JPS58151666U - プラズマ・エツチング装置 - Google Patents

プラズマ・エツチング装置

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Publication number
JPS58151666U
JPS58151666U JP4819482U JP4819482U JPS58151666U JP S58151666 U JPS58151666 U JP S58151666U JP 4819482 U JP4819482 U JP 4819482U JP 4819482 U JP4819482 U JP 4819482U JP S58151666 U JPS58151666 U JP S58151666U
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JP
Japan
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lower electrode
electrode
plasma etching
upper electrode
etching
Prior art date
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JP4819482U
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JPS6126366Y2 (ja
Inventor
聡 高橋
Original Assignee
沖電気工業株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のプラズマ発生装置の構成を示す断面図、
第２図は第１図のプラズマ・エツチング装置における下
部電極上のエツチング試料の位置とエツチング速度の関
係を示す図、第３図はこの考案のプラズマ拳エツチング
装置の一実施例における上部電極と下部電極の部分の拡
大断面図、第４図はこの考案のプラズマ・エツチング装
置の第２の実施例の上部電極と下部電極の部分の拡大断
面図、第５図はこの考案のプラズマ・エツチング装置に
おける下部電極上のエツチング試料の位置とエツチング
速度の関係を示す特性図、第６図ａはこの考案のプラズ
マ・エツチング装置の第３の実施例の構成を示す断面図
、第６図すは第６図ａにおける下部電極の平面図、第７
図ａはこの考案のプラズマ・エツチング装置の第４の実
施例の構成を示す断面図、第７図すは第７図ａにおける
下部電極の平面図、第８図ａはこの考案のプラズマ・エ
ツチング装置の第５の実施例の構成を示す断面図、第８
図すは第８図ａにおける下部電極の平面図である。 １・・・下部電極、２・・・上部電極、３・・・エツチ
ング試料、４・・・エツチングチャンバ、５・・・絶縁
物、６・・・高周波電力マツチング回路、７・・・高周
波電源、８・・・高周波電源接続電極および接地電極切
り替え回路、９・・・エツチングガス導入口、１０・・
・真空排気口。

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）エツチング試料をのせた平面が円形の下部電極と
    、この下部電極に対向して設置されこの下部電極に対し
    て半径距離方向で対向距離の違う円形の上部電極と、上
    記上部電極と下部電極を収納し所定の真空度まで排気し
    た後エツチングガスが充填されたエツチングチャンバと
    、上記上部電極と下部電極間に高層電圧を印加して上部
    電極と下部電極間にプラズマを発生させる手段とよりな
    るプラズマエツチング装置。
  2. （２）上部電極は下部電極に対し凸型の面を有すること
    を特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のプラ
    ズマ・エツチング装置。
  3. （３）上部電極は下部電極に対し、凹型の面を有する電
    極を用いたことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第
    １項記載のプラズマ・エツチング装置。
JP4819482U 1982-04-05 1982-04-05 プラズマ・エツチング装置 Granted JPS58151666U (ja)

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JP4819482U JPS58151666U (ja) 1982-04-05 1982-04-05 プラズマ・エツチング装置

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JPS58151666U true JPS58151666U (ja) 1983-10-11
JPS6126366Y2 JPS6126366Y2 (ja) 1986-08-07

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5480080A (en) * 1977-12-09 1979-06-26 Hitachi Ltd Etching device
JPS5658975A (en) * 1979-09-27 1981-05-22 Eaton Corp Plasma etching apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5480080A (en) * 1977-12-09 1979-06-26 Hitachi Ltd Etching device
JPS5658975A (en) * 1979-09-27 1981-05-22 Eaton Corp Plasma etching apparatus

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JPS6126366Y2 (ja) 1986-08-07

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