JP2533792B2 - 平版印刷版製版用自動現像機の洗浄液および洗浄方法 - Google Patents
平版印刷版製版用自動現像機の洗浄液および洗浄方法Info
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- JP2533792B2 JP2533792B2 JP63142393A JP14239388A JP2533792B2 JP 2533792 B2 JP2533792 B2 JP 2533792B2 JP 63142393 A JP63142393 A JP 63142393A JP 14239388 A JP14239388 A JP 14239388A JP 2533792 B2 JP2533792 B2 JP 2533792B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は平版印刷版製版用自動現像機の改良された洗
浄液とそれを用いた洗浄方法に関する。
浄液とそれを用いた洗浄方法に関する。
感光性平版印刷版（以下PS版という）を多量に現像処
理する場合、一般に自動現像機が使用されている。この
自動現像機は、一般にPS版を搬送する装置と、現像液槽
およびスプレー装置からなり、露光済みのPS版を水平に
搬送しながら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレーノ
ズルから吹付けて現像処理するものである。その他現像
液が満たされた現像処理槽中に液中ガイドロールなどに
よってPS版を浸漬搬送させて現像処理する方法も知られ
ている。
理する場合、一般に自動現像機が使用されている。この
自動現像機は、一般にPS版を搬送する装置と、現像液槽
およびスプレー装置からなり、露光済みのPS版を水平に
搬送しながら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレーノ
ズルから吹付けて現像処理するものである。その他現像
液が満たされた現像処理槽中に液中ガイドロールなどに
よってPS版を浸漬搬送させて現像処理する方法も知られ
ている。
このような自動現像機処理においては、経済的な観点
から現像液をくり返し循環使用しているので、現像液中
に溶出した感光層成分の濃度が徐々に高くなり、それに
伴って現像液中にカスやヘドロが生じて、現像槽の周辺
や現像液循環系の配管中に堆積して種々問題を生じてい
た。
から現像液をくり返し循環使用しているので、現像液中
に溶出した感光層成分の濃度が徐々に高くなり、それに
伴って現像液中にカスやヘドロが生じて、現像槽の周辺
や現像液循環系の配管中に堆積して種々問題を生じてい
た。
また、一般にｏ−キノンジアジド化合物を主成分とす
る感光層を有するPS版の現像液としては、現像後の非画
線部に親水性を付与するために珪酸塩のアルカリ水溶液
がよく用いられているが、このような現像液は現像機の
運転停止時の乾燥や液ハネにより、自動現像機のスプレ
ーパイプ内や現像槽とその周辺に水不溶性のシリカとし
て析出し易く、単に美観上の問題だけでなく、様々なト
ラブルの原因となっていた。
る感光層を有するPS版の現像液としては、現像後の非画
線部に親水性を付与するために珪酸塩のアルカリ水溶液
がよく用いられているが、このような現像液は現像機の
運転停止時の乾燥や液ハネにより、自動現像機のスプレ
ーパイプ内や現像槽とその周辺に水不溶性のシリカとし
て析出し易く、単に美観上の問題だけでなく、様々なト
ラブルの原因となっていた。
以上のような自動現像機を用いて多量の現像液を循環
再使用する方式の欠点を解決する方法として、露光され
たPS版の露光面に一定量の新しい現像液を供給して、現
像した後、現像液を除去し、該現像液を廃棄する方法
（以下使い捨て現像方式という）が特開昭48-29505号、
特開昭55-32044号公報および米国特許第4,222,656号明
細書に開示されているが、この種の自動現像機において
も長期間使用している間に汚れを生ずることはまぬがれ
なかった。
再使用する方式の欠点を解決する方法として、露光され
たPS版の露光面に一定量の新しい現像液を供給して、現
像した後、現像液を除去し、該現像液を廃棄する方法
（以下使い捨て現像方式という）が特開昭48-29505号、
特開昭55-32044号公報および米国特許第4,222,656号明
細書に開示されているが、この種の自動現像機において
