JPS6017054Y2 - 磁気ヘツド - Google Patents

磁気ヘツド

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JPS6017054Y2
JPS6017054Y2 JP9293579U JP9293579U JPS6017054Y2 JP S6017054 Y2 JPS6017054 Y2 JP S6017054Y2 JP 9293579 U JP9293579 U JP 9293579U JP 9293579 U JP9293579 U JP 9293579U JP S6017054 Y2 JPS6017054 Y2 JP S6017054Y2
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JP
Japan
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magnetic field
magnetic
mre
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magnetic head
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JP9293579U
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JPS5613830U (ja
Inventor
猛弘 永木
浩 瀧野
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ソニー株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、磁気ヘッド、特に磁界に応じて電気抵抗が変
化する磁気抵抗効果素子を利用した再生用磁気ヘッドに
係わる。
この種、磁気抵抗効果型再生用磁気ヘッドは、通常一般
の電磁誘導型再生用磁気ヘッドに比し、狭トラツク再生
、短波長再生、超低速再生において高い感度が得られる
という利点がある。
この磁気抵抗効果型再生磁気ヘッドは、その磁気抵抗効
果素子の配置態様、バイアス態様等によって種々の型の
ものが考えられている。
第1図は磁気媒体、例えば磁気テープ1の記録磁化によ
る磁性層の面方向と垂直をなす方向の磁界成分によって
その記録を読み出すようにしたいわゆる垂直型の磁気抵
抗効果型再生用磁気ヘッドの基本的構成を示すものであ
る。
この場合、薄膜状の磁気抵抗効果素子(magneto
resistance effect素子)2(以下M
RE素子と略称する)が、磁気テープ1の幅方向に沿い
、且つその膜面が磁気テープ1の面と垂直をなすように
配置されている。
そして、MRERE2O3端より端子3a及び3bが導
出され、両端子3a及び3b間に、例えば直流電源Sと
、抵抗Rとが接続され、MRERE2O3流iを通ずる
ようになされ、抵抗Rの両端より出力端子tが導出され
るようになされている。
磁気テープ1は、MRERE2O3して相対的に矢印a
に示すように、その長手方向に移行腰磁気テープ1上に
記録された記録(信号)磁界の、特に垂直成分磁界に応
じて生ずるMRERE2O3抗変化を抵抗Rの両端電圧
の変化として検出する、即ち再生する。
更にMRERE2O3イアス磁界を与える構成とするこ
ともでき、例えば第2図に示すようにMRERE2O3
って導電体6を配置してこれに電流i、を通じバイアス
磁界を発生させる電流バイアス型構成とすることもでき
るし、第3図に示すようにMRERE2O3向して着磁
された永久磁石7を配置してバイアス磁界を与える構成
とすることもできる。
本考案は、この種磁気ヘッドにおいて、感度の向上と、
構造の簡潔化、製造の簡易化をはかることのできる磁気
ヘッドを提供するものである。
第4図及び第5図を参照して本考案による磁気ヘッドの
一例を説明する。
第4図はその拡大上面図で、第5図は第4図のA−A線
上の断面図を示す。
10は本考案による磁気ヘッドを全体として示す。
本考案においては、基体11上に、複数の薄膜MRE素
子12を設ける。
図示の例では、2つのMRE素子12A及び12Bを形
威した場合で、これらMRE素子12A及び12Bは、
互いに同条件下で、同形状同寸法とし、画素子12A及
び12Bの無磁界下における抵抗が等しくなるように形
成することが望ましい。
これら2つのMRE素子12A及び12Bは、1本の帯
状MRE薄膜としてトラック幅方向に沿って一体に延長
して形威され、この帯状MRE薄膜の両端と、画素子1
2A及び12Bの接続中点から、夫々第1、第2及び第
