JPH03113815A - 磁気ヘッドの磁区構造制御方法 - Google Patents
磁気ヘッドの磁区構造制御方法Info
- Publication number
- JPH03113815A JPH03113815A JP24933189A JP24933189A JPH03113815A JP H03113815 A JPH03113815 A JP H03113815A JP 24933189 A JP24933189 A JP 24933189A JP 24933189 A JP24933189 A JP 24933189A JP H03113815 A JPH03113815 A JP H03113815A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- pole
- domain structure
- controlling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 title claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 29
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は高密度磁気記録を達成するための磁気ヘッドに
係り、特にトラック幅が狭い垂直磁気記録用あるいは面
内磁気記録用の薄膜磁気ヘッドに関する。
係り、特にトラック幅が狭い垂直磁気記録用あるいは面
内磁気記録用の薄膜磁気ヘッドに関する。
【従来の技術１
磁気ヘッドの磁極磁性膜に加工を施して磁区構造を制御
するといった公知例は、例えば特開昭５９−１７８６０
９に記載されている。これは、磁極磁性膜の端部に、ト
ラック幅方向にほぼ平行な切り欠けを入れて磁区構造を
制御するといったものである。しかし磁極磁性膜をこの
ような構造にすると、切り欠けの周辺に９０″磁壁がで
きるといった問題が生ずる。この９０″磁壁は記録再生
動作時に不規則な動きを伴うため、再生出力変動の原因
となる。また切り欠けの角度や大きさによって磁性膜の
磁気特性が大幅に変動するため、実際のヘッドに適用す
ることは非常に難しいといった問題がある。 （発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、トラック幅を狭小化した際にも８力変
動、および再生出力の低下をもたらすことのない磁極磁
性膜の磁区構造制御方法を提供することにある。 【課題を解決するための手段】 上記目的は、磁気ヘッドを構成する磁極磁性膜のトラッ
ク幅方向に浅い溝を周期的に設け、再生動作時に起こる
９０°磁壁、および１８０°磁壁の不規則な動きを抑制
することにより達成される。
するといった公知例は、例えば特開昭５９−１７８６０
９に記載されている。これは、磁極磁性膜の端部に、ト
ラック幅方向にほぼ平行な切り欠けを入れて磁区構造を
制御するといったものである。しかし磁極磁性膜をこの
ような構造にすると、切り欠けの周辺に９０″磁壁がで
きるといった問題が生ずる。この９０″磁壁は記録再生
動作時に不規則な動きを伴うため、再生出力変動の原因
となる。また切り欠けの角度や大きさによって磁性膜の
磁気特性が大幅に変動するため、実際のヘッドに適用す
ることは非常に難しいといった問題がある。 （発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、トラック幅を狭小化した際にも８力変
動、および再生出力の低下をもたらすことのない磁極磁
性膜の磁区構造制御方法を提供することにある。 【課題を解決するための手段】 上記目的は、磁気ヘッドを構成する磁極磁性膜のトラッ
ク幅方向に浅い溝を周期的に設け、再生動作時に起こる
９０°磁壁、および１８０°磁壁の不規則な動きを抑制
することにより達成される。
【作用】
磁気ヘッドの磁極磁性膜に、本発明による磁区構造制御
用の浅い溝（グループ）が設けられている場合と設けら
れていない場合における磁区構造の違いを、垂直記録用
単磁極ヘッドの主磁極膜を例にとって説明する。 第
１図はトラック幅が１００μｍ、および５０μｍの主磁
極膜の磁区構造を、ビッタ−法によりｗＡ察した結果を
示した図である。グループを施す前の主磁極膜の異方性
磁界Ｈｋは２，１０ｅであった。この結果から磁極磁性
膜に浅い溝を設けると、トラック幅に対する還流磁区の
大きさを小さくできることがわかる。 一方、第２図は、グループが設けられている磁性膜と設
けられていない磁性膜の磁化過程の違いを説明するため
の図である。磁極磁性膜にグループが設けられていない
と、外部磁界が印加された場合、磁界と同じ方向に磁化
を持つ還流磁区が大きく成長する。またこの還流磁区の
大きさは膜内で一様でないため、外部磁界の印加に伴い
