JPH09151394A - 感光性平版印刷版の自動現像機の洗浄液 - Google Patents
感光性平版印刷版の自動現像機の洗浄液Info
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- JPH09151394A JPH09151394A JP33278295A JP33278295A JPH09151394A JP H09151394 A JPH09151394 A JP H09151394A JP 33278295 A JP33278295 A JP 33278295A JP 33278295 A JP33278295 A JP 33278295A JP H09151394 A JPH09151394 A JP H09151394A
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- Japan
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- photosensitive lithographic
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、劇物に相当し安全性や環境への問題
が大きいフッ化水素酸を用いない、感光性平版印刷版の
自動現像機に用いられる洗浄液洗浄液を提供することを
目的とする。 【解決手段】感光性平版印刷版の自動現像機に用いられ
る洗浄液洗浄液は、（１）金属イオン封鎖剤を含む水溶
液であること、（２）研磨剤を含む水溶液であること、
（３）フッ素を含有する界面活性剤を含む水溶液である
こと、を各々特徴とする。
が大きいフッ化水素酸を用いない、感光性平版印刷版の
自動現像機に用いられる洗浄液洗浄液を提供することを
目的とする。 【解決手段】感光性平版印刷版の自動現像機に用いられ
る洗浄液洗浄液は、（１）金属イオン封鎖剤を含む水溶
液であること、（２）研磨剤を含む水溶液であること、
（３）フッ素を含有する界面活性剤を含む水溶液である
こと、を各々特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版の
自動現像機に用いられる洗浄液に関する。
自動現像機に用いられる洗浄液に関する。
【０００２】
【従来の技術】感光性平版印刷版の現像には、自動現像
機が広く用いられている。この自動現像機では、長期間
処理を続けると現像槽や配管内に現像液からの析出物が
付着しシャワーノズルや循環ポンプが詰まって現像液が
正しく循環されなくなる場合がある。このため、現像液
の交換時期に多大な手間をかけて自動現像機の清掃を行
わなければならない。
機が広く用いられている。この自動現像機では、長期間
処理を続けると現像槽や配管内に現像液からの析出物が
付着しシャワーノズルや循環ポンプが詰まって現像液が
正しく循環されなくなる場合がある。このため、現像液
の交換時期に多大な手間をかけて自動現像機の清掃を行
わなければならない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】現像液からの析出物と
しては、感光性平版印刷版のアルミニウム支持体から溶
け出すアルミニウム、印刷版の感光層から溶出する樹
脂、濃縮現像液の希釈水に含まれるカルシュウムやマグ
ネシュウムなどの金属、現像液に含まれているケイ酸化
合物などが考えられる。このような成分を簡易に洗浄す
る方法として、フッ素化水素酸を含む水溶液を用いる技
術が、特開平１−３１０３５６号公報に開示されてい
る。然しながら、フッ化水素酸は劇物に相当し、安全性
や環境への問題が大きいので、フッ化水素酸を用いない
洗浄液が望まれていた。上記から明らかなように、本発
明は、フッ化水素酸を用いない洗浄液を提供することを
目的とするものである。
しては、感光性平版印刷版のアルミニウム支持体から溶
け出すアルミニウム、印刷版の感光層から溶出する樹
脂、濃縮現像液の希釈水に含まれるカルシュウムやマグ
ネシュウムなどの金属、現像液に含まれているケイ酸化
合物などが考えられる。このような成分を簡易に洗浄す
る方法として、フッ素化水素酸を含む水溶液を用いる技
術が、特開平１−３１０３５６号公報に開示されてい
る。然しながら、フッ化水素酸は劇物に相当し、安全性
や環境への問題が大きいので、フッ化水素酸を用いない
洗浄液が望まれていた。上記から明らかなように、本発
明は、フッ化水素酸を用いない洗浄液を提供することを
目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る感光性平版
印刷版の自動現像機の洗浄液は、金属イオン封鎖剤を
含む水溶液であること、研磨剤を含む水溶液であるこ