も長期間使用している間に汚れを生ずることはまぬがれ
なかった。
更には、長期間に亘って多量のPS版を処理する場合、
特開昭58-95349号公報に開示されているような現像液補
充方式が提案されているが、現像液の能力を検出するセ
ンサーに汚れが堆積して、正確な値を示さなくなり、安
定して正確な補充ができなくなることがあった。
特開昭58-95349号公報に開示されているような現像液補
充方式が提案されているが、現像液の能力を検出するセ
ンサーに汚れが堆積して、正確な値を示さなくなり、安
定して正確な補充ができなくなることがあった。
以上のような問題点を解決するため、従来より１週間
〜１ケ月毎に自動現像機から現像液などの処理薬品を回
収して、自動現像機を水洗することが行われてきた。し
かし、自動現像機の使用期間が長くなるにしたがって汚
れが落ちにくくなり、洗浄に多くの時間を費していた。
特に現像液が珪酸塩のアルアリ水溶液からなる場合、析
出したシリカは水不溶性であり水洗浄は全く困難であっ
た。
〜１ケ月毎に自動現像機から現像液などの処理薬品を回
収して、自動現像機を水洗することが行われてきた。し
かし、自動現像機の使用期間が長くなるにしたがって汚
れが落ちにくくなり、洗浄に多くの時間を費していた。
特に現像液が珪酸塩のアルアリ水溶液からなる場合、析
出したシリカは水不溶性であり水洗浄は全く困難であっ
た。
そこで従来より、硫酸や塩酸などの強酸を含有する自
動現像機用洗浄剤が一部で使われているが、これでも洗
浄性は不十分であった。しかもこれら洗浄剤はpHは１以
下であるため、ステンレス製の現像槽やスプレーパイプ
が腐食されるという問題もあった。
動現像機用洗浄剤が一部で使われているが、これでも洗
浄性は不十分であった。しかもこれら洗浄剤はpHは１以
下であるため、ステンレス製の現像槽やスプレーパイプ
が腐食されるという問題もあった。
そこで本発明の目的はPS版の自動現像機の洗浄を容易
にする洗浄剤および洗浄方法を提供することであり、更
に詳しくはステンレスなどの自動現像機の部材を侵すこ
とのない洗浄液および洗浄方法を提供することである。
にする洗浄剤および洗浄方法を提供することであり、更
に詳しくはステンレスなどの自動現像機の部材を侵すこ
とのない洗浄液および洗浄方法を提供することである。
本発明者等は、上記問題点を解決すべく鋭意検討した
結果、微量の弗化水素酸またはその塩を含有する洗浄液
が上記目的を達成する上で極めて有効であることを見出
し、本発明を完成するに至った。
結果、微量の弗化水素酸またはその塩を含有する洗浄液
が上記目的を達成する上で極めて有効であることを見出
し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は弗化水素酸もしくは弗酸塩の中から選
ばれた少くとも一種の弗素化合物を0.005〜５重量％含
有することを特徴とする、平版印刷版製版用自動現像機
およびその部材を洗浄するための洗浄液を提供するもの
である。
ばれた少くとも一種の弗素化合物を0.005〜５重量％含
有することを特徴とする、平版印刷版製版用自動現像機
およびその部材を洗浄するための洗浄液を提供するもの
である。
本発明はまた、弗化水素酸もしくは弗酸塩の中から選
ばれた少くとも一種の弗素化合物を0.005〜５重量％と
少くとも一種の有機酸を含有することを特徴とする、平
版印刷版製版用自動現像機およびその部材を洗浄するた
めの洗浄液を提供するものである。
ばれた少くとも一種の弗素化合物を0.005〜５重量％と
少くとも一種の有機酸を含有することを特徴とする、平
版印刷版製版用自動現像機およびその部材を洗浄するた
めの洗浄液を提供するものである。
本発明はさらに上記洗浄液を用いることを特徴とす
る、平版印刷版製版用自動現像機およびその部材の洗浄
方法を提供するものである。
る、平版印刷版製版用自動現像機およびその部材の洗浄
方法を提供するものである。
本発明の洗浄液を特徴づける弗素化合物のうち、弗化
水素酸としては、弗化水素酸そのもの、またはヘキサフ
ルオロジルコン酸、ヘキサフルオロバナジン酸、テトラ
フルオロタングステン酸、ヘキサフルオロチタン酸、ヘ
キサフルオロコバルト酸、ヘキサフルオロ硼素酸および
テトラフルオロ亜鉛酸などに含まれる遊離の弗化水素酸
が用いられる。このうち、ヘキサフルオロジルコン酸や
ヘキサフルオロ硼素酸が取扱い上安全で好ましい。更に
弗酸塩としては、弗化ナトリウム、弗化カリウム、弗化
リチウム、弗化カルシウム、弗化マグネシウム、弗化ア
ンモニウム、弗化水素カリウム、弗化水素ナトリウムお
よび弗化水素アンモニウムなどが挙げられる。
水素酸としては、弗化水素酸そのもの、またはヘキサフ
ルオロジルコン酸、ヘキサフルオロバナジン酸、テトラ
フルオロタングステン酸、ヘキサフルオロチタン酸、ヘ
キサフルオロコバルト酸、ヘキサフルオロ硼素酸および
テトラフルオロ亜鉛酸などに含まれる遊離の弗化水素酸
が用いられる。このうち、ヘキサフルオロジルコン酸や
ヘキサフルオロ硼素酸が取扱い上安全で好ましい。更に
弗酸塩としては、弗化ナトリウム、弗化カリウム、弗化
リチウム、弗化カルシウム、弗化マグネシウム、弗化ア
ンモニウム、弗化水素カリウム、弗化水素ナトリウムお
よび弗化水素アンモニウムなどが挙げられる。
洗浄剤中の弗素化合物の好ましい濃度は0.005〜５重
量％であり、更に好ましくは0.01〜１重量％である。こ
れよりも低い濃度では洗浄効果が十分得られず、また、
これよりも高い濃度では洗浄効果が飽和してしまい、ま
た、その毒性に留意する必要があり、特に、洗浄後の水
洗水が多量に必要となり、その廃液処理コストが大きく
なってしまう。
量％であり、更に好ましくは0.01〜１重量％である。こ
れよりも低い濃度では洗浄効果が十分得られず、また、
これよりも高い濃度では洗浄効果が飽和してしまい、ま
た、その毒性に留意する必要があり、特に、洗浄後の水
洗水が多量に必要となり、その廃液処理コストが大きく
なってしまう。
更に本発明の洗浄剤には、pHを酸性に保ち、洗浄力を
強化するため、有機酸や無機酸などの酸性物質を併用す
ることができる。ただし、ステンレスが腐蝕されないよ
う、pH1以上が好ましく、この為には有機酸を使用する
のが有利である。
強化するため、有機酸や無機酸などの酸性物質を併用す
ることができる。ただし、ステンレスが腐蝕されないよ
う、pH1以上が好ましく、この為には有機酸を使用する
のが有利である。
また有機酸を併用することにより、弗化物の濃度を低
くしても強い洗浄力を持たせることができる。これに用
いられる有機酸としては、シュウ酸、クエン酸、酢酸、
ヒドロキシ酢酸、酒石酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハ
ク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、ピメリ
ン酸、レブリン酸、乳酸、グルタール酸、マロン酸、フ
マール酸、イタコン酸、プロパントリカルボン酸、蟻
酸、酪酸、フミン酸、フィチン酸および５−スルホサリ
チル酸などが挙げられる。
くしても強い洗浄力を持たせることができる。これに用
いられる有機酸としては、シュウ酸、クエン酸、酢酸、
ヒドロキシ酢酸、酒石酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハ
ク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、ピメリ
ン酸、レブリン酸、乳酸、グルタール酸、マロン酸、フ
マール酸、イタコン酸、プロパントリカルボン酸、蟻
酸、酪酸、フミン酸、フィチン酸および５−スルホサリ
チル酸などが挙げられる。
また、3,3−ジホスホノペンタン−ジカルボン酸、ア
ミノトリ（メチレンホスホン酸）、メチレンジホスホン
酸、１−ヒドロキシエタン1,1−ジホスホン酸、２−ア
ミノ−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン−1,1−ジ
ホスホン酸、２−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,
4ニトリロトリホスホン酸、Ｎ−カルボキシメチルアミ
ノ−N,N−ジ（メチレンホスホン酸）およびヘキサメチ
レンジアミン−テトラ（メチレンホスホン酸）などの有
機ホスホン酸も用いられる。
ミノトリ（メチレンホスホン酸）、メチレンジホスホン
酸、１−ヒドロキシエタン1,1−ジホスホン酸、２−ア
ミノ−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン−1,1−ジ
ホスホン酸、２−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,
4ニトリロトリホスホン酸、Ｎ−カルボキシメチルアミ
ノ−N,N−ジ（メチレンホスホン酸）およびヘキサメチ
レンジアミン−テトラ（メチレンホスホン酸）などの有
機ホスホン酸も用いられる。
更に無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、塩
素酸、過塩素酸、亜硫酸、チオ硫酸、パーオキシ硫酸、
亜硝酸、亜リン酸、メタリン酸、ピロリン酸、バナジン
酸、およびタングステン酸が用いられる。
素酸、過塩素酸、亜硫酸、チオ硫酸、パーオキシ硫酸、
亜硝酸、亜リン酸、メタリン酸、ピロリン酸、バナジン
酸、およびタングステン酸が用いられる。
これらの酸性物質のうち、有機酸はステンレスの腐食
が少ないので特に好ましい。特に好ましいのはシュウ
酸、クエン酸である。これらの酸性物質の洗浄液への好
ましい添加量は0.01〜10重量％であり、更に好ましく
は、0.5〜５重量％である。
が少ないので特に好ましい。特に好ましいのはシュウ
酸、クエン酸である。これらの酸性物質の洗浄液への好
ましい添加量は0.01〜10重量％であり、更に好ましく
は、0.5〜５重量％である。
本発明の洗浄液には更に、界面活性剤、有機溶剤、染
料および消泡剤を添加することができる。このうち、界
面活性剤が洗浄作用を促進する上で有効であり、ノニオ
ン型界面活性剤、アニオン型界面活性剤などが好ましく
用いられる。好ましいノニオン界面活性剤としては、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキ
シエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーであ
る。界面活性剤の好ましい添加量は、洗浄液全量に対し
て、0.0001〜５重量％であり、特に好ましい範囲は0.00
5〜１重量％である。
料および消泡剤を添加することができる。このうち、界
面活性剤が洗浄作用を促進する上で有効であり、ノニオ
ン型界面活性剤、アニオン型界面活性剤などが好ましく
用いられる。好ましいノニオン界面活性剤としては、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキ
シエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーであ
る。界面活性剤の好ましい添加量は、洗浄液全量に対し
て、0.0001〜５重量％であり、特に好ましい範囲は0.00
5〜１重量％である。
本発明の洗浄液は濃厚液として調製しておき、使用前
に適当な濃度に希釈して使用することもできる。
に適当な濃度に希釈して使用することもできる。
本発明の洗浄液を用いて、PS版の自動現像機を洗浄す
る方法としては、現像液を排出した後必要に応じて水洗
してから本洗浄液を自動現像機の現像部に仕込んで、温
度10℃〜45℃、好ましくは20℃〜35℃で10分〜60分間洗
浄液を循環する方法がとられる。また、この方法で洗浄
液に浸りにくい部材や特に汚れの堆積が激しい部材につ
いては、その部材を取り外して洗浄することもできる。
特に、特開昭58-95349号公報記載の補充装置を装備した
自動現像機の補充コントロールセンサーには、汚れが固
着して補充異常をひき起こすことがあるが、このセンサ
ーを取り外して本発明の洗浄液に約20分間浸漬すること
により、汚れがきれいに除去できて元通り補充コントロ
ールを正確に行えるようにできる。
る方法としては、現像液を排出した後必要に応じて水洗
してから本洗浄液を自動現像機の現像部に仕込んで、温
度10℃〜45℃、好ましくは20℃〜35℃で10分〜60分間洗
浄液を循環する方法がとられる。また、この方法で洗浄
液に浸りにくい部材や特に汚れの堆積が激しい部材につ
いては、その部材を取り外して洗浄することもできる。
特に、特開昭58-95349号公報記載の補充装置を装備した
自動現像機の補充コントロールセンサーには、汚れが固
着して補充異常をひき起こすことがあるが、このセンサ
ーを取り外して本発明の洗浄液に約20分間浸漬すること
により、汚れがきれいに除去できて元通り補充コントロ
ールを正確に行えるようにできる。
更に本発明の洗浄液は、自動現像機の現像浴の洗浄だ
けでなく、水洗浴、リンス浴、保護ガム浴など自動現像
機を構成する各浴の洗浄にも好適に用いることができ
る。
けでなく、水洗浴、リンス浴、保護ガム浴など自動現像
機を構成する各浴の洗浄にも好適に用いることができ
