0)1− /H,、o = 0.001〜0.1、好ま
しくは0.005〜0.0!i 、さらに好ましくは0
.011〜0.04、 を満足する割合で使用Jるのが一層有利Cある。
前述した割合と覆る他に、原料混合物中のシリカ源、ア
ルミナ源及びアルカリ金属水酸化物を、それぞれ5LO
2、N 203及びアルカリ金属に基づく水酸イオン(
OH−)で表わして5L02 / /V 203 =
1〜200、り「ましくは5〜100、更に好ま しくは10〜80、 OH−/ (SjOp+/VaO3) = 0.1〜1
0、好ましくは0.2〜5、さらに 好ましくは0.3〜1. 0)1− /H,、o = 0.001〜0.1、好ま
しくは0.005〜0.0!i 、さらに好ましくは0
.011〜0.04、 を満足する割合で使用Jるのが一層有利Cある。
上記のゼオライト合成反応の温度は限定的でtまなく、
従来のZSM−5製造の際の温度条件ど本質的に同じ範
囲とすることができ、通常90℃以上、好ましくは10
0〜250℃、さらに好ましくは120〜200℃の範
囲の温度が右利に用いられる。
従来のZSM−5製造の際の温度条件ど本質的に同じ範
囲とすることができ、通常90℃以上、好ましくは10
0〜250℃、さらに好ましくは120〜200℃の範
囲の温度が右利に用いられる。
更にこの方法Bを用いるならば、従来の方法J、りも著
しく反応′a度が促進されている結果、反応時間は通常
30分〜7日、好ましくは1時間〜2日、特に好ましく
は2時間・〜1日で充分である。圧力は71−1−クレ
ープ中での自生圧乃至それ以上の加圧が適用され、自生
圧下に行うのが一般的で、窒素ガスなどの不活性ガス雰
凹気下C行つCも良い。
しく反応′a度が促進されている結果、反応時間は通常
30分〜7日、好ましくは1時間〜2日、特に好ましく
は2時間・〜1日で充分である。圧力は71−1−クレ
ープ中での自生圧乃至それ以上の加圧が適用され、自生
圧下に行うのが一般的で、窒素ガスなどの不活性ガス雰
凹気下C行つCも良い。
この方法に従いゼオライ1−を合成Jるにあっては、前
述した原料成分の全てを混合物とし゛で反応釜に仕込み
前記の条f1下で反応を行うバッチ方式を用いることが
できる。或いはアルカリ金属水酸化物の水溶液及び出発
ゼオライhを予め什込んlこ反応釜にスラリー状のシリ
カ源、アルミブ源を連続的に送給しつつ段階的に反応を
fiわVしめる連続方法を用いても良い。
述した原料成分の全てを混合物とし゛で反応釜に仕込み
前記の条f1下で反応を行うバッチ方式を用いることが
できる。或いはアルカリ金属水酸化物の水溶液及び出発
ゼオライhを予め什込んlこ反応釜にスラリー状のシリ
カ源、アルミブ源を連続的に送給しつつ段階的に反応を
fiわVしめる連続方法を用いても良い。
さらに、前記/j法ぐ得られた生成物の一部を取り出し
、これに新たにアルカリ金属水酸化物の水溶液、シリノ
」−(i及びアルミナ源をバッチ式で或いはi!l!続
的に送給しく反応を行わせることもできる。
、これに新たにアルカリ金属水酸化物の水溶液、シリノ
」−(i及びアルミナ源をバッチ式で或いはi!l!続
的に送給しく反応を行わせることもできる。
ゼオライI−の形成反応は、所望の湿度に原料混合物を
1111熱し、要づれば攪拌下にゼオライトが形成され
る迄継続される。
1111熱し、要づれば攪拌下にゼオライトが形成され
る迄継続される。
かくして結晶が形成された後、反応混合物を苗温まで冷
却し濾過し、例えばイオン伝導度が50μV/cm以下
となる迄水洗し、結晶を分別する。さらに要すれば、結
晶は乾燥する為に、常圧或いは減圧下で50℃以上で5
〜24 U、1間保持される。
却し濾過し、例えばイオン伝導度が50μV/cm以下
となる迄水洗し、結晶を分別する。さらに要すれば、結
晶は乾燥する為に、常圧或いは減圧下で50℃以上で5
〜24 U、1間保持される。
かくして上記方法13によるならば、原v1どして通常
、ゼオライトの合成に使用されるシリカ源。
、ゼオライトの合成に使用されるシリカ源。
アルミナ源及びアルカリ金属水溶液の他にゼオライ1〜
ZSM−5或いは、方法13 F 14)られるL”7
1ライ[・を使用するのみで原料として使用したゼオラ
イトに対して、バッチ式では数’Ii’S 、好適条(
!1 F ’Uは袷数倍に相当する量のL’71ライ1
−を合成することができ、連続式では百倍以上のゼオラ
イ1−合成も可能である。
ZSM−5或いは、方法13 F 14)られるL”7
1ライ[・を使用するのみで原料として使用したゼオラ
イトに対して、バッチ式では数’Ii’S 、好適条(
!1 F ’Uは袷数倍に相当する量のL’71ライ1
−を合成することができ、連続式では百倍以上のゼオラ
イ1−合成も可能である。
かくして得られたL’71ライトは、陽イオンがアルカ
リ金属イオンを含有するものでありそれ自体公知の方法
、例えばこれに塩化アンモニウム水溶液を作用させてイ
オン交換しカチAンザイ1−をアンモニウムイオンで置
換°することもぐき、これをさらに焼成り−れば、アン
モニウム・イオンを活性化された状態である水素ビオ“
ンに変えることができる。
リ金属イオンを含有するものでありそれ自体公知の方法
、例えばこれに塩化アンモニウム水溶液を作用させてイ
オン交換しカチAンザイ1−をアンモニウムイオンで置
換°することもぐき、これをさらに焼成り−れば、アン
モニウム・イオンを活性化された状態である水素ビオ“
ンに変えることができる。
更に、得られたゼオライ1〜のアルカリ金属イオンの一
部又は全部を他のカチオンと交換することもできる。イ
オン交換し得るカチオンとしては、例えばリチウム。カ
リウム、銀などの一部金属力ブーAン;マグネシウム、
カルシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属カチオン
;マンガン、鉄。
部又は全部を他のカチオンと交換することもできる。イ
オン交換し得るカチオンとしては、例えばリチウム。カ
リウム、銀などの一部金属力ブーAン;マグネシウム、
カルシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属カチオン
;マンガン、鉄。
コバルl−、ニッケル、銅、亜鉛などの二価遷移金属カ
