JPS60151641A - 自動現像機の洗浄方法 - Google Patents
自動現像機の洗浄方法Info
- Publication number
- JPS60151641A JPS60151641A JP752084A JP752084A JPS60151641A JP S60151641 A JPS60151641 A JP S60151641A JP 752084 A JP752084 A JP 752084A JP 752084 A JP752084 A JP 752084A JP S60151641 A JPS60151641 A JP S60151641A
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- processing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料の処理に使用する
自動現像機の洗浄方法に関するもので、長時間連続に処
理することで発生する不溶性物質の洗浄方法に関するも
のである。
自動現像機の洗浄方法に関するもので、長時間連続に処
理することで発生する不溶性物質の洗浄方法に関するも
のである。
ハロゲン化銀感光材料の処理は、基本的には現像処理、
定着処理、水洗処理、乾燥処理であり、この他に色素画
像の写真を処理する場合は漂白処理又は漂白足着処理が
加わり、更に感光材料の物理的強度を増すための処理や
各処理液を安定に使用するための処理工程が含まれる。
定着処理、水洗処理、乾燥処理であり、この他に色素画
像の写真を処理する場合は漂白処理又は漂白足着処理が
加わり、更に感光材料の物理的強度を増すための処理や
各処理液を安定に使用するための処理工程が含まれる。
ハロゲン化銀感光材料を多量に迅速に処理する場合には
、自動現像機を使用して処理が行われるが、この自動現
像機には種々の形式があり、大きく分けて、−片、−・
片の感光材料を不連続に処理するものと、長尺の感光材
料を連続的に処理するものとがある。
、自動現像機を使用して処理が行われるが、この自動現
像機には種々の形式があり、大きく分けて、−片、−・
片の感光材料を不連続に処理するものと、長尺の感光材
料を連続的に処理するものとがある。
ハロゲン化銀感光材料を効率良く多量に処理するために
、感光材料の処理に必要な量の処理液を加えながら長期
間にわたり処理が行われるが、この方法では補充を行い
ながら処理する。
、感光材料の処理に必要な量の処理液を加えながら長期
間にわたり処理が行われるが、この方法では補充を行い
ながら処理する。
更に経済性から一定面積を処理するに使用される補充量
は少なくし、感光材料を処理するのに必要となる物質は
、補充液より供給される。一方処理により感光材料より
溶出する物質があり、例えば現像の場合、ハロゲン化銀
が還元されてハロゲンが溶出される他に感光材料に含ま
れる他の物質も溶出される。一定面積を処理するため°
の補充液酸が低減されることにより、処理液中の感光材
料より溶出する物質の濃度は高くなり、処理液中に溶解
しきれなくなり析出することになる。感光材料より溶出
する物質は処理によりたえず溶出するため析出物はます
ます多くなる。処理液中に溶解しない析出物は、自動現
像機の種々の場所に析出付着する。配管の部分であれば
管を詰まらす原因となり、更にこの不溶析出物が処理さ
れる感光材料に接触することで感光材料に傷を付は処理
された感光材料の商品価値を無くすこととなる。
は少なくし、感光材料を処理するのに必要となる物質は
、補充液より供給される。一方処理により感光材料より
溶出する物質があり、例えば現像の場合、ハロゲン化銀
が還元されてハロゲンが溶出される他に感光材料に含ま
れる他の物質も溶出される。一定面積を処理するため°
の補充液酸が低減されることにより、処理液中の感光材
料より溶出する物質の濃度は高くなり、処理液中に溶解
しきれなくなり析出することになる。感光材料より溶出
する物質は処理によりたえず溶出するため析出物はます
ます多くなる。処理液中に溶解しない析出物は、自動現
像機の種々の場所に析出付着する。配管の部分であれば
管を詰まらす原因となり、更にこの不溶析出物が処理さ
れる感光材料に接触することで感光材料に傷を付は処理
された感光材料の商品価値を無くすこととなる。
従来、自動現像機に発生した不溶析出物により・、処理
された感光材料に傷が付き商品的価値が無くなる様なこ
とがおきると、自動現像機の清掃が行われる。しかし発
生している不溶析出物は、水や温湯によって溶解しない
ため除去することが大変困難である。
された感光材料に傷が付き商品的価値が無くなる様なこ