る。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。
しかし、本発明は以下の具体例により何等制限されるも
のではない。
しかし、本発明は以下の具体例により何等制限されるも
のではない。
実施例１ 砂目立て処理した1S材アルミニウム板を40℃に保った
２重量％の水酸化ナトリウム溶液に１分間浸漬し、エッ
チング処理を行った。次いで水洗後硫酸−クロム酸混液
に約１分間浸漬して純アルミニウム表面を露出させた。
これを30℃に保った20重量％の硫酸中に浸漬し、直流電
圧15V、電流密度2A/dm2で３分間陽極酸化処理を行い、
水洗、乾燥した。かくして処理したアルミニウム板上
に、下記組成の感光性組成物溶液を2g/m2（乾燥重量）
となるように塗布し、乾燥してPS版を得た。
２重量％の水酸化ナトリウム溶液に１分間浸漬し、エッ
チング処理を行った。次いで水洗後硫酸−クロム酸混液
に約１分間浸漬して純アルミニウム表面を露出させた。
これを30℃に保った20重量％の硫酸中に浸漬し、直流電
圧15V、電流密度2A/dm2で３分間陽極酸化処理を行い、
水洗、乾燥した。かくして処理したアルミニウム板上
に、下記組成の感光性組成物溶液を2g/m2（乾燥重量）
となるように塗布し、乾燥してPS版を得た。
アセトン−ピロガロール樹脂の ナフトキノン−1,2−ジアジド （２）−５−スルホン酸エステル ……5g （米国特許第3,635,709号の実施例１ に記載の方法で合成したもの） ｔ−ブチルフェノール−ホルム アルデヒド樹脂（PR-50530: ……0.5g 住友ジュレーズ（株）製） クレゾールホルムアルデヒド 樹脂（ヒタノール＃3110: ……5g 日立化成工業（株）製 メチルエチルケトン ……50g シクロヘキサノン ……40g このようにして得られたポジ型PS版を透明陽画フイル
ムを通して3KWのメタルハライドランプを用いて60秒間
露光した。
ムを通して3KWのメタルハライドランプを用いて60秒間
露光した。
次に下記に示すような自動現像機、現像液およびリン
ス液を用いて現像処理を行った。
ス液を用いて現像処理を行った。
（１）自動現像機 現像浴とそれに続くリンス浴を備え、露光済みのPS版
を水平搬送する駆動装置と、各処理浴の処理液を貯溜槽
→ポンプ→スプレーノズル→貯溜槽と循環させる装置お
よび現像浴への補充装置を有する自動現像機であり、現
像浴の貯溜槽はオーバーフローにより過剰の処理液を排
出する機構となっている。
を水平搬送する駆動装置と、各処理浴の処理液を貯溜槽
→ポンプ→スプレーノズル→貯溜槽と循環させる装置お
よび現像浴への補充装置を有する自動現像機であり、現
像浴の貯溜槽はオーバーフローにより過剰の処理液を排
出する機構となっている。
この場合の現像液の補充は、現像浴の途中の位置にPS
版感光層の非画像部感光層の溶出度合を測定するセンサ
ーを設け、溶出度合が所定のレベルに低下した時に自動
的に一定量の現像補充液が補充される機構となってい
る。
版感光層の非画像部感光層の溶出度合を測定するセンサ
ーを設け、溶出度合が所定のレベルに低下した時に自動
的に一定量の現像補充液が補充される機構となってい
る。
（２）現像液 下記現像液原液を水にて７倍希釈しその21を上記現
像浴に仕込んだ。現像液のpHは13.9であった。
像浴に仕込んだ。現像液のpHは13.9であった。
JIS3号珪酸ナトリウム水溶液 ……332g 水酸化カリウム（48重量％水溶液） ……191g Ｎ−アルキル−N,N−ジヒドロキシ エチルベタイン両性界面活性剤 ……3.2g （36重量％水溶液） 純 水 ……688g （３）現像補充液 補充検出センサーの測定値に基き、下記組成の補充液
原液と水とを1:4の割合で混合し、必要量補充した。
原液と水とを1:4の割合で混合し、必要量補充した。
（組成） JIS3号珪酸ナトリウム水溶液 ……238g 水酸化カリウム（48重量％水溶液）…… 328g 純 水 ……645g （４）界面活性剤を含むリンス液 下記組成からなるリンス液（pH約6.0）8lをリンス浴
に仕込んだ。リンス浴は１週間毎に新液と交換した。
に仕込んだ。リンス浴は１週間毎に新液と交換した。
（組成） ドデシルジフェニルエーテル ジスルホン酸ナトリウム ……6g （40重量％水溶液） ジオクチルスルホこはく酸 ナトリウム ……1g リン酸（85重量％水溶液） ……2.4g 水酸化ナトリウム ……1g シリコン消泡剤TSA-731 ……0.01g （東芝シリコン（株）製） 水 ……985g 以上の条件で1003mm×800mmのサイズのPS版を毎日35
