JPH0379152U - - Google Patents

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JPH0379152U
JPH0379152U JP13978989U JP13978989U JPH0379152U JP H0379152 U JPH0379152 U JP H0379152U JP 13978989 U JP13978989 U JP 13978989U JP 13978989 U JP13978989 U JP 13978989U JP H0379152 U JPH0379152 U JP H0379152U
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JP
Japan
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ion source
matching device
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plasma
discharge
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の一実施例に係るイオン源
装置を示す概略図である。第2図は、従来のイオ
ン源装置の一例を示す概略図である。 2……イオン源、4……プラズマソース部、6
……プラズマ生成容器、8a,8b……放電電極
、16……引出し電極系、24……整合器、26
……高周波電源、30,32……コンデンサ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 絶縁物製のプラズマ生成容器の外側に一組の放
    電電極を対向配置して成るプラズマソース部およ
    びこのプラズマソース部からイオンを引き出す引
    出し電極系を有するイオン源の放電電極間に、高
    周波電源から整合器を介して高周波電力を供給す
    るように構成されたイオン源装置において、前記
    整合器とそれにつながる放電電極との間に、当該
    放電電極の電位上昇分に耐える耐圧を有するコン
    デンサを直列に挿入したことを特徴とするイオン
    源装置。
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