JPH0183067U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0183067U JPH0183067U JP1987176166U JP17616687U JPH0183067U JP H0183067 U JPH0183067 U JP H0183067U JP 1987176166 U JP1987176166 U JP 1987176166U JP 17616687 U JP17616687 U JP 17616687U JP H0183067 U JPH0183067 U JP H0183067U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- workpiece
- electrode
- vacuum container
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案装置の第１実施例の構成を示す
説明図、第２図は本考案装置の第２実施例の構成
を示す説明図、第３図は本考案による場合と従来
の場合のプラズマ密度分布を示す図である。 １……真空容器、２，３……電極、４……被加
工処理物、５……磁石、７……高周波電源、ｅ…
…高周波電圧、８……ガス導入口、９……排気口
。
説明図、第２図は本考案装置の第２実施例の構成
を示す説明図、第３図は本考案による場合と従来
の場合のプラズマ密度分布を示す図である。 １……真空容器、２，３……電極、４……被加
工処理物、５……磁石、７……高周波電源、ｅ…
…高周波電圧、８……ガス導入口、９……排気口
。
Claims (1)
- 真空容器１内にガス導入口８よりガスを導入し
て排気口９より排気し、真空容器１内に設けられ
た電極２，３間に高周波電圧ｅを印加してプラズ
マを発生させ、このプラズマを利用して電極２上
の被加工処理物４を処理するプラズマ発生装置に
おいて、プラズマ拡散防止用磁石５を被加工処理
物４を載置した電極２の側方に設置せしめてなる
プラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987176166U JPH0183067U (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987176166U JPH0183067U (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0183067U true JPH0183067U (ja) | 1989-06-02 |
Family
ID=31467920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987176166U Pending JPH0183067U (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0183067U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014025117A (ja) * | 2012-07-27 | 2014-02-06 | Yuutekku:Kk | プラズマｃｖｄ装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP1987176166U patent/JPH0183067U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014025117A (ja) * | 2012-07-27 | 2014-02-06 | Yuutekku:Kk | プラズマｃｖｄ装置及び磁気記録媒体の製造方法 |