枚ずつ３週間処理を行ったところ、現像液の能力が低下
したので、現像液を新液に交換し同様の処理を続けた。
３週間を１ラウンドとして、10ラウンドが終了した時点
で現像浴槽に汚れが目立ってきた。また補充検出センサ
ーにも汚れが付着したためか、補充がやや不安定となる
傾向にあった。そこで下記組成の自動現像機洗浄液Ａを
準備した。pHは2.0を示した。
枚ずつ３週間処理を行ったところ、現像液の能力が低下
したので、現像液を新液に交換し同様の処理を続けた。
３週間を１ラウンドとして、10ラウンドが終了した時点
で現像浴槽に汚れが目立ってきた。また補充検出センサ
ーにも汚れが付着したためか、補充がやや不安定となる
傾向にあった。そこで下記組成の自動現像機洗浄液Ａを
準備した。pHは2.0を示した。
（組成） 自動現像機から現像液を排出した後、水を約20l入れ
て予備水洗し、水洗水を排出してから、前述の洗浄液Ａ
を20l現像浴に満たし、これを室温で約30分間循環し
た。洗浄液Ａを回収した後、水約20lで後水洗した。こ
れにより現像浴の各所に付着していた汚れが溶解除去さ
れた。
て予備水洗し、水洗水を排出してから、前述の洗浄液Ａ
を20l現像浴に満たし、これを室温で約30分間循環し
た。洗浄液Ａを回収した後、水約20lで後水洗した。こ
れにより現像浴の各所に付着していた汚れが溶解除去さ
れた。
またこの洗浄作業の間、補充検出センサーを取り外し
てプラスチック製の容器に入れた洗浄液Ａに室温で約20
分間浸漬したところ、ステンレスのきれいな面が現われ
た。センサーを水洗後その電気抵抗を測定したところ、
洗浄前よりも下がって未使用センサーの抵抗値と同じ値
を示した。
てプラスチック製の容器に入れた洗浄液Ａに室温で約20
分間浸漬したところ、ステンレスのきれいな面が現われ
た。センサーを水洗後その電気抵抗を測定したところ、
洗浄前よりも下がって未使用センサーの抵抗値と同じ値
を示した。
比較例−１ 下記組成の洗浄液Ｂを準備した。pHは1.0以下であっ
た。
た。
（組成） リン酸（85％） ……70g 塩酸（36％） ……54g 純 水 ……1,000g 洗浄液Ａのかわりに洗浄液Ｂを用いた以外は実施例１
と全く同じ処理を行ったところ約30分間の循環洗浄では
自動現像機の汚れは完全には除去できず、かなり残って
いた。そこで更に約30分間循環洗浄したところ、汚れの
付着量はやや減少したものの、まだ完全には洗浄できて
いなかった。しかし、現像浴のステンレス材部が洗浄剤
Ｂによる腐食のため褐色に変色しはじめたので洗浄を中
止した。次に補充検出センサーを洗浄液Ｂに室温で約20
分間浸漬したが、ステンレスに付着した汚れの除去は不
十分であり洗浄後の抵抗値も未使用センサーの値まで回
復させることができなかった。
と全く同じ処理を行ったところ約30分間の循環洗浄では
自動現像機の汚れは完全には除去できず、かなり残って
いた。そこで更に約30分間循環洗浄したところ、汚れの
付着量はやや減少したものの、まだ完全には洗浄できて
いなかった。しかし、現像浴のステンレス材部が洗浄剤
Ｂによる腐食のため褐色に変色しはじめたので洗浄を中
止した。次に補充検出センサーを洗浄液Ｂに室温で約20
分間浸漬したが、ステンレスに付着した汚れの除去は不
十分であり洗浄後の抵抗値も未使用センサーの値まで回
復させることができなかった。
実施例２ 下記組成の洗浄液Ｃを準備した。pHは2.5を示した。
洗浄液Ａの代りに上記洗浄液Ｃを用いたほかは実施例
１と全く同じ処理を行ったところ、実施例１と同様の洗
浄効果が得られた。
１と全く同じ処理を行ったところ、実施例１と同様の洗
浄効果が得られた。
（発明の効果） 本発明によれば、自動現像機の洗浄を容易に行うこと
ができ、しかも洗浄液による部材の腐食を極めて低く抑
えることができる。
ができ、しかも洗浄液による部材の腐食を極めて低く抑
えることができる。
さらに、有機酸を併用することにより、洗浄力を低下
させることなく、洗浄液の部材腐食性を一層低減すると
ができる。
させることなく、洗浄液の部材腐食性を一層低減すると
