JPS61183463A - 球穀状プラズマ発生装置 - Google Patents

球穀状プラズマ発生装置

Info

Publication number
JPS61183463A
JPS61183463A JP2015185A JP2015185A JPS61183463A JP S61183463 A JPS61183463 A JP S61183463A JP 2015185 A JP2015185 A JP 2015185A JP 2015185 A JP2015185 A JP 2015185A JP S61183463 A JPS61183463 A JP S61183463A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
magnetic field
spherical shell
hearth
anode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015185A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazunari Ikuta
一成 生田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
YUUGOU GIKEN KK
Original Assignee
YUUGOU GIKEN KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by YUUGOU GIKEN KK filed Critical YUUGOU GIKEN KK
Priority to JP2015185A priority Critical patent/JPS61183463A/ja
Publication of JPS61183463A publication Critical patent/JPS61183463A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、イオンプレーティング用の定常プラズマを
閉じ込め能力の高い軸対称な磁場中で発生させ、器壁へ
のプラズマイオンの損失を少なくしたイオンプレーティ
ング用球穀状プラズマ発生装置に関する。
〔従来技術〕
従来、この種の装置は既存の真空容器へある種のプラズ
マ発生源を取り付け、軸対称性のない複雑な磁場配位中
にプラズマを導きイオンプレーティングを行わせていた
。
〔従来技術の欠点〕
軸対称性のない磁場中ではイオンは容易に磁力線を横切
って運動し器壁への損失が多い上にイオン流の空間一様
性がないので、めっき効率が低いばかりでなく大きなめ
っき試料を一様にめっきするのが難しかった。
〔発明の目的〕
この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ためになされたもので、めっきを行うに必要な、プラズ
マ源やハース等の付属物も含めて軸対称とし、プラズマ
の閉じ込め能力を向上させ、大きなめっき試料も一様に
めっきできる装置を提供する事を目的としている。
〔発明の構成〕
以下、この発明の実施例を第１図を用いて説明する。
〔発明の作用、動作〕
球殻状にプラズマを閉じ込める磁場配位を形成するのに
は２個の棒磁石を１図のように配置する。
めっきのイオンを作るハースの下には、強い棒磁石（１
）を用い・プラズマ源（２）の後方に比較的弱い補助磁
石（３）を同じ極性が相対するように配置する。
適当なプラズマ源を用いて、ハース上方からプラズマを
下方に向かって注入すると一部のプラズマは磁力線（４
）に沿ってハース下の円筒形陰極（５）に達する。残り
のプラズマは磁場中性点（６）を横切って陽極（７）も
兼ねたハース及び円筒形陰極へ達し、やがてハースと円
筒形陰極はプラズマによって連絡されると同時に、プラ
ズマは球殻状（８１になる。更にハースと円筒形陰極は
定常電源（９）から電力が供給されているので陰極はプ
ラズマイオンによって衝突を受け、陰極材に応じた電子
源さして働き得る温度を維持せしめる事が出来るように
なる０この時点では反応用ガス顛の圧力を一定に保てば
上方のプラズマ源からプラズマの供給を止めても球殻状
プラズマは維持される。
かくして、イオンコレクターＩへ電圧を掛ければプラズ
マイオンが吸収されめっきされる。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、磁場配位をプラズマ閉
じ込め能力の高い軸対称性としたので磁場配位を構成す
る磁石の数が極めて少なくてすみプラズマは球殻とした
ので同一体積あたりの表面積を大きく順れるばかりでな
く対称軸のまわりに均等にプラズマ流を発生し得るので
大きな物を一様にめっきする事が出来るようになる等の
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は、球殻状の定常プラズマ発生装置を示す図。 （１１強い棒磁石 （２）　　プラズマ源 （３）弱い補助磁石 （４）磁力線 （５）円筒形陰極 （６）　　磁場中性点 （７）　　陽極も兼ねたハース （８）　　球殻状プラズマ （９）　　定常電源 Ｑｌ）　　反応用ガス導入口 （ｌυ　イオンコレクター ６２　　絶縁物 α３　磁石の埋められた鉄往（ハースの支持を兼ねる） ａ尋　真空ポンプ ａ９　　対称軸 ノ面 龜 第１１！ｌ　　　　　Ｉ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. イオンプレーティング用の定常プラズマを閉込め能力の
    高い軸対称な磁場中で発生させ、器壁へのプラズマイオ
    ンの損失を少なくしたイオンプレーティング用球穀状プ
    ラズマ発生装置
JP2015185A 1985-02-06 1985-02-06 球穀状プラズマ発生装置 Pending JPS61183463A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015185A JPS61183463A (ja) 1985-02-06 1985-02-06 球穀状プラズマ発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015185A JPS61183463A (ja) 1985-02-06 1985-02-06 球穀状プラズマ発生装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61183463A true JPS61183463A (ja) 1986-08-16

Family

ID=12019150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015185A Pending JPS61183463A (ja) 1985-02-06 1985-02-06 球穀状プラズマ発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61183463A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4941430A (en) * 1987-05-01 1990-07-17 Nihon Sinku Gijutsu Kabusiki Kaisha Apparatus for forming reactive deposition film
US5079033A (en) * 1988-12-21 1992-01-07 Technics Plasma Gmbh Process and apparatus for resin-coating of extrusions
US5433788A (en) * 1987-01-19 1995-07-18 Hitachi, Ltd. Apparatus for plasma treatment using electron cyclotron resonance

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5433788A (en) * 1987-01-19 1995-07-18 Hitachi, Ltd. Apparatus for plasma treatment using electron cyclotron resonance
US4941430A (en) * 1987-05-01 1990-07-17 Nihon Sinku Gijutsu Kabusiki Kaisha Apparatus for forming reactive deposition film
US5079033A (en) * 1988-12-21 1992-01-07 Technics Plasma Gmbh Process and apparatus for resin-coating of extrusions

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4233537A (en) Multicusp plasma containment apparatus
WO2003105182A3 (en) TOROIDAL PLASMA SOURCE WITH INDEPENDENT DRIVE AND MAGNETIC ION DISTRIBUTION CONTROL
US4068147A (en) Method and apparatus for heating and compressing plasma
JPS61183462A (ja) 磁石やコイルの磁場を利用したパイプ等の内面イオンプレ−テイング装置及びその方法
GB881786A (en) Plasma device
GB862900A (en) Continuous plasma generator
JPS61183463A (ja) 球穀状プラズマ発生装置
JPS59232420A (ja) ドライエツチング装置
JPS57203781A (en) Plasma working device
CN115163440A (zh) 一种用于固体工质的霍尔推力器阳极结构
JPH0423400B2 (ja)
GB913469A (en) Improvements in or relating to thermonuclear plasma apparatus
JPS5511127A (en) Forming method for oxidation film
JPS5740845A (en) Ion beam generator
JPS648624A (en) Plasma apparatus
JPS6481200A (en) Outside device for beaming ion to cyclotron
JPS5638819A (en) Dry etching device
JPS5553422A (en) Plasma reactor
JPS6459747A (en) Ion beam shaping device
JPH0822802A (ja) 二重圧力勾配型ｐｉｇ放電によるプラズマプロセシング 装置
JPS61124029A (ja) 高周波イオン源
JPS62175559U (ja)
JPH06139978A (ja) パルス駆動型の電子サイクロトロン共振イオン源
EP0106917A1 (en) Gas electrical hydrogen generator
JPS6483699A (en) Method for electropolishing inner surface of relatively small vessel with coiled electrode