１８０゜磁壁も動くようになる。これに対し磁極磁性膜
にグループが設けられている場合は、外部磁界印加に伴
う還流磁区の成長が抑制されると同時に１８０°磁壁も
動きにくくなるため、安定した再生出力が得られるよう
になる。このようにグループが設けられている磁性膜の
磁化変化は、ａ壁移動が抑制されるため磁化回転が主流
となる。この結果として高密度、高周波領域での再生特
性を向上させることができるようになる。
用の浅い溝（グループ）が設けられている場合と設けら
れていない場合における磁区構造の違いを、垂直記録用
単磁極ヘッドの主磁極膜を例にとって説明する。 第
１図はトラック幅が１００μｍ、および５０μｍの主磁
極膜の磁区構造を、ビッタ−法によりｗＡ察した結果を
示した図である。グループを施す前の主磁極膜の異方性
磁界Ｈｋは２，１０ｅであった。この結果から磁極磁性
膜に浅い溝を設けると、トラック幅に対する還流磁区の
大きさを小さくできることがわかる。 一方、第２図は、グループが設けられている磁性膜と設
けられていない磁性膜の磁化過程の違いを説明するため
の図である。磁極磁性膜にグループが設けられていない
と、外部磁界が印加された場合、磁界と同じ方向に磁化
を持つ還流磁区が大きく成長する。またこの還流磁区の
大きさは膜内で一様でないため、外部磁界の印加に伴い
１８０゜磁壁も動くようになる。これに対し磁極磁性膜
にグループが設けられている場合は、外部磁界印加に伴
う還流磁区の成長が抑制されると同時に１８０°磁壁も
動きにくくなるため、安定した再生出力が得られるよう
になる。このようにグループが設けられている磁性膜の
磁化変化は、ａ壁移動が抑制されるため磁化回転が主流
となる。この結果として高密度、高周波領域での再生特
性を向上させることができるようになる。
本実施例では１本発明による磁気ヘッドの磁区構造制御
方法を垂直記録用単磁極ヘッドの主磁極膜に適用してそ
の効果を確認した。以下、本発明の実施例を第３図以下
により説明する。第３図はグループの形成方法を説明す
るための図である。 まず主磁極膜となる膜厚０．３μｍのＣｏＺｒＮｂ非晶
質合金（２）を機械研磨を施したセラミクス基板（１）
上にスパッタ法により形成する。スパッタ後主磁極膜（
２）を、磁化困難軸方向にそって任意のトラック幅にパ
ターニングする。パタニング後磁性膜上に再度フォトレ
ジストを塗布し、露光した後グループとなる領域以外の
レジストを除去する。その後Ａｒイオン雰囲気中でミリ
ングを施すことにより任意の深さのグループ（３）が形
成される。第４図に本発明の実施例であるグループを施
した主磁極膜の概略図を示す。本実施例ではグループの
幅を３μｍ、間隔を２５μｍ、深さを０．１μｍとした
。 第５図は本実施例において記録再生特性の評価用に用い
た垂直記録用単磁極ヘッドの概略図である。グループが
施された主磁極膜（４）は、機械研磨の施されたセラミ
ック基板（５）とのあいだに挾められ、巻線（６）の施
されたフェライトよりなる補助磁極（７）上に固定され
る。その後ヘツド先端は、主磁極膜が任意の長さＬにな
るまで研磨されヘッド加工が終了する。 本実施例で作製された単磁極ヘッドの記録再生特性は、
Ｃｏ−Ｃｒ／Ｎ１−Ｆｓ二層膜垂直記録媒体を用いて評
価した。この媒体は５．２５インチのフレキシブル媒体
で、Ｃｏ−Ｃｒ層厚みは１５０ｎｍ、Ｎｉ−Ｆｅ層厚み
は５５０ｎｍ、一方、Ｃｏ−Ｃｒ１の膜垂直方向の保磁
力Ｈａは６８００ｅである。なお測定に用いた単磁極ヘ
ッドは、主磁極膜の磁化困難方向の異方性磁界Ｈｋが２
．１０ｅ、５．４０ｅでグループのないもの（タイプＡ
、タイプＣ）、および異方性磁界Ｈｋが２．１０ｅでグ
ループあり（タイプＢ）の三種類である。 主磁極長り
をパラメータとして再生出力の比較を行った結果を第６
＠に示す。この図は記録と再生を数回繰り返し、測定さ
れる出力の最大値と最小値をプロットした結果を示して
いる。 この図から、異方性磁界Ｈｋが大きくグループの無い主
磁極をもつタイプＣは、Ｈｋが小さくグループの無いタ
イプＡやグループのあるタイプＢより出力が安定してい
るが、低記録密度領域（２０ｋＢＰＩ）および高記録密
度領域（セカンドピーク弁１５０ｋＢＰＩ）共に再生出
力が低いことがわかる。これは大きなトラック幅方向の
異方性磁界のために磁化回転が抑制されているためであ
ると考えられる。これに対し、共に異方性磁界Ｈｋが小
さく、グループの無いタイプＡとグループのあるタイプ
Ｂとの再生出力を比較すると、２０ｋＢＰＩ程度の低い
記録密度領域ではほとんど違いがあられれていないが、
セカンドピーク（１５０ｋＢＰｒ）では、グループのあ
るタイプＢがグループの無いタイプＡよりも高く、シか
も安定していることがわかる。このように磁気ヘッドを
構成する磁極磁性膜に浅いグループを形成して磁区構造