ができる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−107478（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−163356（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−293796（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−107478（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】弗化水素酸もしくは弗酸塩の中から選ばれ
た少くとも一種の弗素化合物を0.005〜５重量％含有す
ることを特徴とする、平版印刷版製版用自動現像機およ
びその部材を洗浄するための洗浄液。 - 【請求項２】弗化水素酸もしくは弗酸塩の中から選ばれ
た少くとも一種の弗素化合物を0.005〜５重量％と、少
くとも一種の有機酸を含有することを特徴とする、平版
印刷版製版用自動現像機およびその部材を洗浄するため
の洗浄液。 - 【請求項３】請求項１記載の洗浄液を用いることを特徴
とする、平版印刷版製版用自動現像機およびその部材の
洗浄方法。 - 【請求項４】請求項２記載の洗浄液を用いることを特徴
とする、平版印刷版製版用自動現像機およびその部材の
洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63142393A JP2533792B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 平版印刷版製版用自動現像機の洗浄液および洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63142393A JP2533792B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 平版印刷版製版用自動現像機の洗浄液および洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01310356A JPH01310356A (ja) | 1989-12-14 |
| JP2533792B2 true JP2533792B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=15314314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63142393A Expired - Fee Related JP2533792B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 平版印刷版製版用自動現像機の洗浄液および洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2533792B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE9304878U1 (ja) * | 1993-03-31 | 1993-06-09 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt, De | |
| JP4744228B2 (ja) * | 2004-08-10 | 2011-08-10 | 株式会社東芝 | 半導体基板洗浄液及び半導体基板洗浄方法 |
| KR101232249B1 (ko) | 2004-08-10 | 2013-02-12 | 간또 가가꾸 가부시끼가이샤 | 반도체 기판 세정액 및 반도체 기판 세정방법 |
| CN103046061B (zh) * | 2012-12-22 | 2015-02-25 | 黄山金瑞泰科技有限公司 | 显影设备用清洗剂及其使用方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49107478A (ja) * | 1973-02-15 | 1974-10-12 |
-
1988
- 1988-06-09 JP JP63142393A patent/JP2533792B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01310356A (ja) | 1989-12-14 |
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