JPS5933613A - 薄膜磁気ヘツドの磁極および製法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの磁極および製法Info
- Publication number
- JPS5933613A JPS5933613A JP14345982A JP14345982A JPS5933613A JP S5933613 A JPS5933613 A JP S5933613A JP 14345982 A JP14345982 A JP 14345982A JP 14345982 A JP14345982 A JP 14345982A JP S5933613 A JPS5933613 A JP S5933613A
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- JP
- Japan
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- magnetic material
- magnetic
- layer
- material layer
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- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3113—Details for improving the magnetic domain structure or avoiding the formation or displacement of undesirable magnetic domains
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)技術分野
本発明は薄膜磁気ヘッドの磁気および製法に関する。
(2)技術の背景
薄膜磁気ヘッドの磁極は、磁気記録媒体の高記録密度化
に伴なって、コア幅すなわち磁極先端の幅が徐々に小さ
くなってきている。一般にコア幅が減少すると、形状磁
気異方性が増大するので、所望の異方性、すなわちコア
幅方向の異方性を付与することが困難となる。
に伴なって、コア幅すなわち磁極先端の幅が徐々に小さ
くなってきている。一般にコア幅が減少すると、形状磁
気異方性が増大するので、所望の異方性、すなわちコア
幅方向の異方性を付与することが困難となる。
(3)従来技術と問題点
従来、N膜磁気ヘッドの磁極としては、軟磁性材料の即
層膜、または非磁性材料層をはさんで積層した軟磁性材
料の多層膜が使用されている。
層膜、または非磁性材料層をはさんで積層した軟磁性材
料の多層膜が使用されている。
磁極が多層であっても竿層であっても、軟磁性材料層1
には、第1図に示すように磁区2が分布し。
には、第1図に示すように磁区2が分布し。
先端部においては、コア端面に向かう方向に磁化された
磁区が、端面に沿う方向に磁化された磁区よりはるかに
大きい。
磁区が、端面に沿う方向に磁化された磁区よりはるかに
大きい。
このような磁区分布を有する磁極が、端面において、磁
気記録媒体に近づいて、コア幅に垂直な方向の磁化の変
化金受けるときVよ、磁区間の磁壁が移動して垂直方向
の磁区が拡大され、磁極は全体としてコア幅に垂直な方
向に磁化される。しかし、このような磁壁の移動にもと
づく磁化方向の変化は、1つの磁区内のスピンの回転に
よる磁化方向の変化より遅いので、高速度処理には適し
ない。
気記録媒体に近づいて、コア幅に垂直な方向の磁化の変
化金受けるときVよ、磁区間の磁壁が移動して垂直方向
の磁区が拡大され、磁極は全体としてコア幅に垂直な方
向に磁化される。しかし、このような磁壁の移動にもと
づく磁化方向の変化は、1つの磁区内のスピンの回転に
よる磁化方向の変化より遅いので、高速度処理には適し
ない。
(4)発明の目的
本発明の目的は上記欠点を解消することである。
(5)発明の構成
本発明の上記目的は、1層または複数層の軟磁性材別層
に少なくとも1層の硬磁性材料層を積層してなり、これ
によって硬磁性材料の磁化方向にもとづく誘導磁気異方
性を軟磁性材料に付力したことを特徴とする。薄膜磁気
ヘッドの磁極によって達成される。
に少なくとも1層の硬磁性材料層を積層してなり、これ
によって硬磁性材料の磁化方向にもとづく誘導磁気異方
性を軟磁性材料に付力したことを特徴とする。薄膜磁気
ヘッドの磁極によって達成される。
また、本発明の上記目的は、1層または複数層の軟磁性
材料層に少なくとも1層の硬磁性材料層f:積層し、こ
のとき硬磁性材料層を磁場中で成膜するか、または成膜
後に磁場中で熱処理するかして硬磁性材料層の磁化方向
を規定し、これによって軟磁性材料層に誘導磁気異方性
を付与することを特徴とする。薄膜磁気ヘッドの磁極の
製法によって達成される。
材料層に少なくとも1層の硬磁性材料層f:積層し、こ
のとき硬磁性材料層を磁場中で成膜するか、または成膜
後に磁場中で熱処理するかして硬磁性材料層の磁化方向
を規定し、これによって軟磁性材料層に誘導磁気異方性
を付与することを特徴とする。薄膜磁気ヘッドの磁極の
製法によって達成される。
(6)実施例
第2図は本発明の薄膜磁気ヘッドの1つの実施態様を示
すものであって、磁極1は、基板3の上に軟磁性材別層
4を形成する前に、硬磁性材料層5としてr−フェライ
トを磁場中でスパッタリングして厚み約1μmに形成し
、その上に軟磁性材別層4としてパーマロイをスパッタ
リングして厚み約3timに形成して下部磁性材料とし
た。絶縁膜6として二酸化けい素をスパッタリング法に
よって。
すものであって、磁極1は、基板3の上に軟磁性材別層
4を形成する前に、硬磁性材料層5としてr−フェライ
トを磁場中でスパッタリングして厚み約1μmに形成し
、その上に軟磁性材別層4としてパーマロイをスパッタ
リングして厚み約3timに形成して下部磁性材料とし
た。絶縁膜6として二酸化けい素をスパッタリング法に
よって。
厚み約xpmに成長させた上に、下部磁性材料とは逆の
順で軟磁性材料層3および硬磁性材料層5を絶縁層6の
上に形成した。この場合に、磁極1を形成する硬磁性材
料層5は、第3A図に示すように、コア幅の方向に磁化
しておく。硬磁性材料層5と密着する軟磁性材別層4は
、第3B図に示すように、磁極の先端部において、コア
幅の方向に磁化された磁区2は先端部の大部を占める。
順で軟磁性材料層3および硬磁性材料層5を絶縁層6の
上に形成した。この場合に、磁極1を形成する硬磁性材
料層5は、第3A図に示すように、コア幅の方向に磁化
しておく。硬磁性材料層5と密着する軟磁性材別層4は
、第3B図に示すように、磁極の先端部において、コア
幅の方向に磁化された磁区2は先端部の大部を占める。
(7)発明の効果
本発明の薄膜磁気ヘッドの磁極は、従来の軟磁性材料の
みからなる磁極と比べて、その磁化反転速度は増加し、
記録の高速転送が可能となる。
みからなる磁極と比べて、その磁化反転速度は増加し、
記録の高速転送が可能となる。
第1図は従来の薄膜磁気へ・ソドの磁極の軟磁性材別層
の磁区を例示する平面図であり。 第2図は本発明の薄膜磁気ヘッドの磁極先端部の構造を
示す斜視図である。 第3A図は本発明の薄膜磁気へ・メトの磁極の硬磁性材
料層の磁化方向を示す平面図であり、第3B図は本発明
の薄膜磁気へ、ソドの磁極の硬磁性材料層に積層し7た
軟磁性材料層の磁区を例示する平面図である。 1・・・磁極、2・・・磁区、3・・・基板、4・・・
軟磁性材別層、5・・・硬[心性材料層、6・・・絶縁
層、7・・・コイル。
の磁区を例示する平面図であり。 第2図は本発明の薄膜磁気ヘッドの磁極先端部の構造を
示す斜視図である。 第3A図は本発明の薄膜磁気へ・メトの磁極の硬磁性材
料層の磁化方向を示す平面図であり、第3B図は本発明
の薄膜磁気へ、ソドの磁極の硬磁性材料層に積層し7た
軟磁性材料層の磁区を例示する平面図である。 1・・・磁極、2・・・磁区、3・・・基板、4・・・
軟磁性材別層、5・・・硬[心性材料層、6・・・絶縁
層、7・・・コイル。
Claims (2)
- 1.1層または複数層の軟磁性材料層に少なくとも1層
の硬磁性材料Jf4を積層し、硬磁性材料の磁化方向に
もとづき誘導磁気異方性を軟磁性拐料に付与したことを
特徴とする。薄膜磁気ヘッドの磁極。 - 2.1mまたは複数層の軟磁性材料層に少なくとも1層
の硬磁性材料層を積層し、このとき硬磁性材料層を磁場
中で成膜するか、または成膜後に磁場中で熱処理するか
して硬磁性材料層の磁化方向を規定し、これによって軟
磁性材料層に誘導磁気異方性を付与することを特徴とす
る。薄膜磁気ヘッドの磁極の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14345982A JPS5933613A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 薄膜磁気ヘツドの磁極および製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14345982A JPS5933613A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 薄膜磁気ヘツドの磁極および製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5933613A true JPS5933613A (ja) | 1984-02-23 |
JPH0583965B2 JPH0583965B2 (ja) | 1993-11-30 |
Family
ID=15339192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14345982A Granted JPS5933613A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 薄膜磁気ヘツドの磁極および製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5933613A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61275341A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-05 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱可塑性樹脂組成物 |
JPH03179054A (ja) * | 1990-11-28 | 1991-08-05 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ポリフェニレンエーテル樹脂組成物 |
US5108837A (en) * | 1987-12-04 | 1992-04-28 | Digital Equipment Corporation | Laminated poles for recording heads |
EP0580027A2 (en) * | 1992-07-20 | 1994-01-26 | Read-Rite Corporation | Thin film magnetic head |
WO1995014991A1 (en) * | 1993-11-23 | 1995-06-01 | Seagate Technology, Inc. | Thin film magnetic heads with thin nickel underlayers |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5410997A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-26 | Ibm | Magnetic thin film structure |
JPS5539536U (ja) * | 1978-09-01 | 1980-03-13 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5430145A (en) * | 1977-08-05 | 1979-03-06 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of 1,5-and 1,8-dinitroanthraquinone |
-
1982
- 1982-08-20 JP JP14345982A patent/JPS5933613A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5410997A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-26 | Ibm | Magnetic thin film structure |
JPS5539536U (ja) * | 1978-09-01 | 1980-03-13 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61275341A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-05 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱可塑性樹脂組成物 |
JPH0459343B2 (ja) * | 1985-05-31 | 1992-09-22 | Denki Kagaku Kogyo Kk | |
US5108837A (en) * | 1987-12-04 | 1992-04-28 | Digital Equipment Corporation | Laminated poles for recording heads |
JPH03179054A (ja) * | 1990-11-28 | 1991-08-05 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ポリフェニレンエーテル樹脂組成物 |
EP0580027A2 (en) * | 1992-07-20 | 1994-01-26 | Read-Rite Corporation | Thin film magnetic head |
EP0580027A3 (ja) * | 1992-07-20 | 1994-08-03 | Read Rite Corp | |
WO1995014991A1 (en) * | 1993-11-23 | 1995-06-01 | Seagate Technology, Inc. | Thin film magnetic heads with thin nickel underlayers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0583965B2 (ja) | 1993-11-30 |
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