JPS6247131A - 反応性イオンエツチング装置 - Google Patents

反応性イオンエツチング装置

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JPS6247131A
JPS6247131A JP60187611A JP18761185A JPS6247131A JP S6247131 A JPS6247131 A JP S6247131A JP 60187611 A JP60187611 A JP 60187611A JP 18761185 A JP18761185 A JP 18761185A JP S6247131 A JPS6247131 A JP S6247131A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
cathode electrode
reactive ion
ion etching
insulator
Prior art date
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Pending
Application number
JP60187611A
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English (en)
Inventor
Naoki Inagaki
直樹 稲垣
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の加工に用いる反応性イオンエツチ
ング装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種の反応性イオンエツチング装置は第２図に
示すように、平行平板型対向電極のカソード電極４にウ
ェハ１を載置し、対向電極をアノード側に設定し、両電
極間の電位差を利用して、異方性エツチングを行うこと
を原理とする。またウェハ１の周辺部には環状の絶縁体
３を設置し、絶縁体３にてウェハ部分を除いてカソード
電極４の上面を被覆させていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来の反応性イオンエツチング装置は、被エツ
チング物であるウェハ１が１つの電極の働きをしている
ため、ウェハ周辺部で電界集中により工、チンダレ−１
・が増進され、ウェハ内で均一性のよいエツチング特性
が得られないことから、安定ｉ〜だ高い歩留りを得るこ
とができないという欠点がある。
本発明は前記問題点を解消するもので、ウェハ周辺部で
の電界集中を緩和し、ウェハ内に均一性のよいエツチン
グを行うイオンエツチング装置を提供するものである。
〔問題点を解決するだめの手段〕
本発明はカソード電極のウェハ載置部に凹部を設けてウ
ェハをカソード電極表面よりもくぼんだ位置に載置し、
更にウェハの外周縁に環状の導電体を設置したことを特
徴とする反応性イオンエツチング装置である。
〔実施例〕
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
第１図は本発明の反応性イオンエツチング装置のカソー
ド電極部分の概略図である。第１図においで、カソード
電極４の一部に凹部４ａを設け、該凹部４ａ内にウェハ
１を収納し、該ウェハ１をカソード電極表面よりもくぼ
んだ位置に載置し、ウェハｌの外周縁に環状の導電体２
を配設する。
またウェハ１及び導電体２の部分を除いたカソード電極
４の表面上を絶縁物３で被覆する。さらに、カソード電
極４の表面を抽鉢状に窪１ぜて、ウェハ１の表面の外縁
よりカソード電極４を通して絶縁物３の表面までを弧状
に連続させて接合する。
５は高周波電源である。
したがって、ウェハ１と環状の導電体２とが界面なく接
するため、ウェハ周囲部に電界が集中することはなく、
均一な電界が形成され、その結果均一性の良いエツチン
グ特性が得られる。
〔発明の効果〕
以北説明したように本発明による反応性イオンエツチン
グ装置は、半導体装置」二の被工、チング物ヲエッチン
グする際に、ウェハをカソード電極表面よりもくぼんだ
位置に載置し７、更にウェー・の周囲をウェハと連続的
に導電体で囲むことにより、電界の集中を緩和でき、し
たがって均一性の良いエツチングが可能となり、安定し
た高い歩留りを得ることができる効果を有するものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の反応性イオンエツチング装置のカソー
ド電極部分の概略図、第２図は従来の反応性イオンエツ
チング装置のカソード電極部分の概略図である。 １・・・被エツチング物ウェハ、２・・・導電体、３・
・・絶縁物、４・・・カソード電極、５・・・高周波電
源。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）反応性イオンエッチング装置のカソード電極のウ
    ェハを載置する部分に凹部を設けてウェハをカソード電
    極表面よりもくぼんだ位置に載置し、更にウェハの外周
    縁に環状の導電体を設置したことを特徴とする反応性イ
    オンエッチング装置。
JP60187611A 1985-08-27 1985-08-27 反応性イオンエツチング装置 Pending JPS6247131A (ja)

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