ヂAン;ロジウム、パラジウム、白金などの白金属を含
むカチオン;ランタン、セリウムなどの稀土類金属カチ
オンなどが含まれる。
ヂAン;ロジウム、パラジウム、白金などの白金属を含
むカチオン;ランタン、セリウムなどの稀土類金属カチ
オンなどが含まれる。
前記の種々のカチオンと交換する場合には、公知の方法
に従って行えば良く、ゼオライトを所望りるカチオンを
含@Jる水溶液を含む水溶性もしくは、非水溶性の媒体
と接触処理づれば良い。かかる接触処理は、バッチまた
は連続式のいずれの方式によってb達成できる。
に従って行えば良く、ゼオライトを所望りるカチオンを
含@Jる水溶液を含む水溶性もしくは、非水溶性の媒体
と接触処理づれば良い。かかる接触処理は、バッチまた
は連続式のいずれの方式によってb達成できる。
かくして得られたL!71ライトは100〜600℃、
好ましくは300〜500°Cの温度で、5〜40時間
、好ましくは8〜24時間焼成してもにり、この焼成し
1cものも本発明のゼオライ1−としC使用される。
好ましくは300〜500°Cの温度で、5〜40時間
、好ましくは8〜24時間焼成してもにり、この焼成し
1cものも本発明のゼオライ1−としC使用される。
この方法BによつC得られたぜAライトは前記した特徴
を有している他に公知のゼオライ1〜ZSM−5及びそ
の他の類似ゼオライ1〜と比較して下記の如ぎ特徴を右
している。その特徴の1つは、n−ヘキサンの比較着量
が少なくとt、+ 0.079/グであるという極めて
高い値を有づることである。
を有している他に公知のゼオライ1〜ZSM−5及びそ
の他の類似ゼオライ1〜と比較して下記の如ぎ特徴を右
している。その特徴の1つは、n−ヘキサンの比較着量
が少なくとt、+ 0.079/グであるという極めて
高い値を有づることである。
このn−ヘキサンの比較着量は下記の定義に従って測定
された値である。n−ベキ1ノンの比較着量はゼオライ
トの細孔容積に関連する要因であり、この値が大きいこ
とはゼオライトのチャンネルの細孔容積が大きいことを
意味する。しかし0−ヘキサンの比較着量には自ずと上
限があり、この方法Bにより製造されるゼオライ1〜の
n−ヘキサンの比吸@量−の上限は一般に0.19/1
jIIi!度、典型的には0.08g/g程度であり、
好適には0.07〜0.09gzlの範囲のn−ベキ1
ナン比吸着mを有している。
された値である。n−ベキ1ノンの比較着量はゼオライ
トの細孔容積に関連する要因であり、この値が大きいこ
とはゼオライトのチャンネルの細孔容積が大きいことを
意味する。しかし0−ヘキサンの比較着量には自ずと上
限があり、この方法Bにより製造されるゼオライ1〜の
n−ヘキサンの比吸@量−の上限は一般に0.19/1
jIIi!度、典型的には0.08g/g程度であり、
好適には0.07〜0.09gzlの範囲のn−ベキ1
ナン比吸着mを有している。
前記方法Bにより製造されるゼオライトのさらにもう1
つの特性として(2−メチルペンタン/シクロヘキサン
)吸着比を挙げることができる。
つの特性として(2−メチルペンタン/シクロヘキサン
)吸着比を挙げることができる。
この吸着比は後述する方法で測定される値であるがこの
ゼオライトは一般に1.1〜1.6、好ましくは1.2
〜1.5、さらに好ましくは1.25〜1.45の範囲
の(2−メチルペンタン/シクロヘキサン)吸着比を持
つことができる。
ゼオライトは一般に1.1〜1.6、好ましくは1.2
〜1.5、さらに好ましくは1.25〜1.45の範囲
の(2−メチルペンタン/シクロヘキサン)吸着比を持
つことができる。
この(2−メチルペンタン/シクロヘキサン)吸着比は
ゼオライ1−のチャンネルの細孔径に関連する要因であ
り、この値が大きいことはシクロヘキ4ノン分子の如き
その断面の大きな分子はそのゼオライトのチャンネルに
入り難く、一方シクロヘキサンよりその断面が小さい2
−メチルペンタン分子がそのチ1!ンネルに入り易いこ
とを意味する。
ゼオライ1−のチャンネルの細孔径に関連する要因であ
り、この値が大きいことはシクロヘキ4ノン分子の如き
その断面の大きな分子はそのゼオライトのチャンネルに
入り難く、一方シクロヘキサンよりその断面が小さい2
−メチルペンタン分子がそのチ1!ンネルに入り易いこ
とを意味する。
従って、吸着比が上記範囲のチャンネルの細孔径を右づ
るゼオライトを触媒として使用づる場合には特異な形状
選択性を発揮するため工業的には1dtihl)の高い
新規な触媒となる。
るゼオライトを触媒として使用づる場合には特異な形状
選択性を発揮するため工業的には1dtihl)の高い
新規な触媒となる。
次に方法Bのビオライ1〜の特徴を表わす指標である「
n−ヘキサンの比吸@量」及び「(2−メチルペンタン
/シクロヘキサン)吸着比」の定義及び測定法について
詳細に説明する。
n−ヘキサンの比吸@量」及び「(2−メチルペンタン
/シクロヘキサン)吸着比」の定義及び測定法について
詳細に説明する。
(1)n−ヘキサンの比較着量
この指数は下記の一定条件下においてゼオライト1g重
量に吸着されるn−ヘキサンの重量として定義され次の
ように測定される。即ち電気マツフル炉中で450℃、
8時間焼成したペレット状ゼオライトを吸着装置のスプ
リングバランスを用いて精秤する。次いで吸着管内を1
時間排気(0朧1−1(1)した後、吸着管内が50±
1mm l−10に達するまで0−ヘキサンをガス状に
て導入し、室温(20±1℃)にて2 vI間保持り−
る吸着したn−ヘキサンの重量は吸着前後のスプリング
バランスの長さの差から粋出することができる。
量に吸着されるn−ヘキサンの重量として定義され次の
ように測定される。即ち電気マツフル炉中で450℃、
8時間焼成したペレット状ゼオライトを吸着装置のスプ
リングバランスを用いて精秤する。次いで吸着管内を1
時間排気(0朧1−1(1)した後、吸着管内が50±
1mm l−10に達するまで0−ヘキサンをガス状に
て導入し、室温(20±1℃)にて2 vI間保持り−
る吸着したn−ヘキサンの重量は吸着前後のスプリング
バランスの長さの差から粋出することができる。
(i)(2−メチルペンタン/シクロヘキサン)吸着比
この指数は一定条件の条件下におい゛CLオライI〜1
