JPH0298451U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0298451U JPH0298451U JP712389U JP712389U JPH0298451U JP H0298451 U JPH0298451 U JP H0298451U JP 712389 U JP712389 U JP 712389U JP 712389 U JP712389 U JP 712389U JP H0298451 U JPH0298451 U JP H0298451U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion source
- generation container
- plasma generation
- plasma
- sputter
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 2
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は、実施例に係るイオン源を示す要部断
面図である。第２図は、従来のイオン源の一例を
示す要部断面図である。 ２…プラズマ生成容器、４…フイラメント、１
２…イオンビーム、１４…スパツタ電極、２４…
スイツチ、２６…スパツタ電源。
面図である。第２図は、従来のイオン源の一例を
示す要部断面図である。 ２…プラズマ生成容器、４…フイラメント、１
２…イオンビーム、１４…スパツタ電極、２４…
スイツチ、２６…スパツタ電源。
Claims (1)
- プラズマ生成容器内に気体を導入してそれを放
電によつてプラズマ化するよう構成したイオン源
において、前記プラズマ生成容器内に、それに対
して負電圧が印加されるスパツタ電極を複数個設
け、それによつて当該スパツタ電極構成物質のイ
オンビームの引出しを可能にしたことを特徴とす
るイオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP712389U JPH0298451U (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP712389U JPH0298451U (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0298451U true JPH0298451U (ja) | 1990-08-06 |
Family
ID=31211876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP712389U Pending JPH0298451U (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0298451U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002117780A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-04-19 | Axcelis Technologies Inc | イオン注入装置用のイオン源およびそのためのリペラ |
-
1989
- 1989-01-24 JP JP712389U patent/JPH0298451U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002117780A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-04-19 | Axcelis Technologies Inc | イオン注入装置用のイオン源およびそのためのリペラ |