JPS6274332U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6274332U JPS6274332U JP16564585U JP16564585U JPS6274332U JP S6274332 U JPS6274332 U JP S6274332U JP 16564585 U JP16564585 U JP 16564585U JP 16564585 U JP16564585 U JP 16564585U JP S6274332 U JPS6274332 U JP S6274332U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma processing
- electrode
- processing apparatus
- electrodes
- built
- Prior art date
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- Pending
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- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例のプラズマ処理室の
全体構成図、第２図放電発生機構の一実施例の構
成図、第３図は本考案以外の例を示す説明図であ
る。 １……処理室、２……下部電極、３……基板、
４……高周波電源、５……上部電極、１１……ホ
ルダー、１２……永久磁石、１８……スイツチ、
１９……磁力線。
全体構成図、第２図放電発生機構の一実施例の構
成図、第３図は本考案以外の例を示す説明図であ
る。 １……処理室、２……下部電極、３……基板、
４……高周波電源、５……上部電極、１１……ホ
ルダー、１２……永久磁石、１８……スイツチ、
１９……磁力線。
Claims (1)
- 真空容器内でプラズマ処理を行なう、プラズマ
処理装置において、プラズマ処理を行なう、１個
ないし複数の第１の電極の他に、第２の電極を設
置し、第１の電極と第２の電極とで形成される電
界と直角もしくは、平行な磁界の発生手段を内蔵
したことを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16564585U JPS6274332U (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16564585U JPS6274332U (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6274332U true JPS6274332U (ja) | 1987-05-13 |
Family
ID=31095866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16564585U Pending JPS6274332U (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6274332U (ja) |
-
1985
- 1985-10-30 JP JP16564585U patent/JPS6274332U/ja active Pending
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