g当りに吸着されるシクロヘキ+j”ンの重量に対する
2−メチルペンタンの重量比で表わされる。各成分の吸
着量の測定方法は上記(1)項と全く同じである。
g当りに吸着されるシクロヘキ+j”ンの重量に対する
2−メチルペンタンの重量比で表わされる。各成分の吸
着量の測定方法は上記(1)項と全く同じである。
なJ3前記方法Bにより得られたゼオライトの化学的組
成は前記方法Aのせオライドのそれとほぼ同じであるの
でここでは説明を省略する。
成は前記方法Aのせオライドのそれとほぼ同じであるの
でここでは説明を省略する。
h法C
特開昭56−17926号公報記載の方法により得られ
たゼオライト 方法り 特開昭57−123815号公報記載の方法により得ら
れたけAライ1〜 7’j法F 1:j lft1 flit 51−67299号公報
記載のゼオライl−これらの方法C〜方法Eのゼオライ
1〜は本発明にJ5いで特定した特徴を有し−Cいるが
、他に(シフ1」ヘキ4)゛ン/11−ヘキサン)吸着
比が0.7より小さく、一般には0.4〜0.7である
点が特徴の1つである。さらに他の特徴はn−ヘキサジ
の比吸着mが0.03〜0.069/gの比較的小さい
値を有していることである。
たゼオライト 方法り 特開昭57−123815号公報記載の方法により得ら
れたけAライ1〜 7’j法F 1:j lft1 flit 51−67299号公報
記載のゼオライl−これらの方法C〜方法Eのゼオライ
1〜は本発明にJ5いで特定した特徴を有し−Cいるが
、他に(シフ1」ヘキ4)゛ン/11−ヘキサン)吸着
比が0.7より小さく、一般には0.4〜0.7である
点が特徴の1つである。さらに他の特徴はn−ヘキサジ
の比吸着mが0.03〜0.069/gの比較的小さい
値を有していることである。
前記したゼオライ]〜の合成法の具体例のうち、方法A
および方法Bによって得られたゼオライ1〜を使用する
と、本発明の目的どするメチル置換ナフタレン類のトラ
ンスメチル化活性が一層高く、より選択的な異性化を起
すことのできる触媒を1r7ることができるのでより好
ましい。
および方法Bによって得られたゼオライ1〜を使用する
と、本発明の目的どするメチル置換ナフタレン類のトラ
ンスメチル化活性が一層高く、より選択的な異性化を起
すことのできる触媒を1r7ることができるのでより好
ましい。
本発明の触媒に使用されるゼオライトは、その全カチオ
ンサイトの少なくとも50%、好ましくは少なくとも7
0%が水素カチオン(l−1+)′c占められているも
のである。この範囲よりも水素カブ〜Aン(ト1+)の
割合が低いゼオライトの場合は、一般にゼオライトのカ
チオンを水素カチオンにイオン交換するそれ自体知られ
た方法によっ−C1十記範囲の水素カチオンを有するゼ
オライトに調製りることができる。1−なわち、例えば
塩酸、1.l’1M。
ンサイトの少なくとも50%、好ましくは少なくとも7
0%が水素カチオン(l−1+)′c占められているも
のである。この範囲よりも水素カブ〜Aン(ト1+)の
割合が低いゼオライトの場合は、一般にゼオライトのカ
チオンを水素カチオンにイオン交換するそれ自体知られ
た方法によっ−C1十記範囲の水素カチオンを有するゼ
オライトに調製りることができる。1−なわち、例えば
塩酸、1.l’1M。
硫酸などの鉱酸による浸漬処理或いはアンモニウムイオ
ン(NH4” )と交換の後焼成によってカチオンサイ
トを前記範囲の水素カチオン(+−1+)へ変換するこ
とができる。
ン(NH4” )と交換の後焼成によってカチオンサイ
トを前記範囲の水素カチオン(+−1+)へ変換するこ
とができる。
前記範囲の水素カチオン(1」″)以外のカチオンは、
種々の金属カチオンで占められていてもよい。例えばB
e 、M(1、Ca 、Sr 、 Baの如きアルカリ
土類金属カチオン、l−a、Ceの如きランタニド金属
カチオンで占められていてもよい。
種々の金属カチオンで占められていてもよい。例えばB
e 、M(1、Ca 、Sr 、 Baの如きアルカリ
土類金属カチオン、l−a、Ceの如きランタニド金属
カチオンで占められていてもよい。
ま /jFe、 Go、 Ni 、 Ru、 Rh、
Pd、 Os。
Pd、 Os。
lr、l)tなどの周期律表第8族金属でイオン交換さ
れていてもよくまたこれらの金属は担持されていてもよ
い。この第8族金属をイオン交換もしくは担持したゼオ
ライトは、本発明の1〜ランスメチル化反応に使用した
場合、反応の経過と共に触媒表面上に炭素質物の発生が
抑制され、長時間活性を持続づることができるという効
果を有している。
れていてもよくまたこれらの金属は担持されていてもよ
い。この第8族金属をイオン交換もしくは担持したゼオ
ライトは、本発明の1〜ランスメチル化反応に使用した
場合、反応の経過と共に触媒表面上に炭素質物の発生が
抑制され、長時間活性を持続づることができるという効
果を有している。
本発明のIAライトは、それ自体パウダー状ぐ使用づる
こともてきるし、また成形物とじて例えばペレット状、
タブレット状として使用することも出来る。成形物とし
て使用覆る場合、成形物中のゼオライ1−の含有割合は
単量で1〜100%、りfj、しくは1()〜90%の
範囲がイJ刊である。さらにゼオライトを成形するには
一般にゼオライトの結合剤として使用される耐火性無機
酸化物、例えばシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、
シリノコマグネシア、力Aリンなどが使用されるがとり
わりアルミナが好ましい。
こともてきるし、また成形物とじて例えばペレット状、
タブレット状として使用することも出来る。成形物とし
て使用覆る場合、成形物中のゼオライ1−の含有割合は
単量で1〜100%、りfj、しくは1()〜90%の
範囲がイJ刊である。さらにゼオライトを成形するには
一般にゼオライトの結合剤として使用される耐火性無機
酸化物、例えばシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、
シリノコマグネシア、力Aリンなどが使用されるがとり
わりアルミナが好ましい。
前記触媒は、金属を含有す゛る場合には本発明の反応に