3の端子部13a、13b及び13cを導出する。
そして、これらMRE素子12A及び12Bに対して共
通の第1の磁界を与える第1の磁界発生手段14と、同
様にこれらMRE素子12A、12Bに対して共通の第
2の磁界発生手段15を設ける。
これら、第1及び第2の磁界発生手段14及び15は永
久磁石、電磁石、またはこれらの組合せにより構威する
永久磁石の場合は着磁量により、電磁石の場合は電流値
の制御によりバイアス磁界を選定する。
基体11としては、例えばサファイア基体を用い、これ
の上に磁気抵抗効果を有する磁性合金、例えばNi−C
o合金、ハーマロイ(Ni −Fe系合金)薄膜を、蒸
着、スパッタ等によって被着してMRE素子12,12
A、12Bを構成する。
各端子部13a、13b及び13cは、MRE素子自体
からのこれと同一薄膜による延長部として形成すること
もできるし、他の導電層を、上述のMRE素子の所定部
に連結して形成することもできる。
第1の磁界発生手段14は、例えば基体11上の、MR
E素子12A及び12Bの後方に画素子12A及び12
Bに差し渡って対向するように、例えばマグネタイト、
CoCr合金、PtFe合金、PtCo合金等の強磁性
層をスパッタリング、蒸着等によって被着し、この強磁
性層に、その面方向に沿い、MRE素子12A及び12
Bの配列方向とほぼ直交する方向にNS着磁をして構威
した永久磁石によって構威し得る。
この場合、手段14は各端子部13a、13b及び13
c上に跨って形威し得、これら端子部13a、13b及
び13C上には、絶縁層例えばSiO2層を介在させる
また、この手段14は、永久磁石によって構成する場合
に限られるものではなく、電磁石構成とすることもでき
る。
この場合、第6図にその拡大上面図を示し、第7図に第
6図のB−B線上の断面を示すように、MRE素子12
A及び12B上にSiO2等の絶縁層16を介して導電
層17を形威し、これに電流1b1を通ずることによっ
て第1の磁界を発生させる。
また、第2の磁界発生手段15は、その対の磁極がMR
E素子12A及び12Bの配列方向の両端に対向するよ
うに、基体11例えばコ字状の永久磁石を配置するか、
或いは図示のように同様のコ字状コア18に線輪19を
巻装した電磁石構成とする。
尚、図において、20は研摩仕上げされた磁気媒体との
対接面で、この対接面は、両MRE素子12A及び12
Bの配列方向に沿い、且つこれらMRE素子の膜面と直
交する面として形成され、この対接面20に臨む両MR
E素子12A及び12Bは磁気媒体上の共通のトラック
に対接するようになされる。
上述の構成において、例えは第8図に示すように、端子
13a及び13c間に、電源Sを抵抗R2を介して接続
して各素子12A及び12Bに電流iを流すと共に、電
圧バランス用抵抗R1及びR2を接続する。
そして、これら抵抗R1及びR2の接続中点と、素子1
2A及び12Bの中央の端子13bとから出力端子tを
導出する。
或いは、第9図に示すように、電源Sを中央の端子13
bと、抵抗R1及びR3を介して両側の端子13a及び
13cに接続して、各素子12A及び12Bに逆方向の
電流i及び−1を流し、出力端子を両側端子13a及び
13cから導出し、出力をこの端子tから差動的にとり
出す。
ここに抵抗R1とR2及びR4とR5は、互にその抵抗
値及び温度特性が等しいものを用いることが望まれる。
そして、第1及び第2の磁界発生手段14及び15によ
る第1及び第2の磁界を素子12A及び12Bに与える
が、この場合、第1及び第2の両磁界によって画素子1
2A及び12Bにバイアス磁界を与え、これらを所要の
向きに磁化させて、磁気記録媒体上の記録による信号磁
界に対し、すぐれた対称性及び直線性を有し、大きな抵
抗変化を生じさせることができるようにする。
すなわち、MRE素子12,12A、12Bにおける飽
和磁化■と、素子12に通ずる電流iとのなす角θと、
素子12の抵抗ρ(θ)との関係はViogt−Tho
msonの式としてよく知られているように、下記(1
)式及び第10図で表わされる。
0本 ρ(θ)=ρo#(1千T11CO32θ(ytΔ2 2))川 ・・・・・・(1)但し、
ここに、ρ0#はMRE素子の消磁状態での固有抵抗、
α*はMRE素子の感度指数(ミΔρ/ρo)tはMR
E素子の膜厚、2はそのトラック幅方向の位置、Δ2は
トラック幅方向の微小長、ΔyはMRE素子の面方向に
沿い、Δ2と直交する方向の微小長である。
この関係より飽和磁化の方向、即ち素子12に与えられ
る磁界が電流iに対し↑士了(但しnはO又は正の整数
以下同様)を中心として7の範囲で変動するとき、最も
大きな抵抗変化Δρが得られることがわかる。
したがって、バイアス磁界(前述の第1及び第2の磁界
)によって飽和磁化■の方向を電流iに対シ、−+−π
〔ラジアン〕、例えば±7〔う−2 ジアン〕となるように選定すれば、これに磁気記録媒体
上の記録による信号磁界が与えられるとき、θは士−を
中心として第10図に矢印+a及び−aで示す方向に抵
抗ρが変化することになって対称性及び直線性にすぐれ
た大きな抵抗変化を生じさせることができることになる
尚、この場合、異方性磁界泳の考慮も必要とするが、こ
の異方性磁界の存在によってもほぼ±7〔ランアン〕に
バイアス磁界の向きを設定するこ、とにさほどの支障は
来たさない。
上述したように本考案によれば、第1及び第2の磁界に
よるバイアス磁界を与えるものであり、またこれら第1
及び第2の磁界は何れか一方を電磁誘導によって得るも
のであって、その磁界の強さを適当に選定できるので、
MRE素子12の磁化の向きを容易に最適状態に選定す
ることができて、対称性及び直線性にすぐれた磁気ヘッ
ドを構威することができるものである。
そして、更に上述の構成によれば、2のMRE素子12
A及び12Bによって構威し、各素子12A及び12B
1すなわち、端子13a及び13b間、13b及び13
c間の抵抗の差動的変化を検出するので、大きな出力を
とり出すことができると共に、温度変化等による同相の
抵抗変化は相殺されて検出されず、しかも正負信号の対
称性が保たれるという利点等を有する。
上述したように本考案によれば、複数のMRE素子12
が設けられた構成を有しこれにバイアス磁界を与えるの
に、少くとも第1及び第2の磁界発生手段14及び15
を設けるものであるが、これらは、複数のMRE素子に
対し共通に設けるので、全体として、小型に且つ簡潔な
構造となし得るものであり、このような構成による本考
案は、特に2つ以上の磁気トラック、すなわち多チヤン
ネル用のこの種磁気ヘッドに適用して有益である。
この場合、各チャンネル(トラック)に関して、夫々複
数のMRE素子12A及び12Bを設けた構造とするこ
ともできるし、各チャンネルに関して夫々1個のMRE
素子より成る構成とすることもできる。
尚、このような多チャンネル磁気ヘッドを構成する場合
、各チャンネルに関して各MRE素子12から端子部を
導出する必要が生ずるので、面積的な制約によって各端
子部の幅を充分大にすることができず、これら端子導出
部における電気抵抗等の問題が生ずる場合がある。
この場合においては、例えば第11図にその1チヤンネ
ルのみを代表的に示すように、各チャンネルのMRE素
子12の両端から夫々端子部13a及び13bを導出す
るに、これら端子部13a及び13bの、素子12の両
端に連らなる前端部13a1及び13b1に関してはこ
れらが並置配列されるように平面的に、すなわち比較的
幅狭まに形成するも、その一方の端子部13bの後方部
13b2の幅を、はぼトラック幅に対応する幅広として
形成する。
そして、他方の端子部13aは、その後方端13a2を
、その前方端13a1と分離して、基体11の後方の充
分面積をとり得る部分に幅広に形成し、両端13a1及
び13A2間を、鎖線で示すように、同様に、例えばほ
ぼトラック幅に対応する幅をもって、端子部13b上に
絶縁層を介して積層して被着した導電層21によって連
結する。
221及び22゜は夫々導電層21と、端子部13の両
端13a□及び13a2との電気的連結部、すなわち、
端子部13bを覆って形成される絶縁層に穿設したコン
タクト用窓を示す。
このような第11図に示すような構成とするときは、両
端子部13a及び13bの大部分は幅広に形成できるの
で、これら端子部における抵抗の縮減化をはかることが
できると共に、この端子部を通じての高い放熱効果を得
ることができるので、熱雑音の発生を効果的に回避でき
、よりトラックの高密度化をはかることができる。
第12図及び第13図は、本考案による磁気ヘッド10
の他の例を示し、第12図はその拡大上面図、第13図
は第12図のC−C線上の断面を示す図である。
この例においては、第4図及び第5図で説明した例とほ
ぼ同様の構成を採るも、MRE素子12を挾んで基体1
1に、磁気媒体との対接面20の一部を形成するように
この面20に臨んで、他の基体31を接着剤32によっ
て接着合体させるもので、第4図及び第5図と対応する
部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
基体31は、基体11と同様の材料より選ばれることが
望ましく、耐摩耗性にすぐれた例えばサファイヤ基体よ
り構成される。
基体11及び31の接着はガラス等の無機接着剤、或い
はエポキシ系接着剤等の接着剤32によって行うことが
できる。