とがおきると、自動現像機の清掃が行われる。しかし発
生している不溶析出物は、水や温湯によって溶解しない
ため除去することが大変困難である。
写真処理機器の清浄方法としては、例えば特開昭５０−
２３２２９が知られている。ここに示されている清浄液
を使用すると確かに不溶析出物は除去できるが、別の不
溶物が発生すると同時にこの清浄液は酸性が強く、この
まま廃棄するのは環境保全上好ましくなく、廃棄にさし
つか′え無いｐＨまで中和すると更に不溶物の発生があ
りそのまま廃棄するのは環境保全上好ましくない。
２３２２９が知られている。ここに示されている清浄液
を使用すると確かに不溶析出物は除去できるが、別の不
溶物が発生すると同時にこの清浄液は酸性が強く、この
まま廃棄するのは環境保全上好ましくなく、廃棄にさし
つか′え無いｐＨまで中和すると更に不溶物の発生があ
りそのまま廃棄するのは環境保全上好ましくない。
本発明の目的は、自動現像機の洗浄、特に現像槽に発生
する不溶析出物の洗浄方法である。
する不溶析出物の洗浄方法である。
更に自動現像機の洗浄を行った場合不溶性物質の発生が
ない洗浄方法である。更に自動現像機の洗浄後の廃棄液
を中和しても不溶性物質が発生しない洗浄方法である。
ない洗浄方法である。更に自動現像機の洗浄後の廃棄液
を中和しても不溶性物質が発生しない洗浄方法である。
本発明者は種々の検討を行った結果、次の方法で上記の
目的が達成されることを見いだした。即ち、ハロゲン化
銀写真感光材料を処理する自動現像機の処理槽に発生す
る不溶析出物を洗浄する方法において、処理液を排出し
不溶析出物の付着した処理槽に、酸性水溶液及び又はキ
レート剤を含む酸性水溶液を満たし不溶析出物を洗浄後
、直接中和液及び又はキレート剤を含む中和液を加え廃
棄する自動現像機の洗浄方法である。
目的が達成されることを見いだした。即ち、ハロゲン化
銀写真感光材料を処理する自動現像機の処理槽に発生す
る不溶析出物を洗浄する方法において、処理液を排出し
不溶析出物の付着した処理槽に、酸性水溶液及び又はキ
レート剤を含む酸性水溶液を満たし不溶析出物を洗浄後
、直接中和液及び又はキレート剤を含む中和液を加え廃
棄する自動現像機の洗浄方法である。
本発明において用いられる酸性水溶液に使用する酸性物
質の例として、無機酸では、硫酸、塩酸、リン酸、臭化
水素酸等、酸性を示す有機物では、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、吉草酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸
、グルタル酸、゛マレイン酸、フマル酸、酒石酸、タエ
ン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メチ
ルベンゼンスルホン酸、アミノベンゼンスルホン酸、安
息香酸等を上げることが出来る。
質の例として、無機酸では、硫酸、塩酸、リン酸、臭化
水素酸等、酸性を示す有機物では、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、吉草酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸
、グルタル酸、゛マレイン酸、フマル酸、酒石酸、タエ
ン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メチ
ルベンゼンスルホン酸、アミノベンゼンスルホン酸、安
息香酸等を上げることが出来る。
キレート剤では、Ｎ−ジヒドロキシエチルグリシン、イ
ミノジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、Ｎ−ヒドロキシエチル
イミノジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、Ｎ、Ｎ”
−エチレンジアミンジ酢酸、Ｎ−ヒドロキシエチルエチ
レンジアミントリ酢酸、ジエチレンテトラアミンペンタ
酢酸、１，２−シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸、ト
リメチレンジアミンテトラ酢酸、エチレングリコールジ
エチルエーテルジアミンテトラ酢酸、エチレンジアミン
テトラプロピオン准、エチレンジアミンジプロピオンジ
酢酸、β−アミノエチルホスフォニックＮ、Ｎ−ジ酢酸
、アミノメチルホスフォニックＮ、Ｎ−ジ酢酸及びこの
塩類、ｌ−ヒドロキシエチリデン−１゜１−ジホスフォ
ン酸（その塩）に代表される有機ホスフォン酸類を上げ
ることが出来る。
ミノジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、Ｎ−ヒドロキシエチル
イミノジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、Ｎ、Ｎ”
−エチレンジアミンジ酢酸、Ｎ−ヒドロキシエチルエチ
レンジアミントリ酢酸、ジエチレンテトラアミンペンタ
酢酸、１，２−シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸、ト
リメチレンジアミンテトラ酢酸、エチレングリコールジ
エチルエーテルジアミンテトラ酢酸、エチレンジアミン
テトラプロピオン准、エチレンジアミンジプロピオンジ
酢酸、β−アミノエチルホスフォニックＮ、Ｎ−ジ酢酸
、アミノメチルホスフォニックＮ、Ｎ−ジ酢酸及びこの
塩類、ｌ−ヒドロキシエチリデン−１゜１−ジホスフォ
ン酸（その塩）に代表される有機ホスフォン酸類を上げ
ることが出来る。
本発明において用いられる中和剤に使用する物質の例と
して、アルカリ金属及びアンモニウの水酸化物では、水
酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化アンモニウム等、弱酸のアルカリ金属及びアンモニ
ウム塩では、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸アンモニウム、リン酸リチウム、リン酸ナト
リウム、リン酸カリウム、リン酸アンモニウム、ホウ酸
リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸
アンモニウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウム、酢酸アンモニウム等がある。
して、アルカリ金属及びアンモニウの水酸化物では、水
酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化アンモニウム等、弱酸のアルカリ金属及びアンモニ
ウム塩では、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸アンモニウム、リン酸リチウム、リン酸ナト
リウム、リン酸カリウム、リン酸アンモニウム、ホウ酸
リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸
アンモニウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウム、酢酸アンモニウム等がある。
更に有機アミン化合物、では、メチルアミン、エチルア
ミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、アリルアミン、エチルアミン
、トリメチレンジアミン、ジプロピルアミン、エタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン
、２−ジエチルアミノ−１−エタノール、２−メチルア
ミノ−１−エタノール、３−ジメチルアミノ−１，２−
プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１−プロパツ
ール、５−アミノ−１−ペンタノール、２−ジメチルア
ミノエタノール、２−エチルアミノアタノール、３−ア
ミノ−１−プロパツール、１−ジメチルアミノ−２−プ
ロパツール、モリホリン等を上げることが出来る。
ミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、アリルアミン、エチルアミン
、トリメチレンジアミン、ジプロピルアミン、エタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン
、２−ジエチルアミノ−１−エタノール、２−メチルア
ミノ−１−エタノール、３−ジメチルアミノ−１，２−
プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１−プロパツ
ール、５−アミノ−１−ペンタノール、２−ジメチルア
ミノエタノール、２−エチルアミノアタノール、３−ア
ミノ−１−プロパツール、１−ジメチルアミノ−２−プ
ロパツール、モリホリン等を上げることが出来る。
以上本発明において用いられる物質を記したが、これら
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
洗浄に用いられる酸性水溶液は、ｐＨ４以下で好ましく
は１以下であり、中和液のｐｎは１０以−Ｉ−で好まし
くは１２以上で゛あり、各々の溶液濃度は不溶析出物を
