JPS60164914A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS60164914A JPS60164914A JP2117884A JP2117884A JPS60164914A JP S60164914 A JPS60164914 A JP S60164914A JP 2117884 A JP2117884 A JP 2117884A JP 2117884 A JP2117884 A JP 2117884A JP S60164914 A JPS60164914 A JP S60164914A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- head
- anisotropy
- vertical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3113—Details for improving the magnetic domain structure or avoiding the formation or displacement of undesirable magnetic domains
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明は薄膜磁気ヘッドの構造に係り、特に磁性層に有
効な磁気異方性を付加できるようにした薄膜磁気ヘッド
に関する。
効な磁気異方性を付加できるようにした薄膜磁気ヘッド
に関する。
（ｂ）従来技術と問題点
従来、薄膜磁気ヘッドは例えば第１図に示すように構成
されている。第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの構成を説
明する断面斜携図を示す。図において、蒲１１１磁恒ヘ
ッドＡ社セラミック等よ＋１ｈふ基板１上に下部磁性層
２、導体層よりなるコイル３、上部磁性層５及び絶縁物
（ＳｉＯｘ等）４を積層し、さらに先端に記録媒体（図
示しない）の情報を読み／書きするためのギャップ６を
有する構造である。
されている。第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの構成を説
明する断面斜携図を示す。図において、蒲１１１磁恒ヘ
ッドＡ社セラミック等よ＋１ｈふ基板１上に下部磁性層
２、導体層よりなるコイル３、上部磁性層５及び絶縁物
（ＳｉＯｘ等）４を積層し、さらに先端に記録媒体（図
示しない）の情報を読み／書きするためのギャップ６を
有する構造である。
一般に強磁性体は結晶の方向により磁化され易い軸と、
されにくい軸がある。これは磁化に伴うエネルギーに方
向性があるためで、この現象を磁気異方性と言われてい
る。従来よシ薄膜磁気ヘッドでは、その磁性層に磁気異
方性を付加し、磁化されにくい軸（困難軸）方向がヘッ
ドの磁場駆動方向と一致するようにし、磁化の回転によ
り磁化反転が生じるようにすることが知られている。
されにくい軸がある。これは磁化に伴うエネルギーに方
向性があるためで、この現象を磁気異方性と言われてい
る。従来よシ薄膜磁気ヘッドでは、その磁性層に磁気異
方性を付加し、磁化されにくい軸（困難軸）方向がヘッ
ドの磁場駆動方向と一致するようにし、磁化の回転によ
り磁化反転が生じるようにすることが知られている。
この磁気異方性の付加方法として、従来では上記上部、
下部磁性層５，２を磁場中成膜、および上記絶縁物４の
加熱を磁場中熱処理することが行われている。これは磁
場中成膜で付加された磁性層の磁気異方性が後工程の絶
縁物の形成過程の加熱により失われて等方膜にならない
ようにしている０ 又、磁性層は形状効果によって生ずる磁気異方性があり
、例えば第２図（イ）（ロ）に示す形状では、困難軸７
が図の矢印に示す右左方向、第２図（ハ）に）に示す形
状では困難軸７が図の矢印に示す上下方向である。上記
薄膜磁気ヘッドＡの上下磁性層５゜２は第３図に示すよ
うな形状をしており、それは図の上下方向に長く、左右
方向に短かいので、第２図（イ）（ロ）に示す形状と同
じように形状効果により生じる磁気異方性の困難軸７が
矢印方向となる。
下部磁性層５，２を磁場中成膜、および上記絶縁物４の
加熱を磁場中熱処理することが行われている。これは磁
場中成膜で付加された磁性層の磁気異方性が後工程の絶
縁物の形成過程の加熱により失われて等方膜にならない
ようにしている０ 又、磁性層は形状効果によって生ずる磁気異方性があり
、例えば第２図（イ）（ロ）に示す形状では、困難軸７
が図の矢印に示す右左方向、第２図（ハ）に）に示す形
状では困難軸７が図の矢印に示す上下方向である。上記
薄膜磁気ヘッドＡの上下磁性層５゜２は第３図に示すよ
うな形状をしており、それは図の上下方向に長く、左右
方向に短かいので、第２図（イ）（ロ）に示す形状と同
じように形状効果により生じる磁気異方性の困難軸７が
矢印方向となる。
この困難軸７がヘッド磁場駆動方向と一致してないため
、前記磁気異方性の付加方法では十分な異方性の付加が
難かしいという゛欠点がある。なお、８は上下磁性層結
合部、９Ｉ′ｉギャップ部である。
、前記磁気異方性の付加方法では十分な異方性の付加が
難かしいという゛欠点がある。なお、８は上下磁性層結
合部、９Ｉ′ｉギャップ部である。
（ｃ） 発明の目的
本発明の目的は磁気ヘッドの磁性層の形状の影響によっ
て磁気異方性が左右されることに着目して、磁性層の形
状を変えることによって磁気ヘッドに有効な磁気異方性
を付加することにある。
て磁気異方性が左右されることに着目して、磁性層の形
状を変えることによって磁気ヘッドに有効な磁気異方性
