JPS6180497U - - Google Patents

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JPS6180497U
JPS6180497U JP15509084U JP15509084U JPS6180497U JP S6180497 U JPS6180497 U JP S6180497U JP 15509084 U JP15509084 U JP 15509084U JP 15509084 U JP15509084 U JP 15509084U JP S6180497 U JPS6180497 U JP S6180497U
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anode
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holes
sputter
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JP15509084U
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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図および第２図は本考案の放射性ガスの固
定化処理装置の一実施例を示す縦断面図および横
断面図、第３図は従来提案されている放射性ガス
をイオン化注入する注入装置の概要を示す断面図
、第４図および第５図は第３図に示した装置の動
作原理を説明するための説明図である。 ２０…冷却水入口、２１…冷却水出口、２２…
円筒状容器、２３…加速電極、２４…スパツタ電
極、２５…絶縁体、２６…アノード電極、２７…
ハーメチツクシール、２８…蓋、２９…カソード
電極、３０…リード線、３１…蓋、３２…排気管
、３４…ガス導入管、３６…イオン源室、３７…
第１の直流高圧電源、３８…第２の直流高圧電源
。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 放射性ガスが導入される円筒状容器と、該
    容器の中心部に形成されるイオン源室の上部およ
    び下部に配置された円板状のカソード電極と、前
    記カソード電極の外側に配置され複数の貫通孔を
    有する円筒状のアノード電極と、該アノード電極
    の外側に配置され複数の貫通孔を有する円筒状の
    加速電極と、該加速電極の外側に配置され複数の
    貫通孔を有する円筒状のスパツタ電極と、前記ア
    ノード電極が正極、前記カソード電極が負極とな
    るように高電圧を印加する第１の直流高圧電源と
    、前記アノード電極が正極、前記加速電極が負極
    でかつ前記アノード電極と前記カソード電極間に
    印加する高電圧よりさらに大きい高電圧を印加す
    る第２の直流高圧電源とから構成されることを特
    徴とする放射性ガスの固定化処理装置。 (2) アノード電極、カソード電極およびスパツ
    タ電極が同心円配置である実用新案登録請求の範
    囲第１項記載の放射性ガスの固定化処理装置。 (3) アノード、加速電極およびスパツタ電極の
    各貫通孔がそれぞれ径方向に同じ位置に配置され
    ており、かつスパツタ電極の貫通孔は外側に狭い
    テーパーとなつている実用新案登録請求の範囲第
    １項記載の放射性ガスの固定化処理装置。
JP15509084U 1984-10-16 1984-10-16 Expired JPH0429438Y2 (ja)

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JP15509084U JPH0429438Y2 (ja) 1984-10-16 1984-10-16

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Publication Number Publication Date
JPS6180497U true JPS6180497U (ja) 1986-05-28
JPH0429438Y2 JPH0429438Y2 (ja) 1992-07-16

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