溶解する濃度であればよく、低濃度であれば洗浄時間が
長く、高濃度であれば洗浄時間が短くなり、中和液は洗
浄液を中和する濃度であればよい。
は１以下であり、中和液のｐｎは１０以−Ｉ−で好まし
くは１２以上で゛あり、各々の溶液濃度は不溶析出物を
溶解する濃度であればよく、低濃度であれば洗浄時間が
長く、高濃度であれば洗浄時間が短くなり、中和液は洗
浄液を中和する濃度であればよい。
以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、これに
より本発明が限定されるものではな実施例−１ 自動現像機を使用して、カラーペーパーヲ％理した後、
自動現像機の現像槽に不溶析出物が発生した。処理に使
用していた現像液を排出した後に、次の組成の洗浄液を
加えて３０分間洗浄した。
より本発明が限定されるものではな実施例−１ 自動現像機を使用して、カラーペーパーヲ％理した後、
自動現像機の現像槽に不溶析出物が発生した。処理に使
用していた現像液を排出した後に、次の組成の洗浄液を
加えて３０分間洗浄した。
洗Ｍｌ液（１）
濃塩酸２ｍ文を含むｌすの水溶液
洗浄液（１）で洗浄した結果、不溶析出物は溶解し更に
この洗浄液に不溶物が発生する事はなかった。この使用
後の洗浄液に次の組成の中和液を加えた結果、不溶物の
発生もなくこれらの混合液は中和され廃棄に何ら問題の
ないｐｉ（７゜５で廃棄する事が出来た。又自動現像機
の現像槽の不溶析出物は完全に洗浄された。
この洗浄液に不溶物が発生する事はなかった。この使用
後の洗浄液に次の組成の中和液を加えた結果、不溶物の
発生もなくこれらの混合液は中和され廃棄に何ら問題の
ないｐｉ（７゜５で廃棄する事が出来た。又自動現像機
の現像槽の不溶析出物は完全に洗浄された。
中和液（＋）
エチレンジアミンテトラ酸！３．５ｇ、水酸化ナトリウ
ム２．３ｇを含む１００ｍ文の水溶液 中和液の使用量は、洗浄液（１）１見に対して中和液（
１）１００ｍ文使用する。
ム２．３ｇを含む１００ｍ文の水溶液 中和液の使用量は、洗浄液（１）１見に対して中和液（
１）１００ｍ文使用する。
実施例−２
実施例−１の自動現像機の現像槽に発生した不溶析出物
を取出し、次の組成の洗浄液に加えたところ溶解し更に
不溶物は発生しなかった。
を取出し、次の組成の洗浄液に加えたところ溶解し更に
不溶物は発生しなかった。
洗浄液（２）
クエン酸５ｇを含むＩＪＩの水溶液
この娩浄液に次の組成の中和液を加えた結果、不溶物の
発生もなくこれら混合液のｐＨは７゜５で廃棄に問題の
ないＰＨであった。 ゛中和液（２） ニトリロトリ酢酸三ナトリウム５ｇ、水酸化ナトリウム
２ｇを含む１００ｍ１の水溶液 中和液の使用量は、洗浄液（２）ｍｌに対して中和液（
２）は１００ｍ文使用する。
発生もなくこれら混合液のｐＨは７゜５で廃棄に問題の
ないＰＨであった。 ゛中和液（２） ニトリロトリ酢酸三ナトリウム５ｇ、水酸化ナトリウム
２ｇを含む１００ｍ１の水溶液 中和液の使用量は、洗浄液（２）ｍｌに対して中和液（
２）は１００ｍ文使用する。
実施例−３
実施例−１の自動現像機の現像槽に発生した不溶析出物
を取出し、次ぎの組成の各々の洗浄液と中和液を使用し
、不溶析出物の溶解及び中和を行ったところ、不溶析出
物は溶解し更に不溶物の発生もなく又廃棄するに問題の
ないＰＨであった。
を取出し、次ぎの組成の各々の洗浄液と中和液を使用し
、不溶析出物の溶解及び中和を行ったところ、不溶析出
物は溶解し更に不溶物の発生もなく又廃棄するに問題の
ないＰＨであった。
洗浄液（３）
Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸３ｇを
含む１文の水溶液 中和液（３） 酢酸アンモニウム３０ｇを含む１００ｍ文の水溶液 混合液のｐＨ５、９ 洗浄液（４） ニトリゴ三酢酸２ｇ、濃硝酸１ｍ文を含む１文の水溶液 中和液（４） 炭耐カリウム３ｇを含む５０°ｍＪｌｊの水溶液 混合液のｐＨ６、５ 洗浄液（５） パラアミノベンゼンスルフォンｅｆｔ ５ ｇ ヲ含む
１文の水溶液 中和液（５） エチレンジアミンテトラ酢酸四ナトリウムＬｏｇを含む
１００ｍ文の水溶液 混合液のｐ）ｌｅ 、 ４ 洗浄液（６） 氷酢酸５ｍ文を含む１文の水溶液 中和液（６） モノエタノールアミン２ｍｕを含む５０ｍ文の水溶液 混合液のＰＨ８・、ｌ 実施例−４ 比較のために特開昭５０−２３２２９に記載されてぼる
洗浄液で自動現像機の現像槽を洗浄した結果、不溶物が
発生し現像槽に付着しその除去が困難であった。この洗
浄後の液を中和するため中和剤を加えた結果、更に大量
の不溶物が発生し、この不溶物を除去して廃棄した。