を付加することにある。
（ｄ） 発明の構成
そしてこの目的は本発明圧よれば、磁性層の端部が露出
し、磁気記録媒と接触又は近接してこの磁気記録媒の磁
化を反転させることにより情報を記録する薄膜磁気ヘッ
ドであって前記磁化の方向と平行に前記磁性層にストラ
イプ状の溝を形状したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド
を提供することによって達成される。
し、磁気記録媒と接触又は近接してこの磁気記録媒の磁
化を反転させることにより情報を記録する薄膜磁気ヘッ
ドであって前記磁化の方向と平行に前記磁性層にストラ
イプ状の溝を形状したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド
を提供することによって達成される。
（ｅ） 発明の実施例
以下本発明の実施例を図面により詳述する。
第４図は本発明の詳細な説明する磁性層の図で、（イ）
は平面図、（ロ）は側面図、第５図は本発明の薄膜磁気
ヘッドの磁性層の一実施例を示す平面図である。
は平面図、（ロ）は側面図、第５図は本発明の薄膜磁気
ヘッドの磁性層の一実施例を示す平面図である。
第２図（イ）（ロ）に示すような磁性層の形状に、第４
図（イ）（ロ）に示すようなストライプ状の浅め溝１０
を横方向に設ければ、第２図（ハ）に）の形状と同じよ
うに、形状効果によって生ずる磁気異方性が図示のよう
な上、下方向の困難軸７となる。
図（イ）（ロ）に示すようなストライプ状の浅め溝１０
を横方向に設ければ、第２図（ハ）に）の形状と同じよ
うに、形状効果によって生ずる磁気異方性が図示のよう
な上、下方向の困難軸７となる。
そこで、磁性層の磁気異方性が成膜時の磁場、及び熱処
理時の磁場とともに、磁性層形状にも太きく影響される
ことに着目しヘッドに有効な磁気異方性を付加する手段
として、仁の実施例では上下磁性１ｉｉ５’、２’の形
状は第３図に示す従来の上下磁性層５，２のギャップＶ
Ａ６と上下磁性層結合部８の間に、媒体の磁化方向と平
行に、第５図に示すように上下磁性層５′、２′上にス
トライプ状の浅い溝１１を形成している。
理時の磁場とともに、磁性層形状にも太きく影響される
ことに着目しヘッドに有効な磁気異方性を付加する手段
として、仁の実施例では上下磁性１ｉｉ５’、２’の形
状は第３図に示す従来の上下磁性層５，２のギャップＶ
Ａ６と上下磁性層結合部８の間に、媒体の磁化方向と平
行に、第５図に示すように上下磁性層５′、２′上にス
トライプ状の浅い溝１１を形成している。
上記のように浅い溝１１によυ上下磁性層５′。
２′は独立した沢山の横なが形状の集りとなり、個々の
横なが形状効果により生ずる磁気異方性は図示のような
上下方向の困難軸７となる。従って困難軸７がヘッド磁
場駆動方向と一致し、上下磁性層５／ 、 ２ ／の磁
化がヘッド電流に対しリニアに反応する方向となる。又
上下磁性／＠５’、２’の磁気異方性の困難軸７がヘッ
ド磁場駆動方向と一致しているので、絶縁物の熱処理に
おいて、加熱による磁気異方性が崩れるようなことはな
い。
横なが形状効果により生ずる磁気異方性は図示のような
上下方向の困難軸７となる。従って困難軸７がヘッド磁
場駆動方向と一致し、上下磁性層５／ 、 ２ ／の磁
化がヘッド電流に対しリニアに反応する方向となる。又
上下磁性／＠５’、２’の磁気異方性の困難軸７がヘッ
ド磁場駆動方向と一致しているので、絶縁物の熱処理に
おいて、加熱による磁気異方性が崩れるようなことはな
い。
なお、実施例では上、上磁性層５’、２’の厚さを３μ
ｍ、それに対し浅い溝１１’５０．５〜１．０μｍの溝
幅、溝深さでエツチングにより形成している。
ｍ、それに対し浅い溝１１’５０．５〜１．０μｍの溝
幅、溝深さでエツチングにより形成している。
以下薄膜磁気ヘッドの製造工程を第１図を参照し説明す
る。
る。
１ 基板（セラミック等）１上にアルミナＡ／θ８゜又
は８１０．等で下部保簑膜（図示せず）をつける。
は８１０．等で下部保簑膜（図示せず）をつける。
この保護膜はヘッドを上下でバッキングし、ヘッド素子
がダメージを受けないようにしている。
がダメージを受けないようにしている。
２、上記下部保護膜上に、下部磁性層２′を形成する。
このときエツチングにより本発明の浅い溝１１を入れる
。
。
３、その上にギャップ６層を、アノ１１１ミナｈ７＋ｔ
ｏｓかＳｔｏ！で形成する。
ｏｓかＳｔｏ！で形成する。
４、ギャップ６層の上に、絶縁層（樹脂）４を形成し、
熱処理により硬化する。
熱処理により硬化する。
５、上記絶縁層４の上に、コイル（銅材）３を形成する
。
。
６ 上記コイル３上に、絶縁層（樹脂）４を形成し、熱
処理によ勺硬化する。
処理によ勺硬化する。
７、上記絶縁層４上に、上部磁性層５′を形成する。こ
のときエツチングにより本発明の浅い溝１１を入れる。
のときエツチングにより本発明の浅い溝１１を入れる。
８、上部磁性層５′上に、アルミナＪ２０ｍ 、又は５
ｔａｙ等で上部保護膜（図示せず）全つける。
ｔａｙ等で上部保護膜（図示せず）全つける。
９．先端（図の上部）を切断して、ギャップ６の深さ寸
法を出す。
法を出す。
上記のように形成した薄膜磁気ヘッドの上下磁性層ｓ
／ 、 ２ ／の形状効果により生ずる磁気異方性の困
難軸方向７とヘッド磁気駆動方向が一致するため、上下
磁性層５’、２’の形状により有効な磁気異方性の付加
が可能と々る。
／ 、 ２ ／の形状効果により生ずる磁気異方性の困
難軸方向７とヘッド磁気駆動方向が一致するため、上下
磁性層５’、２’の形状により有効な磁気異方性の付加
が可能と々る。
（ｆ３ 発明の効果
以上詳細に説明したように、本発明の薄膜磁気ヘッドは
