JPH0449448U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0449448U JPH0449448U JP9134790U JP9134790U JPH0449448U JP H0449448 U JPH0449448 U JP H0449448U JP 9134790 U JP9134790 U JP 9134790U JP 9134790 U JP9134790 U JP 9134790U JP H0449448 U JPH0449448 U JP H0449448U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sputter electrode
- ion source
- plasma generation
- tip portion
- generation container
- Prior art date
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- Granted
Links
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン源
示す要部断面図である。第２図および第３図は、
それぞれ、冷却パイプにスパツタ電極を取り付け
る手段の例を示す断面図である。第４図は、従来
のイオン源の一例を示す要部断面図である。 ２……プラズマ生成容器、４……フイラメント
、１２……スパツタ電極、１４……スパツタ電源
、１６……イオンビーム、１８……絶縁物、２０
……冷却パイプ、２４……イオン源フランジ、２
６……絶縁物。
示す要部断面図である。第２図および第３図は、
それぞれ、冷却パイプにスパツタ電極を取り付け
る手段の例を示す断面図である。第４図は、従来
のイオン源の一例を示す要部断面図である。 ２……プラズマ生成容器、４……フイラメント
、１２……スパツタ電極、１４……スパツタ電源
、１６……イオンビーム、１８……絶縁物、２０
……冷却パイプ、２４……イオン源フランジ、２
６……絶縁物。
Claims (1)
- プラズマ生成容器内に、それに対して負電圧が
印加されるスパツタ電極を収納し、それによつて
当該スパツタ電極構成物質のイオンビームの引き
出しを可能にしたイオン源において、冷媒が通さ
れる冷却パイプの先端部に前記スパツタ電極を取
り付け、この先端部を、絶縁物を介して、前記プ
ラズマ生成容器内に抜き差し可能に挿入している
ことを特徴とするイオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990091347U JP2506779Y2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990091347U JP2506779Y2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | イオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0449448U true JPH0449448U (ja) | 1992-04-27 |
| JP2506779Y2 JP2506779Y2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=31826880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990091347U Expired - Fee Related JP2506779Y2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2506779Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007523462A (ja) * | 2004-02-23 | 2007-08-16 | ヴィーコ インストゥルメンツ インコーポレイテッド | 流体によって冷却されるイオン源 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01189838A (ja) * | 1988-01-25 | 1989-07-31 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源 |
| JPH0251827A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | スパッタ型イオン源 |
-
1990
- 1990-08-30 JP JP1990091347U patent/JP2506779Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01189838A (ja) * | 1988-01-25 | 1989-07-31 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源 |
| JPH0251827A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | スパッタ型イオン源 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007523462A (ja) * | 2004-02-23 | 2007-08-16 | ヴィーコ インストゥルメンツ インコーポレイテッド | 流体によって冷却されるイオン源 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2506779Y2 (ja) | 1996-08-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |