JPS6214724U - - Google Patents

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JPS6214724U
JPS6214724U JP10707285U JP10707285U JPS6214724U JP S6214724 U JPS6214724 U JP S6214724U JP 10707285 U JP10707285 U JP 10707285U JP 10707285 U JP10707285 U JP 10707285U JP S6214724 U JPS6214724 U JP S6214724U
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JP
Japan
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etching
grid electrodes
etching chamber
applying
generation section
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JP10707285U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本考案エツチング装置の夫々
異なる実施例を示す断面模式図である。 1……イオン生成部、2……ガス導入管、3…
…マイクロ波導入部、4……エツチング室、6…
…試料台、7……第1のグリツド電極、8……第
2のグリツド電極、9……直流電源、10……切
り換えスイツチ、14……電圧操作スイツチ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 供給されるエツチングガスをイオン化するイオ
    ン生成部と、このイオン生成部に隣接されたエツ
    チング室と、から成り、イオン生成部で生成され
    たイオンをコツチング室に供給してこのイオンに
    よりエツチング室内の被エツチング物をエツチン
    グするコツチング装置において、上記イオン生成
    部とエツチング室間に設けた2枚のグリツド電極
    と、エツチング室に配置された試料台と、上記グ
    リツド電極及び試料台に電位を付与するための電
    源と、上記グリツド電極間にイオン加速のための
    電圧を印加するか上記グリツド電極と資料台間に
    電圧印加をするかを切り換える切り換え手段と、
    を備えて成るエツチング装置。
JP10707285U 1985-07-12 1985-07-12 Pending JPS6214724U (ja)

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JP10707285U JPS6214724U (ja) 1985-07-12 1985-07-12

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JP10707285U JPS6214724U (ja) 1985-07-12 1985-07-12

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JPS6214724U true JPS6214724U (ja) 1987-01-29

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JP10707285U Pending JPS6214724U (ja) 1985-07-12 1985-07-12

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