また基体31の基体11と対向する側の面には、磁界発
生手段14を埋込む凹部33を設けおくこともできる。
このように両基板11及び31によってMRE素子12
を挾み込む構造とするときは、MRE素子12を始めと
して基体11の各部が保護されるので、機械的強度と安
定性の向上を図ることができると共に、特に磁気媒体と
の対接面20に臨むMRE素子12が両基体11間に挾
み込まれた構造を採るので、磁気媒体との対接のいわゆ
る当りが安定化され、特に対接面20における基体11
及び12間の間隔を小とするときは、特に両者間のMR
E素子12を含む部分の摩耗の低減化をはかることがで
き、長期に亘って安定して磁気媒体と対接させることが
できる。
尚、基体11または31を、例えばサファイヤ単結晶体
によって構成するときは、磁気ヘッドに付随する各種回
路、例えC11増幅、波形整形、一時記憶、直並列変換
、時間軸変換、A−D変換、D−A変換等の各種回路を
、例えばサファイア基体11上にエピタキシャル成長し
たシリコン半導体層に周知の集積回路技術によって形成
する。
この場合多チャンネル磁気ヘッドからの並列出力を同一
基体においてその一部または全部に関して原信号に復元
後出力することにより多チヤンネルヘッドの難点である
磁気ヘッドよりのリード線に引き出しの煩雑さの解消、
外部雑音及びトラック間クロストークの低減化、信号の
信頼性の向上、装置の小型化、低廉化を図ることができ
、長寿命、高信頼性で、周波数特性にすぐれ、高感度、
高S/Nの再生磁気ヘッドを得ることができる。
また、上述したように基体11をサファイアによって構
成する場合は、これが高硬度、耐摩耗性を有し、更に高
い熱伝導度を有するので磁気媒体との対接面20に臨ん
でその一部を構成する場合、その耐摩耗性によって長期
に亘って磁気媒体とのいわゆる゛当り“を良好に保持で
き、また、その良熱伝導性によって、すぐれた放熱効果
を得ることができ熱雑音の低減化をはかることができる
利益がある。
【図面の簡単な説明】
第1図なシ?シ第3図は夫々従来の磁気抵抗効果型磁気
ヘッドの各部を示す図、第4図は本考案による磁気ヘッ
ドの一例を示す拡大上面図、第5図はそのA−A線上の
拡大断面図、第6図は本考案による磁気ヘッドの他の例
を示す拡大上面図、第7図はそのB−B線上の拡大断面
図、第8図及び第9図はMRE素子よりの出力とり出し
態様を示す図、第10図はMRE素子の特性の説明図、
第11図は本考案による磁気ヘッドの他の例の要部の路
線的拡大上面図、第12図は本案磁気ヘッドの更に他の
例の拡大上面図、第13図はそのC−C線上の断面図で
ある。 11及び31は基体、12,12A、12BはMRE素
子、14及び15は第1及び第2の磁界発生手段である

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 基体上に複数の薄膜磁気抵抗効果素子が設けられ、これ
    ら薄膜磁気抵抗効果素子の配列方向の両端に磁極を配す
    ることにより、これら薄膜磁気抵抗素子に対して共通に
    、第1の磁界を与える第1の磁界発生手段と、上記第1
    の磁界に直交する第2の磁界を上記複数の磁気抵抗効果
    素子に共通に一括して与える永久磁石より成る第2の磁
    界発生手段とが設けられ、上記第1及び第2の磁界によ
    って上記磁気抵抗効果素子を所定の方向に磁化し得るよ
    うにしたことを特徴とする磁気ヘッド。
JP9293579U 1979-07-04 1979-07-04 磁気ヘツド Expired JPS6017054Y2 (ja)

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JP9293579U JPS6017054Y2 (ja) 1979-07-04 1979-07-04 磁気ヘツド

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JP9293579U JPS6017054Y2 (ja) 1979-07-04 1979-07-04 磁気ヘツド

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JPS5613830U JPS5613830U (ja) 1981-02-05
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102203066B1 (ko) * 2019-12-04 2021-01-14 한국표준과학연구원 적분구 광원

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