CN103046061B - 显影设备用清洗剂及其使用方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显影设备用清洗剂,包括5~30重量份的主剂和3~15重量份的辅剂,所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成,所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。通过将上述重量比的主剂和辅剂混合构成的清洗剂配置成清洗液对显影设备的进行清洗,在保证对显影设备内结垢和结晶物有效清洗除去的同时,降低清洗时清洗液对显影设备的腐蚀速率,保护显影设备,延长显影设备的使用寿命。

Description

显影设备用清洗剂及其使用方法
技术领域
本发明涉及印刷版材生产领域,具体涉及用于印刷版材生产过程中的显影设备用清洗剂及其使用方法。
背景技术
显影机主要用于PS版、CTP版材制作过程中的显影工序,现阶段常用的PS版、CTP版的显影都是利用酸碱中和的原理,使非图纹部分感光膜层溶解,从而完成显影工作。显影机通过其内部机构的机械传动以及操纵的喷淋、刷辊操作,将曝光的版材浸泡在显影液中,在连续运行状态对版面进行清洗而达到显影的目的。显影液的主剂大多为氢氧化钠、氢氧化钾、偏硅酸钠等碱性组分构成;感光膜层被溶解后在显影液中会形成大量絮状不溶物质;这些絮状不溶物质和显影液内的碱性组分作用后容易出现结晶、沉淀,吸附结垢在显影机内表面上,这样显影机经过一段时间运行后,就会出现毛刷和传输胶辊上结聚大量结晶物质以及显影喷啉管、显影液供液系统、阀门等被堵塞的现象,导致显影机无法正常使用。目前,版材生产厂家在出现上述问题后,大多直接采用单一的盐酸、硫酸或磷酸对显影机进行清洗,以求除去结垢和结晶物。但利用这些纯酸性清洗液在清洗时,容易对显影机内部的金属部件造成腐蚀,使得显影机胶棍出现老旧、刷磨辊变硬等问题,进而造成显影过程中出现版材版面划伤、显影机漏液等现象,另外,显影机的使用寿命也被大大缩短,因此有必要提供一种清洗液对显影机内的结垢和结晶物进行有效可靠的清洗、且对显影机内部部件的腐蚀作用小的清洗剂或清洗液。
发明内容
本发明的首要目的是提供一种显影设备用清洗剂,清洗效果好且对显影设备内部部件的腐蚀作用小,延长显影设备的使用寿命。
为实现上述目的,本发明采用了以下技术方案:一种显影设备用清洗剂,包括5~30重量份的主剂和3~15重量份的辅剂,所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成,所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。
本发明的另一个目的是提供该显影设备用清洗剂的使用方法,其特征在于:是将清洗剂与水按重量比1:8~10进行混合稀释搅拌均匀成清洗液待用,然后将清洗液倒入显影设备内清洗即可。
通过将上述重量比的主剂和辅剂混合构成的清洗剂配置成清洗液对显影设备的进行清洗,在保证对显影设备内结垢和结晶物有效清洗除去的同时,降低清洗时清洗液对显影设备的腐蚀速率,保护显影设备,延长显影设备的使用寿命。
进一步的方案为:
该清洗剂还包括2~5重量份的阻垢缓蚀剂和/或2~5重量份的酸洗缓蚀剂,所述的阻垢缓蚀剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、乙二胺四甲膦酸钠、氨基三甲叉膦酸中的一种或几种构成,所述的阻垢缓蚀剂为六次甲基四胺、聚氧乙烯环烷酸咪唑啉、十七烯基咪唑啉季胺盐中的一种或几种构成。
通过增加的阻垢缓蚀剂和/或酸洗缓蚀剂组分,在清洗时,阻垢缓蚀剂组分能够有效的分散、阻止或干扰难容物质在显影设备的内表面的沉淀和结垢,同时在显影设备的内表面形成保护膜,防止清洗液对显影设备造成腐蚀,保护显影设备不受损坏;酸洗缓蚀剂主要作用也是减缓清洗剂对金属基体的腐蚀作用,降低金属腐蚀的速率,并抑制酸洗过程中Fe对金属的腐蚀,使金属不产生孔蚀,进一步更好的保护显影设备。
该清洗剂还包括0.5~5重量份的表面活性剂,所述的表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基二甲基磺丙基甜菜碱、烷基苯磺酸钠中一种或几种混合构成。
该清洗剂还包括0.5~2.5重量份的助剂和87~37.5重量份的水,所述的助剂为葡萄糖酸钠、苯甲酸钠、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸单丁酯、丙三醇中的一种或几种构成。