磁性１！！に、媒体の磁化方向と平行にストライプ状の
溝を、形成することにより磁性層の形状効果により生ず
る磁気異方性の困難軸方向とヘッド磁場駆動方向が一致
させることができ、従来のように磁場中成膜および磁−
場中熱処理を行い磁気異方性を付加しなくとも、磁性層
の形状により有効な磁気異方性を付加することが可能で
ある。
磁性１！！に、媒体の磁化方向と平行にストライプ状の
溝を、形成することにより磁性層の形状効果により生ず
る磁気異方性の困難軸方向とヘッド磁場駆動方向が一致
させることができ、従来のように磁場中成膜および磁−
場中熱処理を行い磁気異方性を付加しなくとも、磁性層
の形状により有効な磁気異方性を付加することが可能で
ある。
第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの構成を説明する断面斜
視図、第２図（イ）〜に）は磁性層の形状効果により生
ずる磁気異方性を説明する図、第３図は従来の上下磁性
層の形状効果により生ずる磁気異方性を説明する図、第
４図（イ）（ロ）は本発明の詳細な説明する磁性層の図
で、（イ）は平面図、（ロ）は側面図、第５図は本発明
の薄膜磁気ヘッドの磁性層の一実施例を示す平面図であ
る。 図におじで、２′は下部磁性層、５′は上部磁性層、６
はギャップ部、７は磁気異方性の困難軸、８は上下磁性
層結合部、１０．１１はストライプ状の浅い溝を示す。 茶 １ 祠 ハ Ｗ−２図 （イ） （０） （ハ）（＝） 竿３ 目
視図、第２図（イ）〜に）は磁性層の形状効果により生
ずる磁気異方性を説明する図、第３図は従来の上下磁性
層の形状効果により生ずる磁気異方性を説明する図、第
４図（イ）（ロ）は本発明の詳細な説明する磁性層の図
で、（イ）は平面図、（ロ）は側面図、第５図は本発明
の薄膜磁気ヘッドの磁性層の一実施例を示す平面図であ
る。 図におじで、２′は下部磁性層、５′は上部磁性層、６
はギャップ部、７は磁気異方性の困難軸、８は上下磁性
層結合部、１０．１１はストライプ状の浅い溝を示す。 茶 １ 祠 ハ Ｗ−２図 （イ） （０） （ハ）（＝） 竿３ 目
Claims (1)
- 磁性層の端部が露出し、磁気記録媒体と接触又は近接し
てこの磁気記録媒体の磁化を反転させることにより情報
を記録する薄膜磁気ヘッドであって、前記磁化の方向と
平行に前記磁性層にストライブ状の溝を形成したことを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117884A JPS60164914A (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117884A JPS60164914A (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60164914A true JPS60164914A (ja) | 1985-08-28 |
Family
ID=12047679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2117884A Pending JPS60164914A (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60164914A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0278006A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-19 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH03113815A (ja) * | 1989-09-27 | 1991-05-15 | Yoshihisa Nakamura | 磁気ヘッドの磁区構造制御方法 |
| JPH0411313A (ja) * | 1990-04-30 | 1992-01-16 | Seagate Technol Internatl | 薄膜磁気ヘッド |
| US7486478B2 (en) | 2005-02-07 | 2009-02-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Magnetic head |
-
1984
- 1984-02-08 JP JP2117884A patent/JPS60164914A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0278006A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-19 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH03113815A (ja) * | 1989-09-27 | 1991-05-15 | Yoshihisa Nakamura | 磁気ヘッドの磁区構造制御方法 |
| JPH0411313A (ja) * | 1990-04-30 | 1992-01-16 | Seagate Technol Internatl | 薄膜磁気ヘッド |
| US7486478B2 (en) | 2005-02-07 | 2009-02-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Magnetic head |
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