JPS6354241U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6354241U JPS6354241U JP14754986U JP14754986U JPS6354241U JP S6354241 U JPS6354241 U JP S6354241U JP 14754986 U JP14754986 U JP 14754986U JP 14754986 U JP14754986 U JP 14754986U JP S6354241 U JPS6354241 U JP S6354241U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- particle beam
- electrodes
- partition member
- beam device
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は、本考案の一実施例である電子線装置
を示す図、第２図は、従来の電子線装置の一例を
示す図である。 １……陰極、２……ウエーネルト電極、３……
陽極、４……高圧電源、５……絶縁碍子、６……
高抵抗物質。
を示す図、第２図は、従来の電子線装置の一例を
示す図である。 １……陰極、２……ウエーネルト電極、３……
陽極、４……高圧電源、５……絶縁碍子、６……
高抵抗物質。
Claims (1)
- 第１と第２の電極と、該両電極の間に高電圧を
印加する手段と、該第１と第２の電極の間の荷電
粒子線通路の周囲に配置される隔壁部材とを有し
、該電極間で荷電粒子線を加速するように構成し
た荷電粒子線装置において、該隔壁部材の少なく
とも該荷電粒子線の通路に面した表面部分を高抵
抗物質によつて形成したことを特徴とする荷電粒
子線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14754986U JPS6354241U (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14754986U JPS6354241U (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6354241U true JPS6354241U (ja) | 1988-04-12 |
Family
ID=31061016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14754986U Pending JPS6354241U (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6354241U (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02121236A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Iwatsu Electric Co Ltd | 進行波型偏向装置 |
| WO2003107383A1 (ja) * | 2002-06-13 | 2003-12-24 | Okumura Katsuya | 電子光学鏡筒およびその製造方法 |
| WO2010001953A1 (ja) * | 2008-07-03 | 2010-01-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子源装置、イオン源装置、及び荷電粒子源装置 |
| JP2015507815A (ja) * | 2011-11-29 | 2015-03-12 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 小型高電圧電子銃 |
| US10170273B2 (en) | 2015-01-23 | 2019-01-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device, and method of manufacturing component for charged particle beam device |
-
1986
- 1986-09-26 JP JP14754986U patent/JPS6354241U/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02121236A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Iwatsu Electric Co Ltd | 進行波型偏向装置 |
| WO2003107383A1 (ja) * | 2002-06-13 | 2003-12-24 | Okumura Katsuya | 電子光学鏡筒およびその製造方法 |
| JP2009076474A (ja) * | 2002-06-13 | 2009-04-09 | Toudai Tlo Ltd | 電子光学鏡筒およびその製造方法 |
| WO2010001953A1 (ja) * | 2008-07-03 | 2010-01-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子源装置、イオン源装置、及び荷電粒子源装置 |
| JP2015507815A (ja) * | 2011-11-29 | 2015-03-12 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 小型高電圧電子銃 |
| US10170273B2 (en) | 2015-01-23 | 2019-01-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device, and method of manufacturing component for charged particle beam device |