表面活性剂和助剂的加入,主要是增强显影液对显影设备内部待清洗表面的润湿性能、使得清洗剂能够快速的渗透、乳化、分散结垢和结晶物,同时增强结垢和结晶物在清洗液内的溶解性,增加清洗液的除垢性能和减小清洗操作的耗时。
综上所述,本申请提供的清洗剂可对显影设备内的结垢和结晶物进行有效的清洗,且清洗快、除垢效果好、对显影设备内器件的腐蚀作用小。
更为具体的方案为,该清洗剂的组分构成为:柠檬酸15.4~21.6重量份、磷酸7.7~8.7重量份、顺丁烯二酸酐3.9~4.3重量份、葡萄糖酸钠1.9~2.2重量份、邻苯二甲酸二丁酯0.8~0.9重量份、六次甲基四胺3.9~4.3重量份、乙二胺四乙酸四钠1.5~2.6重量份、辛基酚聚氧乙烯醚2.3~2.2重量份、十二烷基苯磺酸钠0.8~1.3重量份、水61.8~51.9重量份。本申请优选按照上述重量组分的试剂配制清洗剂,其相对于实现本发明的其他技术参数的方案可更好的保护显影设备,减小清洗时间约5~20个百分点。
在清洗时,将显影设备内的显影液排空,先用水清洗显影设备2~3遍,然后再将配置好的清洗液倒入显影设备内浸泡0.8~1.2h,再启动显影设备内部的流体循环系统,在20~27℃条件下循环清洗4~6小时,然后将清洗液倒出,最后用水循环清洗显影设备2~4次即可。当然,对于一些显影设备内的结垢严重或结晶物较多的部件可将其拆卸来,用本配置好的清洗液进行较长时间的浸泡,已取得更加的清洗效果。通过上述操作可有效的将显影设备上的结垢和结晶物除去和保护显影设备
具体实施方式
以下通过具体实施方式,对本发明作进一步的说明,其中实施例1~8是利用不同组分构成的清洗剂配置清洗液,实施9是利用各种清洗液对结垢的显影设备进行清洗,并比较各清洗剂对显影设备的腐蚀作用和清洗效果。
实施例1
按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂:柠檬酸5kg、磷酸2k g、顺丁烯二酸酐1k g、葡萄糖酸钠0.5kg、邻苯二甲酸二丁酯0.2kg、六次甲基四胺1k g、乙二胺四乙酸四钠0.4kg、辛基酚聚氧乙烯醚0.5kg、十二烷基苯磺酸钠0.3kg、水12kg。
将配置好的清洗剂与水按重量比1:10稀释混合搅拌配置成待用清洗液。
实施例2
按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂:柠檬酸2kg、磷酸1k g、顺丁烯二酸酐0.5kg、葡萄糖酸钠0.25kg、邻苯二甲酸二丁酯0.1kg、六次甲基四胺0.5kg、乙二胺四乙酸四钠0.2kg、辛基酚聚氧乙烯醚0.3k g、十二烷基苯磺酸钠0.1kg、水8kg。
将配置好的清洗剂与水按重量比1:9稀释混合搅拌配置成待用清洗液。
实施例3
按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂:磺基水杨酸0.2kg、乙醇酸0.5kg、顺丁烯二酸酐1.5kg、聚乙烯磷酸0.6kg、乙二胺四乙酸二钠0.3kg、聚氧乙烯环烷酸咪唑啉0.3kg、十二烷基二甲基磺丙基甜菜碱0.07kg、苯甲酸钠0.02kg、邻苯二甲酸单丁酯0.05kg、水10.85kg。
将配置好的清洗剂与水按重量比1:8稀释混合搅拌配置成待用清洗液。
实施例4
按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂:氨基磺酸3.84kg、磺基水杨酸3.0kg、草酸0.3kg、氟化氢铵0.35kg、氨基三甲叉膦酸1.14kg、六次甲基四胺0.5kg、十七烯基咪唑啉季胺盐0.65k g、丙基酚聚氧乙烯醚1.0kg、壬基二甲基磺丙基甜菜碱0.15kg、葡萄糖酸钠0.4kg、丙三醇0.15kg、水11.3kg。
将配置好的清洗剂与水按重量比1:10稀释混合搅拌配置成待用清洗液。
实施例5
按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂:柠檬酸2kg、氨基磺酸5kg、葡萄糖酸钠0.5kg、六次甲基四胺2kg、壬基酚聚氧乙烯醚(OP-10)0.5kg、十二烷基二甲基磺丙基甜菜碱0.2kg、水10kg。
将配置好的清洗剂与水按重量比1:8稀释混合搅拌配置成待用清洗液。
实施例6
按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂:磷酸2k g、氟化氢铵3k g、草酸0.5kg、乙二胺四甲膦酸钠2kg、聚氧乙烯环烷酸咪唑啉2kg、壬基酚聚氧乙烯醚(TX-10)0.3kg、脂肪醇聚氧乙烯醚(O-20)0.1kg、水10kg。
将配置好的清洗剂与水按重量比1:9稀释混合搅拌配置成待用清洗液。
实施例7
按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂:乙醇酸3kg、氨基磺酸3kg、聚乙烯磷酸0.8kg、十七烯基咪唑啉季胺盐.2kg、乙二胺四甲膦酸钠1kg、壬基酚聚氧乙烯醚(TX-10)0.7kg、丙三醇0.5kg、水10kg。
将配置好的清洗剂与水按重量比1:9稀释混合搅拌配置成待用清洗液。
实施例8
按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂:氨基磺酸1.5k g、柠檬酸2.0kg、磷酸2.0kg、草酸0.05kg、氟化氢铵0.1kg、顺丁烯二酸酐0.1kg、水10.05kg。
实施例9
将上述实施例1~8所配置的清洗液分别标记为清洗液1~8,用清洗液1~8分别对结垢显影设备进行清洗。
清洗操作为:排空显影设备内的显影液,选取结构程度基本相同的显影设备8台,分别先用水清洗显影设备2~3遍,然后再将配置好的相同体积的清洗液1~8分别倒入8台显影设备内浸泡0.8~1.2h,然后启动显影设备内部的流体流动循环系统,在20~27℃条件下循环清洗,直至结垢和结晶物被完全清洗除去,然后将清洗液倒出,在用水循环清洗显影设备2~4次即可。
或者,选取显影设备内的结垢严重但结垢程度基本相同的金属部件8件将其拆卸来,用配置好的相同体积的清洗液1~8分别对8件金属部件进行相同的浸泡清洗,直至结垢和结晶物被完全清洗完毕。
对各清洗液进行清洗操作的耗时以及清洗液对显影设备或金属部件的腐蚀作用进行比较。
结论:清洗液1~8对显影设备和金属部件的腐蚀作用相对于传统清洗剂都有明显减小、清洗效果增强,清洗液1~7清洗后的显影设备和金属部件上没有明显的腐蚀痕迹,清洗显影设备耗时4~5.6h(不包括用清水清洗的耗时),清洗结构严重的金属部件耗时23~25h;清洗液8对显影设备和金属部件的有微弱的腐蚀,清洗显影设备耗时6.5h,清洗结构严重的金属部件耗时27h。其中清洗液1、2的腐蚀作用最小;清洗耗时相对于清洗液3~7,可节约清洗时间5~20各百分点。

Claims (5)

1.一种显影设备用清洗剂,其是由以下原料组分构成:5~30重量份的主剂、3~15重量份的辅剂、2~5重量份的阻垢缓蚀剂和/或2~5重量份的酸洗缓蚀剂;
 所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成,所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成;
所述的阻垢缓蚀剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、乙二胺四甲膦酸钠、氨基三甲叉膦酸中的一种或几种构成,所述的阻垢缓蚀剂为六次甲基四胺、聚氧乙烯环烷酸咪唑啉、十七烯基咪唑啉季胺盐中的一种或几种构成。
2.如权利要求1所述的显影设备用清洗剂,其特征在于:该清洗剂还包括0.5~5重量份的表面活性剂,所述的表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基二甲基磺丙基甜菜碱、烷基苯磺酸钠中一种或几种混合构成。
3.如权利要求1或2所述的显影设备用清洗剂,其特征在于:该清洗剂还包括0.5~2.5重量份的助剂和87~37.5重量份的水,所述的助剂为葡萄糖酸钠、苯甲酸钠、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸单丁酯、丙三醇中的一种或几种构成。
4.如权利要求1~2中任意一项所述的显影设备用清洗剂的使用方法,其特征在于:是将清洗剂与水按重量比1:8~10进行混合稀释搅拌均匀成清洗液待用,然后将清洗液倒入显影设备内清洗即可。
5.如权利要求4所述的显影设备用清洗剂的使用方法,其特征在于:将显影设备内的显影液排空,先用水清洗显影设备2~3遍,然后再将配置好的清洗液倒入显影设备内浸泡0.8~1.2h,再启动显影设备内部的流体循环系统,在20~27℃条件下循环清洗4~6小时,然后将清洗液倒出,最后用水循环清洗显影设备2~4次即可。
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