供する前に還元雰囲気下(例えば水素含有ガス雰囲気下
)で例えば200〜600℃、好ましくは250〜55
0℃の温度で還元熱処理することが11fましい。この
還元熱処理は触媒を反応器中に充填する前に行ってもよ
くまた後に行ってもよい。
供する前に還元雰囲気下(例えば水素含有ガス雰囲気下
)で例えば200〜600℃、好ましくは250〜55
0℃の温度で還元熱処理することが11fましい。この
還元熱処理は触媒を反応器中に充填する前に行ってもよ
くまた後に行ってもよい。
■ 触媒組成物
本発明のナフタレン類のメチル化においては、前記した
結晶性アルミノシリケートゼオライトを含有する触媒で
あれば、その触媒の調製及び形態は、通常ゼオライト触
媒に採用されている方法や形態であることができる。
結晶性アルミノシリケートゼオライトを含有する触媒で
あれば、その触媒の調製及び形態は、通常ゼオライト触
媒に採用されている方法や形態であることができる。
しかし、前記ゼオライトに白金、パラジウム。
ロジウム又はイリジウムの如き金属を組合せ“C使用す
ることもできる。この場合、これら金属は触媒組成物当
りo、ooi〜5重量%の範囲含有するのが望ましい。
ることもできる。この場合、これら金属は触媒組成物当
りo、ooi〜5重量%の範囲含有するのが望ましい。
またゼオライトの触媒組成物として一般的に使用される
シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、シリカ−マグネ
シア、力Aリンなどの結合剤を使用して触媒組成物を調
製することができる。
シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、シリカ−マグネ
シア、力Aリンなどの結合剤を使用して触媒組成物を調
製することができる。
調製された触媒組成物は、粉末状で使用することも出来
、また成形物として例えばペレット状。
、また成形物として例えばペレット状。
タブレット状として使用することができる。反応に供す
る前に還元雰囲気下(例えば水素含有ガス雰囲気下)で
例えば200〜600℃、好ましくは250〜550℃
の温度で還元熱処理することが好ましい。この還元熱処
理は、触媒を反応器中に充填する前に行ってもよく、ま
た後に行ってもよい。
る前に還元雰囲気下(例えば水素含有ガス雰囲気下)で
例えば200〜600℃、好ましくは250〜550℃
の温度で還元熱処理することが好ましい。この還元熱処
理は、触媒を反応器中に充填する前に行ってもよく、ま
た後に行ってもよい。
■ ナフタレン類のメチル化反応
本発明り法では、前記ゼオライト含有触媒を使用し、ナ
フタレン及び/又はモノメチルナフタレンとメチル化剤
を接触させるのである。本明細書において、原料である
゛ナフタレン類”とは、ナフタレン、モノメチルナフタ
レン或いはこれらの混合物を意味する。かくして本発明
によれば、ナフタレンからモノメチルナフタレン又はジ
メヂルナフタレン、モノメチルナフタレンからジメチル
ナフタレンが主として生成する。つまり本発明の前記ゼ
オライト含有触媒を使用することにJこる特徴の1つは
、メチル基が3個以上置換されたナフタレン化合物の生
成割合が極めて少なく、七ノー又はジメチルナフタレン
が主として生成づることである。
フタレン及び/又はモノメチルナフタレンとメチル化剤
を接触させるのである。本明細書において、原料である
゛ナフタレン類”とは、ナフタレン、モノメチルナフタ
レン或いはこれらの混合物を意味する。かくして本発明
によれば、ナフタレンからモノメチルナフタレン又はジ
メヂルナフタレン、モノメチルナフタレンからジメチル
ナフタレンが主として生成する。つまり本発明の前記ゼ
オライト含有触媒を使用することにJこる特徴の1つは
、メチル基が3個以上置換されたナフタレン化合物の生
成割合が極めて少なく、七ノー又はジメチルナフタレン
が主として生成づることである。
メチル化は気相で行うこともできるし、また液相で行う
こともできるが、気相で行う方が有利である。
こともできるが、気相で行う方が有利である。
メチル化反応に使用されるメチル化剤どしては、一般的
に芳香族炭化水素類の核炭素のメチル化に使用されてい
ものであればよく、例えばメタノール、塩化メチル、臭
化メチル、ジメヂルエーデルなどが好ましく、就中メタ
ノールまたはジメヂル工−テルもしくはそれらの混合物
が最も好ましい。
に芳香族炭化水素類の核炭素のメチル化に使用されてい
ものであればよく、例えばメタノール、塩化メチル、臭
化メチル、ジメヂルエーデルなどが好ましく、就中メタ
ノールまたはジメヂル工−テルもしくはそれらの混合物
が最も好ましい。
かかるメチル化剤は、ナフタレン類に対して0.01〜
2モル倍、好ましくは0.05〜1モル倍の割合で使用
するのが有利であり、特にナフタレン類をメチル化剤に
対して過剰使用するのが副反応を抑制するために好まし
い。
2モル倍、好ましくは0.05〜1モル倍の割合で使用
するのが有利であり、特にナフタレン類をメチル化剤に
対して過剰使用するのが副反応を抑制するために好まし
い。
本発明り法においては、前記ゼオライト含有触媒とナフ
タレン類およびメチル化剤の接触は気相又は液相で重量
時間空間速度(WH8V>を0.1〜100の範囲で行
うことができる。ここでWH8Vどは、ゼオライ1〜単
位(g)当りの単位時間(llr)におけるナフタレン
類およびメチル化剤の合81の接触ff1(lを表わJ
−ものと定義される。
タレン類およびメチル化剤の接触は気相又は液相で重量
時間空間速度(WH8V>を0.1〜100の範囲で行
うことができる。ここでWH8Vどは、ゼオライ1〜単
位(g)当りの単位時間(llr)におけるナフタレン
類およびメチル化剤の合81の接触ff1(lを表わJ
−ものと定義される。
好ましいW I−I S V値は0.5〜10の範囲、
特に1〜5の範囲である。W l−I S V値が0.
1よりも小さいと本発明で意図する七ツメチルナフタレ
ン又はジメチルナフタレン含量比の高い生成物が得られ
なくなる。一方W l−I S V値が100を越える
と、あまりに接触時間が短か過ぎてナフタレン類の転化
率が低トするので工業的に不利である。
特に1〜5の範囲である。W l−I S V値が0.
1よりも小さいと本発明で意図する七ツメチルナフタレ
ン又はジメチルナフタレン含量比の高い生成物が得られ
なくなる。一方W l−I S V値が100を越える
と、あまりに接触時間が短か過ぎてナフタレン類の転化
率が低トするので工業的に不利である。
本発明のメチル化反応は、液相よりも気相で実施する方
が好ましいことは既に述べたが、気相で実施りる場合、
反応を水素気流下に行うのが望ましく、そうすることに
より触媒の活性劣化を抑制することができる。水素供給
量は水素/(メチル化剤およびトルエン)比(モル)で
表わして 0.1〜20、好ましくは0.5〜10の範
囲で行うことが好ましい。
が好ましいことは既に述べたが、気相で実施りる場合、
反応を水素気流下に行うのが望ましく、そうすることに
より触媒の活性劣化を抑制することができる。水素供給
量は水素/(メチル化剤およびトルエン)比(モル)で
表わして 0.1〜20、好ましくは0.5〜10の範
囲で行うことが好ましい。
また反応は250〜600℃の範囲の温度、好ましくは
600〜500℃、殊に350〜450℃の範囲で右利
に実施される。さらに圧力は減圧、富江、加圧の、いず
れでもよいが通常常圧乃至加圧、例えば1〜30K G
、好ましくは1〜IOK Gの圧力で実施される。
600〜500℃、殊に350〜450℃の範囲で右利
に実施される。さらに圧力は減圧、富江、加圧の、いず
れでもよいが通常常圧乃至加圧、例えば1〜30K G
、好ましくは1〜IOK Gの圧力で実施される。
本発明のメチル化する原料は、ナフタレン及び/又はモ
ノメチルナフタレン〈ナフタレン類)Cあるが、これは
純粋である必要はなく、これを少くとも30重量%、好
ましくは50重倣%、特に好ましくは80重量%含有す
る原料混合物であってもよい。原料混合物のナフタレン
類以外の成分としくは脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素
、ナフタレン類以外の芳香族炭化水素を用いることがぐ
きる。
ノメチルナフタレン〈ナフタレン類)Cあるが、これは
純粋である必要はなく、これを少くとも30重量%、好
ましくは50重倣%、特に好ましくは80重量%含有す
る原料混合物であってもよい。原料混合物のナフタレン
類以外の成分としくは脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素
、ナフタレン類以外の芳香族炭化水素を用いることがぐ
きる。
本発明の反応は固定床方式或いは流動床り式いずれの形
式によっても実施可能である。また固定床方式で実施す
る場合固定床は1段であってもよく、2段以上の多段方
式であってもよい。
式によっても実施可能である。また固定床方式で実施す
る場合固定床は1段であってもよく、2段以上の多段方
式であってもよい。
本発明の方法を行って得られた反応混合物からのメチル
置換ナフタレンの回収は、それ自体公知の方法によって
行なうことができ、例えば反応混合物を冷却器で充分冷
却し、気−液分離器で濃縮したものとガスとを分離する
。次いで濃縮したオイル/水を分離しオイルを蒸留塔へ
供給し、未反応ナフタレン類、メチル置換ナフタレン及
び他の副反応生成物を分離することによりメチル置換ナ
フタレンを容易に回収できる。
置換ナフタレンの回収は、それ自体公知の方法によって
行なうことができ、例えば反応混合物を冷却器で充分冷
却し、気−液分離器で濃縮したものとガスとを分離する
。次いで濃縮したオイル/水を分離しオイルを蒸留塔へ
供給し、未反応ナフタレン類、メチル置換ナフタレン及
び他の副反応生成物を分離することによりメチル置換ナ
フタレンを容易に回収できる。
以上述べた本発明の方法によれば、後記実施例から明ら
かなように、ナフタレン類及びメチル化剤のメチル16
換ナフタレンへの非常に高い転化率が達成される。
かなように、ナフタレン類及びメチル化剤のメチル16
換ナフタレンへの非常に高い転化率が達成される。
実施例−1
(al 米田特も4F 3,766.093に明l宙に
開示され”Cいる方法に従ってシリカ/アルミナモル比
が71.9のZSM−5ゼオライトを合成した。即ち、
合成に際して有機カチオン源として、トリー〇−プロピ
ルアミンとロープロピルブロマイドを添加した。得られ
た合成物を濾過し、充分水洗した後、電気乾燥型中10
0℃で16時間、次いで200℃で8時間乾燥し、更に
空気流通下500℃で16時間焼成した。
開示され”Cいる方法に従ってシリカ/アルミナモル比
が71.9のZSM−5ゼオライトを合成した。即ち、
合成に際して有機カチオン源として、トリー〇−プロピ
ルアミンとロープロピルブロマイドを添加した。得られ
た合成物を濾過し、充分水洗した後、電気乾燥型中10
0℃で16時間、次いで200℃で8時間乾燥し、更に
空気流通下500℃で16時間焼成した。
次いで、上記ZSM−5を10gとり、フラスコ中の水
酸化ナトリウム1.5gを溶解した水溶液50#li!
に懸濁させた。これを90℃にて攪拌しながら3時間保
持した後、残留物を濾過し充分水洗して、電気乾燥型中
100℃で16時間乾燥した。
酸化ナトリウム1.5gを溶解した水溶液50#li!
に懸濁させた。これを90℃にて攪拌しながら3時間保
持した後、残留物を濾過し充分水洗して、電気乾燥型中
100℃で16時間乾燥した。
乾燥後の重量は5.7gであり、このもののシリカ/ア
ルミナモル比は39.2に減少し、且つ、Cu−)(a
線の照射によって得られるX線回111パターンにおい
ては前記表−へに示した如く75M−5で得られるd(
入) = 3.84の最強ピークがd(入) −3,8
6とd(入)−3,83に明確に分離覆ることが認めら
れたくぜオライhA−1)。更に粉末状ゼオライトA−
1を5wt%の塩化アン−しニウム水溶液を用いて70
℃で16時間イオン交換を実施した。使用した塩化アン
モニウム水溶液の鏝は、ゼオライト1g当り5mRであ
り、この操作を二度繰返した。イオン交換後、ゼオライ
トを上記の如く、洗浄、乾燥を行い、次いで電気炉中、
空気流通下450℃で81時間焼成することによってト
1+型ゼオライトを得た(ゼオライトΔ−2)。
ルミナモル比は39.2に減少し、且つ、Cu−)(a
線の照射によって得られるX線回111パターンにおい
ては前記表−へに示した如く75M−5で得られるd(
入) = 3.84の最強ピークがd(入) −3,8
6とd(入)−3,83に明確に分離覆ることが認めら
れたくぜオライhA−1)。更に粉末状ゼオライトA−
1を5wt%の塩化アン−しニウム水溶液を用いて70
℃で16時間イオン交換を実施した。使用した塩化アン
モニウム水溶液の鏝は、ゼオライト1g当り5mRであ
り、この操作を二度繰返した。イオン交換後、ゼオライ
トを上記の如く、洗浄、乾燥を行い、次いで電気炉中、
空気流通下450℃で81時間焼成することによってト
1+型ゼオライトを得た(ゼオライトΔ−2)。
山) 前記のげオライドΔ−1を10〜20メッシ:L
の人きさに成型した後、電気マツフル炉中にで450℃
で8時間焼成した。約0.5gを吸着管内につるしIC
スプリング・バランスにのせ、スプリングの伸びからL
オライド−重量を精秤した。
の人きさに成型した後、電気マツフル炉中にで450℃
で8時間焼成した。約0.5gを吸着管内につるしIC
スプリング・バランスにのせ、スプリングの伸びからL
オライド−重量を精秤した。
次いで吸着管内を真空にした後、ガス・ボルダ−に充填
したn−ヘキサン又はシフ[l−ヘキサンを吸着管内に
導入した。吸着は20℃、 60mm1−10の条(’
lで2時間行った。ゼオライトに吸着し/、:吸着質重
■は、吸着前後のスプリング・バランスの長さの差から
算出した。該ゼオライトへのn−ヘキサン及びシクロヘ
キサン吸谷量はゼオライト重量当り夫々6.8wt%、
