JPS60118236U - プラズマエツチング装置用電極 - Google Patents

プラズマエツチング装置用電極

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JPS60118236U
JPS60118236U JP421084U JP421084U JPS60118236U JP S60118236 U JPS60118236 U JP S60118236U JP 421084 U JP421084 U JP 421084U JP 421084 U JP421084 U JP 421084U JP S60118236 U JPS60118236 U JP S60118236U
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JP
Japan
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electrode
plasma etching
etching apparatus
etching equipment
fine particles
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Pending
Application number
JP421084U
Other languages
English (en)
Inventor
遠藤　好英
剛 内藤
英雄 小松
角田　良二
笹田　和夫
浜岡　清彦
清 高橋
高橋　昭之助
斉藤　精一郎
Original Assignee
株式会社日立国際電気
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Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社日立国際電気 filed Critical 株式会社日立国際電気
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のプラズマエツチング装置の構成概要図、
第２図は第１図の装置による基板内のエツチング速度分
布図、第３図は本考案による上部電極を用いた電極構造
図、第４図は本考案電極使用時の基板内エツチング速度
分布図、第５図および第６図は本考案による別な上部電
極の構造側図である。 １・・・・・・エツチング室、２・・・・・・高周波源
、３・・・・・・上部電極、３ａ・・・・・・ガス吹出
孔、４・・・・・・下部電極、４ａ・・・・・・水冷部
分、５・・・・・・基板、６・・・・・・ガス送入口、
７・・・・・・排気口、８・・・・・・上部電極板。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）平行平板形プラズマエツチング装置の一方の電極
    を、その後方より反応性ガスを注入する構造にした場合
    に、該電極の平板状電極板の少（とも一部分に導電体微
    粒子の焼結体を用い、その微粒子の間隙を通して上記反
    応性ガスを平行電極間に供給するようにしたことを特徴
    とするプラズマエツチング装置用電極。
  2. （２）実用新案登録請求の範囲第１項記載の一方の□　
    　電極の平板状電極板の他方の電極に対向する面を絶縁
    物の焼結体にて被覆したことを特徴とするプラズマエツ
    チング装置用電極。
JP421084U 1984-01-18 1984-01-18 プラズマエツチング装置用電極 Pending JPS60118236U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63138737A (ja) * 1986-12-01 1988-06-10 Hitachi Ltd ドライエッチング方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57131372A (en) * 1981-02-05 1982-08-14 Seiko Epson Corp Plasma etching device

Patent Citations (1)

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