JPS62175559U - - Google Patents

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JPS62175559U
JPS62175559U JP6285686U JP6285686U JPS62175559U JP S62175559 U JPS62175559 U JP S62175559U JP 6285686 U JP6285686 U JP 6285686U JP 6285686 U JP6285686 U JP 6285686U JP S62175559 U JPS62175559 U JP S62175559U
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JP
Japan
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extraction electrode
plasma
ion beam
beam generator
generation means
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JP6285686U
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例の構成図、第2図は
一実施例装置のイオン電流密度分布を説明するた
めの図、第3図は従来装置を説明するための図、
第4図は従来装置のイオン電流密度分布を説明す
るための図である。 1:ガラス導入パイプ、2:円盤状電極、3:
円筒状電極、4:プラズマ発生室、5:RF電源
、6:引出し電極、7:電極用電源、8:試料、
9:フアラデーケージ、10:電流計、11:電
磁石、12:制御マスク。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 周囲に磁石が配置されたプラズマ発生手段と、
    該プラズマ発生手段と試料との間に多数の孔を有
    する引出し電極とを備え、該プラズマ発生手段よ
    りのプラズマから該引出し電極によりイオンを加
    速して引出すように構成された装置において、前
    記引出し電極に形成された一部の孔を塞ぐための
    制御用マスクを設けたことを特徴とするイオンビ
    ーム発生装置。
JP6285686U 1986-04-25 1986-04-25 Pending JPS62175559U (ja)

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JP6285686U JPS62175559U (ja) 1986-04-25 1986-04-25

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JP6285686U JPS62175559U (ja) 1986-04-25 1986-04-25

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JPS62175559U true JPS62175559U (ja) 1987-11-07

Family

ID=30897537

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6285686U Pending JPS62175559U (ja) 1986-04-25 1986-04-25

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JP (1) JPS62175559U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010519710A (ja) * 2007-02-26 2010-06-03 ビーコ・インスツルメンツ・インコーポレーテッド イオン源およびイオン源の電磁石を動作させる方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010519710A (ja) * 2007-02-26 2010-06-03 ビーコ・インスツルメンツ・インコーポレーテッド イオン源およびイオン源の電磁石を動作させる方法

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