6.4wt%であり、n−ヘキサンに対するシクロ−へ
キリンの吸着比率は0.94であった。
したn−ヘキサン又はシフ[l−ヘキサンを吸着管内に
導入した。吸着は20℃、 60mm1−10の条(’
lで2時間行った。ゼオライトに吸着し/、:吸着質重
■は、吸着前後のスプリング・バランスの長さの差から
算出した。該ゼオライトへのn−ヘキサン及びシクロヘ
キサン吸谷量はゼオライト重量当り夫々6.8wt%、
6.4wt%であり、n−ヘキサンに対するシクロ−へ
キリンの吸着比率は0.94であった。
(C1前記のゼオライトA−2にクロマトグラフ用アル
ミナゲル(300メツシユ以下)を重量比で1/1加え
て充分混合し、10〜20メツシユの大きさに成型した
。該成型物を電気マツフルか中、450℃にて8時間焼
成した後、4gを固定床反応管に充填した。触媒床温度
を350℃とした後、シクロヘキリンF3g/Hr、及
び水素/シクIIヘキリン−2/1(モル比)の水素を
供給してシクロヘキサン分解指数を測定したところ21
、 !iであった。ゼオライh A −2と同じシリ
カ/アルミナ(モル比)を有JるZSM−5のシクロヘ
キサン分解指数は図−1の相関曲線から11.3であり
、従ってL”71ライトΔ−2のシクロへ:1−1ノン
分解指数比は1.9であることが判る。
ミナゲル(300メツシユ以下)を重量比で1/1加え
て充分混合し、10〜20メツシユの大きさに成型した
。該成型物を電気マツフルか中、450℃にて8時間焼
成した後、4gを固定床反応管に充填した。触媒床温度
を350℃とした後、シクロヘキリンF3g/Hr、及
び水素/シクIIヘキリン−2/1(モル比)の水素を
供給してシクロヘキサン分解指数を測定したところ21
、 !iであった。ゼオライh A −2と同じシリ
カ/アルミナ(モル比)を有JるZSM−5のシクロヘ
キサン分解指数は図−1の相関曲線から11.3であり
、従ってL”71ライトΔ−2のシクロへ:1−1ノン
分解指数比は1.9であることが判る。
実施例−2
(a) 水酸化ナトリウム(和光IFi[i薬製特級試
薬)10.5gを210mの純水に溶解したアルカリ水
溶液にアルミナ源として硫酸アルミニウム16〜18水
和物(和光紬薬製特級試薬) 3.1gを加え、更にシ
リカ源としてシリカゾル(触媒化成製カクUイドS 3
0L 5LOt 30wt%) 69.4gを添加し−
Cゲルを調製した。
薬)10.5gを210mの純水に溶解したアルカリ水
溶液にアルミナ源として硫酸アルミニウム16〜18水
和物(和光紬薬製特級試薬) 3.1gを加え、更にシ
リカ源としてシリカゾル(触媒化成製カクUイドS 3
0L 5LOt 30wt%) 69.4gを添加し−
Cゲルを調製した。
次いぐ、このゲルを300威容ステンレスオートクレー
ブに仕込んだ後、実施例1−(ωで合成したZSM−5
ゼオライト6.9gを添加した。
ブに仕込んだ後、実施例1−(ωで合成したZSM−5
ゼオライト6.9gを添加した。
仕込物の組成はZSM−5Is?当りで表してSi、0
2 = 50.0111111041 、M 203
= 0.7141111110JJNa OH= 38
.011111109であり、又モル比で表わして 5LOp / /V 203 = 70゜011− /
5i02+ /V 203 = 0.75 。
2 = 50.0111111041 、M 203
= 0.7141111110JJNa OH= 38
.011111109であり、又モル比で表わして 5LOp / /V 203 = 70゜011− /
5i02+ /V 203 = 0.75 。
Off −/ H20= 0.018
rあった。仕込物を穏かに攪拌しながら180℃自生圧
で6時間反応した。反応物を取出し濾別しIc後、純水
で洗浄液が50μO/ cm以下になる迄充分に洗浄し
、90℃で一晩乾燥した後、重量を測定したところ10
.0gであり、仕込28M−5ゼオライ1へに対して1
.5fflfn倍のプロダク1〜を得た。シリカ、アル
ミナを定量した結果、シリカ/アルミナ(モル比)=2
3.8であり、X線回折パターンは前記表−Aに示した
特徴を有するものであり、殊にZSM−5T−1られる
d(入) = 3.84の最強ピークがd(入)、−3
,86とd(入)−3,83に著しい分離を示した(ゼ
オライトB−1)。
で6時間反応した。反応物を取出し濾別しIc後、純水
で洗浄液が50μO/ cm以下になる迄充分に洗浄し
、90℃で一晩乾燥した後、重量を測定したところ10
.0gであり、仕込28M−5ゼオライ1へに対して1
.5fflfn倍のプロダク1〜を得た。シリカ、アル
ミナを定量した結果、シリカ/アルミナ(モル比)=2
3.8であり、X線回折パターンは前記表−Aに示した
特徴を有するものであり、殊にZSM−5T−1られる
d(入) = 3.84の最強ピークがd(入)、−3
,86とd(入)−3,83に著しい分離を示した(ゼ
オライトB−1)。
この粉末状ゼオライl−B、−1から、実施例1−(ω
に記載した方法に従ってトI型ゼオライト(ぜオライド
B−2)を得た。
に記載した方法に従ってトI型ゼオライト(ぜオライド
B−2)を得た。
山) 前記のゼオライトB−1を10〜20メツシユの
大きさに成型した後電気マツフル炉中にて450℃で8
時間焼成した。約0.5gを吸着管内につるしたスプリ
ング・バランスにのせスプリングの伸びからせオライド
重量を精秤した。次いで吸着管内を真空にした後、ガス
・ホルダーに充填したn−ヘキサン又は2−メチルペン
タン又はシクロヘキサンを吸着管内が50±1 mm
l−I (Jに達する迄導入した。室温(20℃±1℃
)にて2時間保持した後、ゼオライトに吸着した吸着質
重量を吸着前後のスプリング・バランスの長さの差から
算出した。該ゼオライトに対づるn−ヘキ1ナン、2−
メチルペンタン及びシクロへキリン比吸着mは、ゼオラ
イト重量当り夫々0.087SI/ q 、0.051
g/ g及び0.034g/ S?であり、シクロヘキ
サンに対する2メチルペンタンの吸着比率は1.50で
あった。
大きさに成型した後電気マツフル炉中にて450℃で8
時間焼成した。約0.5gを吸着管内につるしたスプリ
ング・バランスにのせスプリングの伸びからせオライド
重量を精秤した。次いで吸着管内を真空にした後、ガス
・ホルダーに充填したn−ヘキサン又は2−メチルペン
タン又はシクロヘキサンを吸着管内が50±1 mm
l−I (Jに達する迄導入した。室温(20℃±1℃
)にて2時間保持した後、ゼオライトに吸着した吸着質
重量を吸着前後のスプリング・バランスの長さの差から
算出した。該ゼオライトに対づるn−ヘキ1ナン、2−
メチルペンタン及びシクロへキリン比吸着mは、ゼオラ
イト重量当り夫々0.087SI/ q 、0.051
g/ g及び0.034g/ S?であり、シクロヘキ
サンに対する2メチルペンタンの吸着比率は1.50で
あった。
更に実施例1−(C)に記載した方法に従ってゼオライ
1〜B−2のシクロヘキサン分解指数比を測定したどこ
ろ2.0であった。
1〜B−2のシクロヘキサン分解指数比を測定したどこ
ろ2.0であった。
実施例−3
実施例−1で合成した1じ型レオライ1〜(八−2)に
ゲル状T−アルミナ(300メツシユ以下)を等重量加
えC充分混合し、10〜20メツシコの大きさに成型し
1= 0この成型物を電気マツフル炉中、空気雰囲気下
450℃にて焼成した後、8gを常圧固定床反応管に充
填した。触媒床を400℃どした後、ナフタリン(和光
紬薬特級試薬を再結晶精製したもの)を4 g/ l−
l R、及びメタノール(和光紬薬特級試薬を脱水処理
したもの)を0.5me/1−IF5更に水素/ナフタ
リン= 1’/1 (モル比)の水素を反応管へ同時に
供給した。これと同一の操作を実施例−2で合成したゼ