を制御すことにより、再生出力を下げることなく記録再
生動作を安定に行えるようになることが確かめられた。 【発明の効果） 本発明によれば、トラック幅が５μｍ以下でも再生効率
が高く、かつ再生出力が安定した磁気ヘッドが得られる
ので、特に記憶容量が大きくかつデータの高速度転送を
必要とする磁気ディスク装置用ヘッドとして有効である
。
方法を垂直記録用単磁極ヘッドの主磁極膜に適用してそ
の効果を確認した。以下、本発明の実施例を第３図以下
により説明する。第３図はグループの形成方法を説明す
るための図である。 まず主磁極膜となる膜厚０．３μｍのＣｏＺｒＮｂ非晶
質合金（２）を機械研磨を施したセラミクス基板（１）
上にスパッタ法により形成する。スパッタ後主磁極膜（
２）を、磁化困難軸方向にそって任意のトラック幅にパ
ターニングする。パタニング後磁性膜上に再度フォトレ
ジストを塗布し、露光した後グループとなる領域以外の
レジストを除去する。その後Ａｒイオン雰囲気中でミリ
ングを施すことにより任意の深さのグループ（３）が形
成される。第４図に本発明の実施例であるグループを施
した主磁極膜の概略図を示す。本実施例ではグループの
幅を３μｍ、間隔を２５μｍ、深さを０．１μｍとした
。 第５図は本実施例において記録再生特性の評価用に用い
た垂直記録用単磁極ヘッドの概略図である。グループが
施された主磁極膜（４）は、機械研磨の施されたセラミ
ック基板（５）とのあいだに挾められ、巻線（６）の施
されたフェライトよりなる補助磁極（７）上に固定され
る。その後ヘツド先端は、主磁極膜が任意の長さＬにな
るまで研磨されヘッド加工が終了する。 本実施例で作製された単磁極ヘッドの記録再生特性は、
Ｃｏ−Ｃｒ／Ｎ１−Ｆｓ二層膜垂直記録媒体を用いて評
価した。この媒体は５．２５インチのフレキシブル媒体
で、Ｃｏ−Ｃｒ層厚みは１５０ｎｍ、Ｎｉ−Ｆｅ層厚み
は５５０ｎｍ、一方、Ｃｏ−Ｃｒ１の膜垂直方向の保磁
力Ｈａは６８００ｅである。なお測定に用いた単磁極ヘ
ッドは、主磁極膜の磁化困難方向の異方性磁界Ｈｋが２
．１０ｅ、５．４０ｅでグループのないもの（タイプＡ
、タイプＣ）、および異方性磁界Ｈｋが２．１０ｅでグ
ループあり（タイプＢ）の三種類である。 主磁極長り
をパラメータとして再生出力の比較を行った結果を第６
＠に示す。この図は記録と再生を数回繰り返し、測定さ
れる出力の最大値と最小値をプロットした結果を示して
いる。 この図から、異方性磁界Ｈｋが大きくグループの無い主
磁極をもつタイプＣは、Ｈｋが小さくグループの無いタ
イプＡやグループのあるタイプＢより出力が安定してい
るが、低記録密度領域（２０ｋＢＰＩ）および高記録密
度領域（セカンドピーク弁１５０ｋＢＰＩ）共に再生出
力が低いことがわかる。これは大きなトラック幅方向の
異方性磁界のために磁化回転が抑制されているためであ
ると考えられる。これに対し、共に異方性磁界Ｈｋが小
さく、グループの無いタイプＡとグループのあるタイプ
Ｂとの再生出力を比較すると、２０ｋＢＰＩ程度の低い
記録密度領域ではほとんど違いがあられれていないが、
セカンドピーク（１５０ｋＢＰｒ）では、グループのあ
るタイプＢがグループの無いタイプＡよりも高く、シか
も安定していることがわかる。このように磁気ヘッドを
構成する磁極磁性膜に浅いグループを形成して磁区構造
を制御すことにより、再生出力を下げることなく記録再
生動作を安定に行えるようになることが確かめられた。 【発明の効果） 本発明によれば、トラック幅が５μｍ以下でも再生効率
が高く、かつ再生出力が安定した磁気ヘッドが得られる
ので、特に記憶容量が大きくかつデータの高速度転送を
必要とする磁気ディスク装置用ヘッドとして有効である
。
第１図、第２図は本発明の詳細な説明するための磁構造
の概略図である。第３図、第４図は本発明によるグルー
プ作製方法、およびグループの施さ九た主磁極膜の概略
図を示す６第５図は本実施例で使用した垂直磁気記録用
単磁極ヘッドの概略図である。第６図は本発明による効
果を説明するための図である。 符号の説明 １．５・・・セラミクス基板、２，４・・・主磁極膜、
３・・・グループ、６・・・コイル、７・・・補助磁極
。
の概略図である。第３図、第４図は本発明によるグルー
プ作製方法、およびグループの施さ九た主磁極膜の概略
図を示す６第５図は本実施例で使用した垂直磁気記録用
単磁極ヘッドの概略図である。第６図は本発明による効
果を説明するための図である。 符号の説明 １．５・・・セラミクス基板、２，４・・・主磁極膜、
３・・・グループ、６・・・コイル、７・・・補助磁極
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁気ヘッドの磁気回路を構成する磁性膜に浅い溝を
設けることにより、磁性膜の磁区構造を制御することを
特徴とする磁気ヘッドの磁区構造制御方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの磁区構造
制御方法において、磁極磁性膜に一定間隔の浅い溝を、
エッチング法により形成することを特徴とする磁区構造
制御方法。３、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド
の磁区構造制御方法において、磁極磁性膜の異方性磁界
が２Ｏｅ程度であることを特徴とする磁区構造制御方法
。 ４、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの磁区構造
制御方法において、磁極磁性膜に設けられる浅い溝の深
さが、磁極磁性膜厚の１／３程度であることを特徴とす
る磁区構造制御方法。 ５、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの磁区構造
制御方法において、磁極磁性膜に設けられる浅い溝の間
隔は、トラック幅に対して１／４程度であることを特徴
とする磁区構造制御方法。 ６、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの磁区構造
制御方法において、磁極磁性膜に設けられる浅い溝の幅
は、溝間隔の１／８程度であることを特徴とする磁区構
造制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24933189A JPH03113815A (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 磁気ヘッドの磁区構造制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24933189A JPH03113815A (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 磁気ヘッドの磁区構造制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03113815A true JPH03113815A (ja) | 1991-05-15 |
Family
ID=17191424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24933189A Pending JPH03113815A (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 磁気ヘッドの磁区構造制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03113815A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002207071A (ja) * | 2001-01-10 | 2002-07-26 | Tohoku Ricoh Co Ltd | 磁気検知素子及びこの素子を用いた方位検知システム |
| SG112009A1 (en) * | 2003-11-28 | 2005-06-29 | Toshiba Kk | Magnetic recording head, head suspension assembly, magnetic recording apparatus, composite head, and magnetic recording and reproducing apparatus |
| JP2006302489A (ja) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Headway Technol Inc | 垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60164914A (ja) * | 1984-02-08 | 1985-08-28 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS63230318A (ja) * | 1987-03-02 | 1988-09-26 | オーエンス−イリノイ・プラスチツク・プロダクツ・インコーポレーテツド | 支持なしで立つ部分結晶二軸延伸ヒートセツト中空ポリエチレンテレフタレート容器を製造する方法 |
-
1989
- 1989-09-27 JP JP24933189A patent/JPH03113815A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60164914A (ja) * | 1984-02-08 | 1985-08-28 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS63230318A (ja) * | 1987-03-02 | 1988-09-26 | オーエンス−イリノイ・プラスチツク・プロダクツ・インコーポレーテツド | 支持なしで立つ部分結晶二軸延伸ヒートセツト中空ポリエチレンテレフタレート容器を製造する方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002207071A (ja) * | 2001-01-10 | 2002-07-26 | Tohoku Ricoh Co Ltd | 磁気検知素子及びこの素子を用いた方位検知システム |
| JP4575602B2 (ja) * | 2001-01-10 | 2010-11-04 | 東北リコー株式会社 | 磁気検知素子 |
| SG112009A1 (en) * | 2003-11-28 | 2005-06-29 | Toshiba Kk | Magnetic recording head, head suspension assembly, magnetic recording apparatus, composite head, and magnetic recording and reproducing apparatus |
| JP2006302489A (ja) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Headway Technol Inc | 垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2715808B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| US6420058B1 (en) | Magnetic recording medium | |
| US6128166A (en) | Magnetic head for increasing track density of a magnetic disk | |
| JP2002359138A (ja) | 磁性体のパターニング方法、磁気記録媒体、磁気ランダムアクセスメモリ | |
| JPS6329326B2 (ja) | ||
| JP3286291B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US4646429A (en) | Method of making magnetic head | |
| US5469312A (en) | Thin film magnetic head device having a core recess set to a predetermined spacing loss | |
| JP2001167420A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2000149219A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH03113815A (ja) | 磁気ヘッドの磁区構造制御方法 | |
| JPH0573839A (ja) | 磁気デイスク装置 | |
| JPH0583965B2 (ja) | ||
| KR100198864B1 (ko) | 박막 자기테이프 헤드 제조방법 | |
| JPH0234083B2 (ja) | ||
| JPH03108112A (ja) | 磁気抵抗効果ヘッドの製造方法 | |
| JPH0321965B2 (ja) | ||
| JP2002074654A (ja) | 機能素子の製造方法および機能素子 | |
| JPS58179921A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0714118A (ja) | 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPS63129511A (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘツド | |
| JPS60136016A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS63308715A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH01196711A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH01201812A (ja) | 薄膜磁気ヘツド |