と、フッ素を含有する界面活性剤を含む水溶液である
こと、をそれぞれ特徴とする。
印刷版の自動現像機の洗浄液は、金属イオン封鎖剤を
含む水溶液であること、研磨剤を含む水溶液であるこ
と、フッ素を含有する界面活性剤を含む水溶液である
こと、をそれぞれ特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】上記したように、本発明１に係る
洗浄液は、金属イオン封鎖剤（キレート剤）を含む水溶
液であることを特徴とする。汚れ成分中のアルミニウム
その他の金属成分をキレート剤で溶出させるためであ
る。
洗浄液は、金属イオン封鎖剤（キレート剤）を含む水溶
液であることを特徴とする。汚れ成分中のアルミニウム
その他の金属成分をキレート剤で溶出させるためであ
る。
【０００６】本発明の洗浄液として用いられる金属イオ
ン封鎖剤（キレート剤）としては、例えば、エチレンジ
アミンテトラ酢酸、そのカルシウム塩、そのナトリウム
塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム
塩、ナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢
酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキシエ
チルエチレンジアミン酢酸、そのカリウム塩、そのナト
リウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナ
トリウム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢
酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１，３−ジア
ミノ−２−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、
そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類
を挙げることができが、特に、エチレンジアミン四酢酸
及びその塩、１，２−ジヒドロキシベンゼン−３，５−
ジスルホン酸及びその塩、ニトリロトリ酢酸及びその塩
が好ましい。
ン封鎖剤（キレート剤）としては、例えば、エチレンジ
アミンテトラ酢酸、そのカルシウム塩、そのナトリウム
塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム
塩、ナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢
酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキシエ
チルエチレンジアミン酢酸、そのカリウム塩、そのナト
リウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナ
トリウム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢
酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１，３−ジア
ミノ−２−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、
そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類
を挙げることができが、特に、エチレンジアミン四酢酸
及びその塩、１，２−ジヒドロキシベンゼン−３，５−
ジスルホン酸及びその塩、ニトリロトリ酢酸及びその塩
が好ましい。
【０００７】キレート剤の添加量は、０．０１〜５ｗｔ
％が好ましく、より好ましくは０．０５〜１ｗｔ％であ
る。キレート剤の添加量がこの範囲より大きいと効果が
上がらないだけでなくかえって添加剤の溶解を妨げるな
どの問題が生じる。また、少ない場合には洗浄能力がみ
られなくなる。
％が好ましく、より好ましくは０．０５〜１ｗｔ％であ
る。キレート剤の添加量がこの範囲より大きいと効果が
上がらないだけでなくかえって添加剤の溶解を妨げるな
どの問題が生じる。また、少ない場合には洗浄能力がみ
られなくなる。
【０００８】添加剤として、ｐＨを酸性に保って洗浄力
を強化するために有機酸や無機酸を加えることができ
る。有機酸としては、シュウ酸、クエン酸、酢酸、ヒド
ロキシ酢酸、酒石酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハク
酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、ヒメリン
酸、レブリン酸、乳酸、グルタール酸、マロン酸、フマ
ール酸、イタコン酸、プロパントリカルボン酸、蟻酸、
酪酸、フミン酸、フィチン酸及び５−スルホサリチル酸
などが挙げられる。また、３，３−ジホスホノペンタン
−ジカルボン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、
メチレンジホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１
−ジホスホン酸、２−アミノ−２−メチル−１−ヒドロ
キシプロパン−１，１−ジホスホン酸、２−ホスホノブ
タントリカルボン酸−１，２，４−ニトリロトリホスホ
ン酸、Ｎ−カルボキシメチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジ（メチ
レンホスホン酸）及びヘキサメチレンジアミン−テトラ
（メチレンホスホン酸）などが用いられる。
を強化するために有機酸や無機酸を加えることができ
る。有機酸としては、シュウ酸、クエン酸、酢酸、ヒド
ロキシ酢酸、酒石酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハク
酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、ヒメリン
酸、レブリン酸、乳酸、グルタール酸、マロン酸、フマ
ール酸、イタコン酸、プロパントリカルボン酸、蟻酸、
酪酸、フミン酸、フィチン酸及び５−スルホサリチル酸
などが挙げられる。また、３，３−ジホスホノペンタン
−ジカルボン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、
メチレンジホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１
−ジホスホン酸、２−アミノ−２−メチル−１−ヒドロ
キシプロパン−１，１−ジホスホン酸、２−ホスホノブ
タントリカルボン酸−１，２，４−ニトリロトリホスホ
ン酸、Ｎ−カルボキシメチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジ（メチ
レンホスホン酸）及びヘキサメチレンジアミン−テトラ
（メチレンホスホン酸）などが用いられる。
【０００９】更に、無機酸としては、塩酸、硫酸、硝
酸、リン酸、塩素酸、過塩素酸、亜硫酸、チオ硫酸、パ
ーオキシ硫酸、亜硝酸、亜リン酸、メタリン酸、ピロリ
ン酸、バナジン酸、タングステン酸などが用いられる。
酸、リン酸、塩素酸、過塩素酸、亜硫酸、チオ硫酸、パ
ーオキシ硫酸、亜硝酸、亜リン酸、メタリン酸、ピロリ
ン酸、バナジン酸、タングステン酸などが用いられる。
【００１０】洗浄方法として、スポンジなどに洗浄液を
しみ込ませて直接に擦り洗いを行うことも可能である
が、自動現像機のポンプで循環させる方がメンテナンス
負荷を軽減する上で良策である。この方法では配管の内
部までの洗浄が可能である。
しみ込ませて直接に擦り洗いを行うことも可能である
が、自動現像機のポンプで循環させる方がメンテナンス
負荷を軽減する上で良策である。この方法では配管の内
部までの洗浄が可能である。
【００１１】洗浄液の温度は、高い方が好ましいが、自
動現像機の通常の温度設定（２５〜４０℃）で十分に洗
浄が可能である。
動現像機の通常の温度設定（２５〜４０℃）で十分に洗
浄が可能である。
【００１２】洗浄液は、保管や輸送に便利なように濃縮
液とし、作業前に水で希釈して使用するのが好ましい。
液とし、作業前に水で希釈して使用するのが好ましい。
【００１３】本発明２に係る洗浄剤は、研磨剤を含む水
溶液であることを特徴とするものである。これはケイ酸
化合物のような固い汚れを研磨剤により物理的に除去す
る。本発明の洗浄剤に用いられる研磨剤としては微粒子
シリカ、炭酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、酸化
マグネシウム、フリント、花崗岩、アランダム、珪藻
土、砂、金剛砂、ガーネット、タルク、パミス、ドロマ
イトなどが挙げられるが、微粒子シリカが特に好ましく
用いられる。
溶液であることを特徴とするものである。これはケイ酸
化合物のような固い汚れを研磨剤により物理的に除去す
る。本発明の洗浄剤に用いられる研磨剤としては微粒子
シリカ、炭酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、酸化
マグネシウム、フリント、花崗岩、アランダム、珪藻
土、砂、金剛砂、ガーネット、タルク、パミス、ドロマ
イトなどが挙げられるが、微粒子シリカが特に好ましく
用いられる。
【００１４】これら研磨剤の平均粒径は、５〜２００μ
ｍが好ましく、特に、１０〜１００μｍのものが好まし
い。
ｍが好ましく、特に、１０〜１００μｍのものが好まし
い。
【００１５】研磨剤の添加量は０．０１〜１０ｗｔ％が
好ましく、より好ましくは０．５〜１ｗｔ％である。添
加量がこの範囲より大きいと効果が上がらないだけでな
くかえって添加剤の溶解を妨げるなどの問題が生じる。
また、少ない場合には洗浄能力がみられなくなる。
好ましく、より好ましくは０．５〜１ｗｔ％である。添
加量がこの範囲より大きいと効果が上がらないだけでな
くかえって添加剤の溶解を妨げるなどの問題が生じる。
また、少ない場合には洗浄能力がみられなくなる。
【００１６】添加剤として先に挙げた有機酸や無機酸を
加えることができる。また、洗浄方法や洗浄温度などは
上記した通りである。
加えることができる。また、洗浄方法や洗浄温度などは
上記した通りである。
【００１７】本発明３に係る洗浄剤は、フッ素を含有す
る界面活性剤を含む水溶液であることを特徴とする。樹
脂などの成分をフッ素系界面活性剤により溶解させる作
用を有するためである。
る界面活性剤を含む水溶液であることを特徴とする。樹
脂などの成分をフッ素系界面活性剤により溶解させる作
用を有するためである。
【００１８】本発明の洗浄剤に用いられるフッ素系界面
活性剤は、分子内にパーフルオロアルキル基を含有する
タイプのフッ素系界面活性剤であり、例えば、パーフル
オロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスル
ホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどの
アニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性
型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩な
どのカチオン型及びパーフルオロアルキルアミンオキサ
イド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、
パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基含有オ
リゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウ
レタン等の非イオン型が挙げられる。上記の界面活性剤
は、単独若しくは２種以上を組合せて使用することがで
きる。
活性剤は、分子内にパーフルオロアルキル基を含有する
タイプのフッ素系界面活性剤であり、例えば、パーフル
オロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスル
ホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどの
アニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性
型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩な
どのカチオン型及びパーフルオロアルキルアミンオキサ
イド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、
パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基含有オ
リゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウ
レタン等の非イオン型が挙げられる。上記の界面活性剤
は、単独若しくは２種以上を組合せて使用することがで
きる。
【００１９】フッ素系界面活性剤の添加量は、０．０１
〜５ｗｔ％が好ましく、より好ましくは０．０１〜０．
５ｗｔ％である。添加量がこの範囲より大きいと効果が
上がらないだけでなくかえって添加剤の溶解を妨げるな
どの問題が生じる。また、少ない場合には洗浄能力がみ
られなくなる。
〜５ｗｔ％が好ましく、より好ましくは０．０１〜０．
５ｗｔ％である。添加量がこの範囲より大きいと効果が
上がらないだけでなくかえって添加剤の溶解を妨げるな
どの問題が生じる。また、少ない場合には洗浄能力がみ
られなくなる。
【００２０】
【実施例】次に、本発明に係る洗浄剤を実施例によって
説明する。 実施例１ 先ず、下記条件で１００ｍ２／リットルのランニング処
理を行った。 自動現像機： ＰＳＺ−９１０（コニカ社製） 処理液： 現像液：ＫＤ−５２／ＫＤ−５２Ｒ（コニカ社製） 水洗液：水 ガム液：ＳＧＷ−２（コニカ社製） 印刷版： ポジ型ＰＳ版ＫＭ−３（コニカ社製） １０８０ｍ２（１００３ｍｍ×８００ｍｍ：１３５０枚） 露光：２ＫＷメタルハライドランプ（岩崎電気社製アイドル フィン２０００）を用い、８．０ｍＷ／ｃｍ２の条件 で７０ｃｍの距離から６０秒の全面露光 ネガ型ＰＳ版ＳＷＮ−Ｘ（コニカ社製） １２０ｍ２（１００３ｍｍ×８００ｍｍ：１５０枚） 露光：露光せずに現像 ランニング処理日数：５日 ランニング開始時の現像液の循環量： ２７リットル／ｍｉｎ ランニング終了時の現像液の循環量： １２リットル／ｍｉｎ ランニング終了後、各処理液を排出し、水で軽く流した
後、各処理槽に下記洗浄液を張り循環させた。３０分攪
拌後に洗浄液を排出した。各処理槽の表面の汚れは水で
循環洗浄したとき（下記比較例１）の半分に減少した。
洗浄の後の循環量は、２５リットル／ｍｉｎに回復し
た。
説明する。 実施例１ 先ず、下記条件で１００ｍ２／リットルのランニング処
理を行った。 自動現像機： ＰＳＺ−９１０（コニカ社製） 処理液： 現像液：ＫＤ−５２／ＫＤ−５２Ｒ（コニカ社製） 水洗液：水 ガム液：ＳＧＷ−２（コニカ社製） 印刷版： ポジ型ＰＳ版ＫＭ−３（コニカ社製） １０８０ｍ２（１００３ｍｍ×８００ｍｍ：１３５０枚） 露光：２ＫＷメタルハライドランプ（岩崎電気社製アイドル フィン２０００）を用い、８．０ｍＷ／ｃｍ２の条件 で７０ｃｍの距離から６０秒の全面露光 ネガ型ＰＳ版ＳＷＮ−Ｘ（コニカ社製） １２０ｍ２（１００３ｍｍ×８００ｍｍ：１５０枚） 露光：露光せずに現像 ランニング処理日数：５日 ランニング開始時の現像液の循環量： ２７リットル／ｍｉｎ ランニング終了時の現像液の循環量： １２リットル／ｍｉｎ ランニング終了後、各処理液を排出し、水で軽く流した
後、各処理槽に下記洗浄液を張り循環させた。３０分攪
拌後に洗浄液を排出した。各処理槽の表面の汚れは水で
循環洗浄したとき（下記比較例１）の半分に減少した。
洗浄の後の循環量は、２５リットル／ｍｉｎに回復し
た。
【００２１】用いた洗浄液の組成は、エチレンジアミン
テトラ酢酸（ＥＤＴＡ）＝１ｗｔ％、水＝９９ｗｔ％で
ある。
テトラ酢酸（ＥＤＴＡ）＝１ｗｔ％、水＝９９ｗｔ％で
ある。
【００２２】実施例２ 洗浄剤の組成を、１，２−ジヒドロキシベンゼン−３，
５−ジスルホン酸ナトリウム＝容量１ｗｔ％、水＝９９
ｗｔ％に代えた他は実施例１と同様に行った。各処理槽
の表面の汚れは水で循環洗浄したとき（下記比較例１）
の半分に減少した。洗浄の後の循環量は、２５リットル
／ｍｉｎに回復した。
５−ジスルホン酸ナトリウム＝容量１ｗｔ％、水＝９９
ｗｔ％に代えた他は実施例１と同様に行った。各処理槽
の表面の汚れは水で循環洗浄したとき（下記比較例１）
の半分に減少した。洗浄の後の循環量は、２５リットル
／ｍｉｎに回復した。
【００２３】実施例３ 実施例１で説明したランニング終了後、各処理液を排出
し、水で軽く流した後に各処理槽に下記洗浄液を張り循
環させた。３０分攪拌後に洗浄液を排出した。各処理槽
の表面の汚れは水で循環洗浄したとき（下記比較例１）
の半分に減少した。洗浄の後の循環量は、２７リットル
／ｍｉｎに回復した。
し、水で軽く流した後に各処理槽に下記洗浄液を張り循
環させた。３０分攪拌後に洗浄液を排出した。各処理槽
の表面の汚れは水で循環洗浄したとき（下記比較例１）
の半分に減少した。洗浄の後の循環量は、２７リットル
／ｍｉｎに回復した。
【００２４】洗浄液の組成は、微粒子シリカ（平均粒径
約５０μｍ）＝１ｗｔ％、水＝９９ｗｔ％とした。
約５０μｍ）＝１ｗｔ％、水＝９９ｗｔ％とした。
【００２５】実施例４ 実施例１で説明したランニング終了後、各処理液を排出
し、水で軽く流した後に各処理槽に下記洗浄液を張り循
環させた。３０分攪拌後に洗浄液を排出した。各処理槽
の表面の汚れは水で循環洗浄したとき（下記比較例１）
の半分に減少した。洗浄の後の循環量は、２５リットル
／ｍｉｎに回復した。
し、水で軽く流した後に各処理槽に下記洗浄液を張り循
環させた。３０分攪拌後に洗浄液を排出した。各処理槽
の表面の汚れは水で循環洗浄したとき（下記比較例１）
の半分に減少した。洗浄の後の循環量は、２５リットル
／ｍｉｎに回復した。
【００２６】洗浄液の組成は、メガファックＦ−１７７
（大日本インキ化学工業社製フッ素系界面活性剤）１ｗ
ｔ％、水９９ｗｔ％とした。
（大日本インキ化学工業社製フッ素系界面活性剤）１ｗ
ｔ％、水９９ｗｔ％とした。
【００２７】実施例５ 実施例１で説明したランニング終了後、各処理液を排出
し、水で軽く流した後に各処理槽に下記洗浄液を張り循
環させた。３０分攪拌後に洗浄液を排出した。各処理槽
の表面の汚れは水で循環洗浄したとき（下記比較例１）
の半分に減少した。洗浄の後の循環量は、２５リットル
／ｍｉｎに回復した。
し、水で軽く流した後に各処理槽に下記洗浄液を張り循
環させた。３０分攪拌後に洗浄液を排出した。各処理槽
の表面の汚れは水で循環洗浄したとき（下記比較例１）
の半分に減少した。洗浄の後の循環量は、２５リットル
／ｍｉｎに回復した。
【００２８】洗浄液の組成は、Ｓ−３８１（旭硝子社製
フッ素系界面活性剤）＝１ｗｔ％、水＝９９ｗｔ％とし
た。
フッ素系界面活性剤）＝１ｗｔ％、水＝９９ｗｔ％とし
た。
【００２９】比較例１ 実施例１と同様のランニング処理を行った後、各処理液
を排出し、水で軽く流した後、各処理槽に水を張り循環
させた。３０分循環後に水を排出したところ、処理槽全
体に沈殿物がこびり着いていた。洗浄後の循環量は１９
リットル／ｍｉｎであった。
を排出し、水で軽く流した後、各処理槽に水を張り循環
させた。３０分循環後に水を排出したところ、処理槽全
体に沈殿物がこびり着いていた。洗浄後の循環量は１９
リットル／ｍｉｎであった。
【００３０】
【発明の効果】本発明に係る洗浄剤によれば、劇物に相
当し安全性や環境への問題が大きいフッ化水素酸を用い
ることなく、簡単且つ効率よく感光性平版印刷版の自動
現像機を洗浄することができ、メンテナンス負荷を著し
く軽減することができ、頭記した課題が解決される。
当し安全性や環境への問題が大きいフッ化水素酸を用い
ることなく、簡単且つ効率よく感光性平版印刷版の自動
現像機を洗浄することができ、メンテナンス負荷を著し
く軽減することができ、頭記した課題が解決される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7/32 Ｃ１１Ｄ 7/32 // Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０１
Claims (3)
- 【請求項１】金属イオン封鎖剤を含む水溶液であること
を特徴とする感光性平版印刷版の自動現像機の洗浄液。 - 【請求項２】研磨剤を含む水溶液であることを特徴とす
る感光性平版印刷版の自動現像機の洗浄液。 - 【請求項３】フッ素を含有する界面活性剤を含む水溶液
であることを特徴とする感光性平版印刷版の自動現像機
の洗浄液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33278295A JPH09151394A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 感光性平版印刷版の自動現像機の洗浄液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33278295A JPH09151394A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 感光性平版印刷版の自動現像機の洗浄液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09151394A true JPH09151394A (ja) | 1997-06-10 |
Family
ID=18258766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33278295A Pending JPH09151394A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 感光性平版印刷版の自動現像機の洗浄液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09151394A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006080501A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-03-23 | Toshiba Corp | 半導体基板洗浄液及び半導体基板洗浄方法 |
| US7896970B2 (en) | 2004-08-10 | 2011-03-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor substrate cleaning liquid and semiconductor substrate cleaning process |
-
1995
- 1995-11-28 JP JP33278295A patent/JPH09151394A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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