オライl−[3−2、及び比較例としてト1型ZSM−
’5(実施例−1で、合成)1モルデナイ1〜.Y型ホ
ージ171ノイドについても実施した。尚、モルデナイ
h、Y型は市販品を公知の方法である塩化アンモニウム
水溶液で処理することによってプロトンタイプへ変換し
て用いた。通油後2時間目で得られたブロダク1〜組成
を表−1に纏めた。尚、表中の略号は次の化合物を示す
。NN;分解軽質分、N;ノフタリン1MN:メヂルナ
フタリン、[N:エヂルノーノタリン。
ゲル状T−アルミナ(300メツシユ以下)を等重量加
えC充分混合し、10〜20メツシコの大きさに成型し
1= 0この成型物を電気マツフル炉中、空気雰囲気下
450℃にて焼成した後、8gを常圧固定床反応管に充
填した。触媒床を400℃どした後、ナフタリン(和光
紬薬特級試薬を再結晶精製したもの)を4 g/ l−
l R、及びメタノール(和光紬薬特級試薬を脱水処理
したもの)を0.5me/1−IF5更に水素/ナフタ
リン= 1’/1 (モル比)の水素を反応管へ同時に
供給した。これと同一の操作を実施例−2で合成したゼ
オライl−[3−2、及び比較例としてト1型ZSM−
’5(実施例−1で、合成)1モルデナイ1〜.Y型ホ
ージ171ノイドについても実施した。尚、モルデナイ
h、Y型は市販品を公知の方法である塩化アンモニウム
水溶液で処理することによってプロトンタイプへ変換し
て用いた。通油後2時間目で得られたブロダク1〜組成
を表−1に纏めた。尚、表中の略号は次の化合物を示す
。NN;分解軽質分、N;ノフタリン1MN:メヂルナ
フタリン、[N:エヂルノーノタリン。
DMN ;ジメチルプフタリン、 T’MN ; l〜
リメヂルナフタリン 表−1 1) 転化率=100−生成物中のナフタレン濃度2)
メチル化選択率−(生成物中のMN及びDMNli1
度の和/転化率)x1003) 2.6−FinDMN
−生成物DMNに含まれる2、6−異性体系列のm度4
) 2.7−FinDMN−生成物DMNに含まれる2
、7−異性体系列の淵疫この結果は、本発明の方法が従
来の方法に比較して、アルギル化活性及びメチル化選択
率に優れていることを示している。更に二次アルキル化
生成物のDMNに関して、工業的に有用な2.6−異性
体系列及び2.7−異性体系列の濃度が高いことも重要
な利点である。
リメヂルナフタリン 表−1 1) 転化率=100−生成物中のナフタレン濃度2)
メチル化選択率−(生成物中のMN及びDMNli1
度の和/転化率)x1003) 2.6−FinDMN
−生成物DMNに含まれる2、6−異性体系列のm度4
) 2.7−FinDMN−生成物DMNに含まれる2
、7−異性体系列の淵疫この結果は、本発明の方法が従
来の方法に比較して、アルギル化活性及びメチル化選択
率に優れていることを示している。更に二次アルキル化
生成物のDMNに関して、工業的に有用な2.6−異性
体系列及び2.7−異性体系列の濃度が高いことも重要
な利点である。
実施例−4
こ、の例では、実施例−2で合成したLAライトB−2
を用いてβ−メチルナフタリン(和光141級試薬を再
結晶精製を行ったもの)及びブフタリン/β−メチルナ
フタリン混合物のアルキル化反応を実施しl〔。原料を
変えたことを除いて反応方法は実施例−3と同様であり
、反応条イ1及びプロタクト組成を表−2に纏めた。
を用いてβ−メチルナフタリン(和光141級試薬を再
結晶精製を行ったもの)及びブフタリン/β−メチルナ
フタリン混合物のアルキル化反応を実施しl〔。原料を
変えたことを除いて反応方法は実施例−3と同様であり
、反応条イ1及びプロタクト組成を表−2に纏めた。
尚、表中のW HS Vは触媒17当りに供給されるナ
フタリン化合物のフィードm (g/ l−I R)で
定義される。又、Me OH/ N 、 H2/ Nに
於いて、Nは原料のナフタレン化合物の総量を意味づる
。
フタリン化合物のフィードm (g/ l−I R)で
定義される。又、Me OH/ N 、 H2/ Nに
於いて、Nは原料のナフタレン化合物の総量を意味づる
。
表の結果から本発明の方法に於いて、ナフタレン化合物
が効率的にアルキル化されることによって工業的に有用
なメチルナフタリン或いはジメチルナフタリンが得られ
ることが判る。
が効率的にアルキル化されることによって工業的に有用
なメチルナフタリン或いはジメチルナフタリンが得られ
ることが判る。
(以下余白)
1)
2)
2)
表−2
N軟化率=(ΔN/NF)X 100
MN軟化率=(ΔMN/MNF)X 100メチル化収
率−[Δ(MN−1−2DMN+3TMN)/Me01
−1] X 100上式に於いて、N、MN、TMNは
夫々の濃度を表し、△はフィードとプロダクトの濃度差
を示づ。又3)式中のMeOHはナフタレン化合物フィ
ード100モル当りのメタノールフィード量を示り。
率−[Δ(MN−1−2DMN+3TMN)/Me01
−1] X 100上式に於いて、N、MN、TMNは
夫々の濃度を表し、△はフィードとプロダクトの濃度差
を示づ。又3)式中のMeOHはナフタレン化合物フィ
ード100モル当りのメタノールフィード量を示り。
実施例−5
この例では本発明のアルキル化方法が経時的に優れてい
ることを示す為に連続通油テストを実施した。
ることを示す為に連続通油テストを実施した。
実施例−2で合成したゼオライトB−210gを白金と
して20mgを含む塩化白金酸化水溶液50 (BQに
浸漬した。これを50℃の恒温槽中攪拌しながら5時間
保った後、エバポレーターを用いて、40℃で減圧上水
分を除去した。100℃で終夜乾燥した後、これにゲル
状γ−アルミナ(300メツシユ以下)を等重量加えて
充分混合し、10〜20メツシユの大きさに成型した。
して20mgを含む塩化白金酸化水溶液50 (BQに
浸漬した。これを50℃の恒温槽中攪拌しながら5時間
保った後、エバポレーターを用いて、40℃で減圧上水
分を除去した。100℃で終夜乾燥した後、これにゲル
状γ−アルミナ(300メツシユ以下)を等重量加えて
充分混合し、10〜20メツシユの大きさに成型した。
この成型物を電気マツフル炉中空気雰囲気下450℃に
て焼成した後、8gを常圧固定床反応管に充填した。触
媒床を窒素ガス気流中で400℃迄昇温した後、水素を
50#112/l1linで2時間供給し白金を還元し
た。而る後、ナフタリンを4g/)Ir;及びメタノー
ルを0.5威/Hr (ナフタリン/メタノール−21
5モル比)。
て焼成した後、8gを常圧固定床反応管に充填した。触
媒床を窒素ガス気流中で400℃迄昇温した後、水素を
50#112/l1linで2時間供給し白金を還元し
た。而る後、ナフタリンを4g/)Ir;及びメタノー
ルを0.5威/Hr (ナフタリン/メタノール−21
5モル比)。
更に水素/ナフタリン= 1/1 (モル比)の水素を
反応管へ同時に供給した。経時的な活性の変化を表−3
に記載した。又、白金を含まないゼオライトB−2につ
いても連続通油テストの結果を(11記した。
反応管へ同時に供給した。経時的な活性の変化を表−3
に記載した。又、白金を含まないゼオライトB−2につ
いても連続通油テストの結果を(11記した。
尚、操作条件は還元をしなかったことを除いて、上記と
全く同一である。表中の略号、及び特性値の定義は実施
例−1と同じである。この結果から本発明の方法は経時
的に極めて安定したパーホーマンスを与えることが判る
。
全く同一である。表中の略号、及び特性値の定義は実施
例−1と同じである。この結果から本発明の方法は経時
的に極めて安定したパーホーマンスを与えることが判る
。
(以下余白)
表−4
表中t「は痕跡量であることを意味する。
実施例−に
の例では液相バッチ式にて本発明の方法を実施した。即
ち実施例−2で合成した1」1型ゼAライト(B−2)