含む１文の水溶液 中和液（３） 酢酸アンモニウム３０ｇを含む１００ｍ文の水溶液 混合液のｐＨ５、９ 洗浄液（４） ニトリゴ三酢酸２ｇ、濃硝酸１ｍ文を含む１文の水溶液 中和液（４） 炭耐カリウム３ｇを含む５０°ｍＪｌｊの水溶液 混合液のｐＨ６、５ 洗浄液（５） パラアミノベンゼンスルフォンｅｆｔ ５ ｇ ヲ含む
１文の水溶液 中和液（５） エチレンジアミンテトラ酢酸四ナトリウムＬｏｇを含む
１００ｍ文の水溶液 混合液のｐ）ｌｅ 、 ４ 洗浄液（６） 氷酢酸５ｍ文を含む１文の水溶液 中和液（６） モノエタノールアミン２ｍｕを含む５０ｍ文の水溶液 混合液のＰＨ８・、ｌ 実施例−４ 比較のために特開昭５０−２３２２９に記載されてぼる
洗浄液で自動現像機の現像槽を洗浄した結果、不溶物が
発生し現像槽に付着しその除去が困難であった。この洗
浄後の液を中和するため中和剤を加えた結果、更に大量
の不溶物が発生し、この不溶物を除去して廃棄した。
Claims (3)
- （１）ハロゲン化銀写真感光材料を処理する自動現像機
の処理槽に発生する不溶析出物を洗節する方法において
、処理液を排出し不溶析出物の付着した処理槽に、酸性
水溶液及び又はキレート剤を含む酸性水溶液を満たし不
溶析出物を洗浄後、直接中和液及び又はキレート剤を含
む中和液を加え廃棄する自動現像機の洗浄方法。 - （２）酸性水溶液は、無″機酸、酸性を示す有機物及び
又はキレート剤又はこれらの二種以上を使用する特許請
求の範囲第１項記載の自動現像機の洗浄方法。 - （３）中和液は、アルカリ金属及びアンモニウム水酸化
物、弱酸のアルカリ金属又はアンモニウム塩、水溶液が
アルカリ性を示す有機物及び又はキレート剤又はこれら
の二種以上を使用する特許請求の範囲第１項記載の自動
現像機の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP752084A JPS60151641A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 自動現像機の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP752084A JPS60151641A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 自動現像機の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60151641A true JPS60151641A (ja) | 1985-08-09 |
Family
ID=11668047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP752084A Pending JPS60151641A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 自動現像機の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60151641A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04147138A (ja) * | 1990-10-09 | 1992-05-20 | Chiyuugai Shashin Yakuhin Kk | 自動現像機の洗浄方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5848052A (ja) * | 1981-09-16 | 1983-03-19 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 写真処理機器の洗浄方法 |
-
1984
- 1984-01-19 JP JP752084A patent/JPS60151641A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5848052A (ja) * | 1981-09-16 | 1983-03-19 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 写真処理機器の洗浄方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04147138A (ja) * | 1990-10-09 | 1992-05-20 | Chiyuugai Shashin Yakuhin Kk | 自動現像機の洗浄方法 |
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