をパウダー状のままステンレス性の小型反応器に仕込l
υだ。これにナフタリン及びメタノールを入れて所定の
反応条件下に保った後、プロダクト組成を分析した。こ
れらの結果及び反応条件を表−5に纏めた。表中の略号
、特性値の定義は前記実施例と同じである。
ち実施例−2で合成した1」1型ゼAライト(B−2)
をパウダー状のままステンレス性の小型反応器に仕込l
υだ。これにナフタリン及びメタノールを入れて所定の
反応条件下に保った後、プロダクト組成を分析した。こ
れらの結果及び反応条件を表−5に纏めた。表中の略号
、特性値の定義は前記実施例と同じである。
この結果から本発明の方法は液相反応においても優れた
性能を承りと言える。
性能を承りと言える。
(以F余白)
表−5
添付図面はシクロヘキサ2分解指数比(C,D。
R,)を算出り−るIこめに基準となる(]]型、’5
M−5ゼオライ1のシリカ/アルミナ(−1ル比)とシ
クロヘキサン分解指数の相関を示すしのである。
M−5ゼオライ1のシリカ/アルミナ(−1ル比)とシ
クロヘキサン分解指数の相関を示すしのである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ナフタレン及び/又はモノメチルナフタレンをメチ
ル化剤によりメチル化する方法において、該メチル化を
Si 02 / /V 203 (モル比)が10−1
00であり且つX線格子面間隔が表−Aに示した特徴を
右Jる結晶性アルミノシリケートゼオライトを含有Jる
触媒の存在下に行なうことを特徴とづる方法。 2、該結晶性アルミノシリケートIiAライトはX線格
子面間隔d(入)が3.86におけるピーク強度(10
)を100とした時、d(入)が3.83にd) LJ
るビーク強匪(1)の比(1/10)が少くと670の
偵を有するものである第1項記載の方法。 3、該6−品性アルミノシリケートゼオライトは活性化
された状態におけるシクロヘキサン分解指数比が少くと
も1.1である第1項記載の方法。 4、該メチル化剤がメタノール、ジメチルニーデル及び
ハロゲン化メチルからなる群から選ばれた少くとも一種
である第1項記載の方法。 5、ナフタレンをメチル化してモノメチルナフタレンを
製造する第1項記載の方法。 6、モノメチルナフタレンをメチル化してジメチルナフ
タレンを製造づ−る第1項記載の方法。 7、該方法を250〜600℃の温度で行なう第1項記
載の方法。 8、該方法を気相で行なう第1項記載の方法。 9、該方法を水素の存在下で行なう第8項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59026133A JPS60172937A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | ナフタレン類のメチル化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59026133A JPS60172937A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | ナフタレン類のメチル化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60172937A true JPS60172937A (ja) | 1985-09-06 |
JPH0346448B2 JPH0346448B2 (ja) | 1991-07-16 |
Family
ID=12185053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59026133A Granted JPS60172937A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | ナフタレン類のメチル化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60172937A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6136232A (ja) * | 1984-07-28 | 1986-02-20 | Jgc Corp | アルキル芳香族化合物の製造法 |
JPS6229536A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-07 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 2,6−および2,7−ジメチルナフタレンの製造方法 |
JPS638345A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Jgc Corp | ジアルキルナフタリンの製造方法 |
JPS638344A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Jgc Corp | ジアルキルナフタリンの製造法 |
JPS63112527A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-17 | Teijin Yuka Kk | ジメチルナフタレンの製造法 |
US5276230A (en) * | 1991-12-06 | 1994-01-04 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for production of 2,6-dimethylnaphthalene |
US5365001A (en) * | 1991-08-08 | 1994-11-15 | Teijin Limited | Method for preparing dialkylnaphthalene |
CN114471383A (zh) * | 2022-02-24 | 2022-05-13 | 郑州市疾病预防控制中心 | 一种用于萘甲基化的反应装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5583717A (en) * | 1978-12-14 | 1980-06-24 | Mobil Oil | Alkylation of aromatic hydrocarbon compound |
JPS58145616A (ja) * | 1982-02-22 | 1983-08-30 | Teijin Yuka Kk | 新規結晶性アルミノシリケ−トゼオライト及びその製造法 |
JPS59183830A (ja) * | 1983-03-25 | 1984-10-19 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 酸化鉄含有触媒の製法 |
-
1984
- 1984-02-16 JP JP59026133A patent/JPS60172937A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0584294B2 (ja) * | 1986-06-30 | 1993-12-01 | Jgc Corp | |
JPS63112527A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-17 | Teijin Yuka Kk | ジメチルナフタレンの製造法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0346448B2 (ja) | 1991-07-16 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |