JPS60112821A - 芳香族ポリエステルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は芳香族ポリエステルの製造法に係り、更に詳し
くは二価フェノール類とテレフタル酸シバライド及びイ
ソフタル酸シバライドとを用い、界面重縮合反応により
品質の優れた芳香族ポリエステルを製ｊｚ、するフｉ法
に関する。

従来より、Ｔ−記−ｆ役式（川） ・・・・・・・・・　（■） （式中、Ｒは炭化水木基、ハロゲン原子、アルコキシ基
またはフェノ痺シ基を示す）で表わされる構造単位を有
づ−る重合体は溶融重合法で製造できることが知られて
いるが、これらの方法はいずれも、２　、Ｓ−ｏ　℃以
上の高温で反応させることが必要であり、そのため得ら
れた重合体は着色及び劣化が著しく、また熱エネルギー
の損失も大きい。

本発明者等はか〜る欠点を鑑み、鋭意検討を行なった結
果、着色の彦い重合度の高い優ねた性質を有する芳香族
ポリエステルを非常に温和な灸件下で工業的に有利に製
造し得る方法を見い出した。

即ち９本発明の要旨は、一般式（し ４１ （式中　Ｒ１は炭化水素基、〕・ロゲン原子、アルコキ
シ基、フェノキ基を示すノで表わされるコ価フェノール
ｑｔｏｏ〜４５モル％と、　−６式（ （式中、Ａは酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カル
ボニル基、アルキレン基、アルキリデン基、またはなし
を示し　Ｒ２−Ｒ９は氷菓原子、ハロゲン原子、または
炭化水素基を示す〕で表わされるビスフェノール類θ〜
３３モルチとからなるジフェノール類のアルカリ水溶液
と、テレフタル酸ジハライドタＯ〜ｌＯモル係とイソフ
タル酸シバライドｌＯ〜９０モル係とからなる酸シバラ
イドの有機溶剤溶液とを、触媒の存在下または不存在下
に、接触させて界面重縮合反応することを特徴とする芳
香族ポリエステルの製造法に存る。

本発明をざらに説り１するに、本発明方法に用いられる
ジフェノール類のうち、前記一般式（ＩＪで表わされる
２価フェノール翔の具体例としては、メチルハイドロキ
ノン、エチルハイドロキノン、ｎ−１０ビルハイドロキ
ノン、イノプロピルハイドロキノン、イソブチルハイド
ロキノン、クロロハイド口片ノン、フルオロハイドロキ
ノン、ブロモハイドロキノン、イオドハイドロキノン、
フェニルハイドロキノン、メトキシハイドロキノン、フ
ェノキシハイドロキノン等が挙げられるが、一般式（Ｉ
Ｊで表わされるものはいずれも使用でき、これらは亀独
で用いてもよく５又混合物として用いてもよい。コスト
の点からメチルハイドロキノンが最も好ましい。

ジフェノール類のうち一般式（ＩＩＪで表わされるビス
フェノール頷の具体例としては、Ｊ、？、−ビス（ダー
ヒドロキシフェニルノプロパン。

コツニービス（グーヒドロキシ−３，Ｓ−ジメチルフェ
ニルノプロパン、ユ、２−ビス（ｑ−ヒドロキシ−３，
Ｓ−ジクロロフェニル）−フ“ロパン、２．２−ビス（
ｔ−ヒドロキシ−３−メチルフェニルノプロパン、２．
．２−ビス（４１−ヒドロキシ−３−１０ロフエニルノ
ーフロパン、ビス（ターヒドロキシフェニルラーメタン
、ビス（ｌＩ−ヒドロキシ−３，Ｓ−ジメチルフエニ）
Ｖ）−メタン、ビス（グーヒドロキシ−３，Ｓ−ジクロ
ロフェニルノーメタン、ビス（グーヒドロキシ−３、ま
−ジブロモフェニル）−メタン、／、／−ビス（ターヒ
ドロキシフェニルフシクロヘキサン。

≠、り′−ジヒドロキシジフェニルビス（ｌＩ−ヒドロ
キシフェニルノーケトン、ビス（クーヒドロキシ−３１
Ｓ−ジメチルフェニル〕−ケトン、ビス（４ｔ−ヒドロ
キシ−３，左−ジクロロフェニル）−ケトン、ビス（ｌ
Ｉ−ヒドロキシフェニルンスルフイド、ビス（ｙ−−ヒ
ドロキシ−３−りＩ：＋ロフェニルノースルフイド、ビ
ス（Ｕ−ヒドロキシ−，３，！；−シクロロフェニルン
ースルフイド。

ビス（ｉｘ−ヒドロキシフェニルノースルホン、ビス（
クーヒドロキシ−３，Ｓ−２２０口フェニルンエーテル
、夕、り′ンヒドロキシビフェニル等が挙げられ、これ
らは単独もしくは混合物として使用してもよいがコスト
の点からコ、コービス（４ｔ−ヒドロ乎ジフェニル〕ブ
ロノ（ン、ビス（クーヒドロキシフェニル」スルホン、
９４’−ジヒドロキシジフェニルが最モ好ましい。

本発明に」ｄいては、ジフェノール類として前記一般式
（目で衣わさね、るコ価フェノール類を単独で用いるか
、或は該コ価フェノール頌を６Ｓモル％以上と該前記一
般式（１１ノで表わされるビスフェノール頷を３３モル
％以下とを併用して用いるが、該ジフェノール類はアル
カ１１水溶液に溶解して反応に併される。アルカリの濃
度は該ジフェノール類を溶解するに充分な濃度でよく、
通常／〜１５Ｎ量％の範囲から選ばれる。アルカリとし
てはＮａ０）（、ＫＯＩＩ、ＬｌｏＨ。

Ｋ２Ｏ０３、Ｎａ２（＋０３等が挙げもね、その使用量
としては該ジフェノール類に対して流計２倍モル以上添
加ずればよい。該２価フェノール頌ト該ビスフェノール
類とを併用するときは、アルカリ水溶液に両者を溶解し
てもよく、またそれぞれを別々のアルカリ水溶液に溶解
し、これを重縮合反応器中で混合しても良い。

本発明では該ジフェノール類と酸シバライドとをＪＭ　
Ａｉ合反応せしめるが、酸シバライドとしてはテレフタ
ル酸シバライドとイソフタル酸シバライドとが併用すｌ
ｌｌする。

本発明で用いるイソフタル酸シバライド成分としてはイ
ソフタル酸ジクロリド、イノフタル酸ジフルオライド、
イノフタル酸シバライドおよびイソフタル酸ジイオダイ
ドが挙げられるが、コストの点からイソフタル酸ジクロ
リドが最も好ましい。またテレフタル酸シバライド成分
としてはテレフタル酸ジクロリド、テレフタル酸ジフル
オライド、テレフタル酸シバライドおよびテレフタル酸
ジイオダイドが挙げられるがコストの点からテレフタル
酸ジクロリドが最も好ましい。これらのイノフタル酸シ
バライドとテレフタル酸／ハライドとの使用割合はモル
比でｔｏ：ｔｏないし、りθ：１０の割合、好ましくは
Ａ、ｔ：、３！；ないし＋５：　６５の割合で使用する
。このよ）なモル比の場合、溶融成形可能な液晶温度領
域を有する全芳香族ポリエステルが製造されるため射出
成形が容易に出来。

高剛性で耐熱性の高い芳誉族ポリエステル成形物を得る
ことが出来る。

該酸シバライドの使用は、即ちテレフタル酸シバライド
と・イノフタル酸シバライドとの総使用喰は前記ジフェ
ノール類１モルに対し０．５モル以上用いるのが好まし
い。本発明で用いるイソフタル酸シバライドおよびテレ
フタル酸シバライドは有機溶剤溶液として供せられるが
、その場合用いられる有機溶剤としては、水と相溶性の
ないものが使用さね、す６体的に１；塩化メチレン、二
塩化エチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素
、トルエン、ベンゼンなどが使用出来るが、生、先した
ポリユースデルの溶媒であることが好ましく、環化メチ
レン、ｌ、２−ジクロロエタン−／、！、ココ−＋１　
タロロエタン、／、ｌ、ユ、、２−テトラクロロエタン
％ｑ　フＩ’、用いられる。

この溶液の酸クロリド濃度は反応条件、有機溶剤への溶
解性などにより変化するが通常−〜３０重量％が用いら
れる。また酸シバライドは水により加水分解を起すので
有砂溶剖中の水は少ないことが望まれる。

本発明で用いるテレフタル酸シバライドとイソフタル酸
シバライドとからなる有（グρ溶剤溶液は、該有様溶剤
に両者を溶解して用いてもよく、また−万の酸シバライ
ドの有（１１士溶剤溶液と他の酸シバライドの有様溶剤
溶液とを湿製し１両者をＭ縮合反応系に同時に添力口し
て用いてもよく、糸に添加し、他の酸ンハライドの有様
溶剤溶液を後に添加して用いてもよい。

本発明では、前記した該ジフェノール類のアルカリ水溶
液と該ＬＳＩシバライドの有機溶剤溶液とを界面重縮合
反応せしめ芳香族ポリエステルを製造する。界面重縮合
反応はカルボン酸シバライドの羽１３溶剤溶液とジフェ
ノール類のアルカリ性水溶液との接触により生起するが
、これらの接触はカルボン酸シバライト溶液にジフェノ
ールぬ１のアルカリ性水＠’Ｍを添加してもよく、その
逆でも更には両者の同時供給でもよく、又反［６形式は
回分式でもよく、連続式でもよいが、両相は相互に相溶
性がないため、極力均一に分散することが必委で、ある
。

本発明における界面４［Ｅボ１ぺ合成石は触媒の不存在
下、または存在下で実施される。触媒の不存在下でも該
ジフェノール類とＪＷシバライドとの重縮合反応は光分
達成されるが、触媒を存在させた万が反応が速く、また
重合度を冒め易いので好ましい。触媒としては、第三級
アミン、第ｑ級アンモニウム化合物、第を級ボスホニウ
ム塩等の界面重合の触媒として用いもえするものはいず
れも使用可能であるが、触媒として下記一般式［ＩＩＶ
］〜〔厘〕から選ばＪしる少なくとも一種の化合物を用
いること力＼好ましい。

一般式〔■■〕 １３ （式中、１（ＩＣ，Ｈｌｌ、Ｒ１２、ＨＩ３およびＲ１
４は水素原子またはアルキル基であり、Ｒ１０、■（ロ
　１ｑ１２．　ＨＩ３およびＲ１４のうち少なくともｌ
ケはアルキル基であり。

Ｒ１５、ＨＩ６および１（１７は炭素数／ユ以下のアル
キル基であり、Ｘｉは水酸基または・・ロゲン原子であ
るノで表わされる化合物、例えばノーメチルー５−ラウ
リルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド ルトリメチルアンモニウムブロマイド％−一メチルー３
ーセシルペンジルトリエチルアンモニウムクロリド、３
−−ステアリルベンジルトリメチルアンモニウムハイド
ロオギシド．、２−メチル−５−オクチルベンジルトリ
ブチルアンモニウムクロリドなどが挙げられる。

一般式〔ｖ〕 Ｃ式中，Ｒ１８、Ｒ１９．　Ｒ２０およびＲ２１は水素
原子またはアルキル基であり．Ｒ２２、Ｒ２３．　Ｒ２
４、Ｒ２５、Ｒ２６およびＲ２７はアルキル基でありＹ
ｌは水酸基またはハロゲン原子である）で表わされる化
合物、例えば−一メチルー５ーラウリルー１１３ーキシ
リレンビストリメチルアンモニウムクロ１ノド、左−ス
テアリル−／，３−キシリレンビストリエチルアンモニ
ウムクロ１Ｊド，２−メチル−３−オクチル−／，３−
キシリレンビストリブチルアンモニウムブロマイド、ニ
ーメチルー５ーセシルーｌ，３ーキシリレンビストリプ
ロピルアンモニウムハイドロオキシド、ニーオクチル−
／７／Ｉ−キシリレンビストリエチルアンモニウムノｈ
イドロオキシド等が挙げられる。

一般式ＣＶＤ （式中、ＲＩＢは炭素数，７〜ｌユのアルキル基であり
、Ｒ２９およびＲ３０は炭素数／〜／コのアルキル基で
あり、但し．　Ｈ２Ｍ．　Ｒ２９およびＲ３０の炭素数
の和は７〜３Ａであり、Ｚｌは水酸基または）・ロゲン
原子であるンで表わされる化合物１例えばベンジルトリ
ｎ−ブチルアンモニウムクロリド。

ベンジルトリｎ−プロピルアンモニウムブロマイド、ベ
ンジルトリり一ヘキシルアンモニウムクロリド、ベンシ
ルト９１日Ｏープロピルアンモニウムクロ ンモニウムクロリド、ベンジルジｎーオクチルｎープロ
ピルアンモニウムクロリド、ペンジルｎ−へキシルジメ
チルアンモニウムクロリド、ベンジルｒｌ−ブチルジエ
チルアンモニウムクロリド、ベンジル１１−オクチルジ
メチルアンモニウムブロマイド、ベンジルラウリルジメ
チルアンモニウムクロリド等が挙げら第１る。

一般式［ＶＩＤ （式中　Ｒ３１、工（３２，１（３３，Ｔ（３４および
）（３５は水素原子またはアルキル基であり、Ｒ３６は
アルキル基、アリール基またはアラルギル尤であ）つ、
ｘ２はハロゲン原子または水酸基であるノで表わさｉす
る化合物、例えばＮ−ラウリルピリジニウムクロリド、
Ｎ−ラウリル−グーピコリニウムクロライド、Ｎ−ステ
アリルピリジニウムブロマイド、１１−ベンジルピコリ
ニウムクロライド、Ｎ−オクチル−ｑ−ピコリニウムク
ロライド、Ｎ−フェニルビリンニウムクロリド、Ｎ−ラ
ウリル−ユ、クージメチルピリジニウムブロマイドなど
が挙げられる。

一般式〔■〕 （式中、Ｒ３７，Ｒａ［ｌ、Ｒ３９、Ｒ４０オＪ：　ヒ
Ｒ４１ハ氷菓原子またはアルキル基であり、Ｒ４２けア
ルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、Ｙ２
はハロゲン原子または水酸基である）で表わされる化合
物、例えハトリフェニルメチルフォスホニウムアイオダ
イド、トリフエニルベンジルフォスホニウムクロリド、
トリフェニル−ｎ−プチルフオスホニウムブロマイド、
テトラフェニルフオスホニウムブロマイド、トリノニル
フェニルメチルフオスホニウムアイオダイド、トリフェ
ニルステアリル７オスホニウムフ゛ロマイド、トｌＪフ
ェニ／ｌ／　−ｎ　−７１−クチルフォスフォニウムハ
イドロオキシド、などが挙げられる。

一般式〔１Ｘ〕 （式中、　１（’３．　、Ｈ祠、１枦およびＲ４６は炭
素数ｌ〜ユＳのアルキル の炭素数の相が７以上でふり　Ｚ２は水酸基またはハロ
ゲン原子である〕で表わされる化合物、例エバテトラ−
ｎ　−　ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−
プロピルアンモニウムクロリド、テトラ−１１−ペンチ
ルアンモニウム、クロリド、テトラ−　１１−ヘキシル
アンモニウムクロリド、テトラ−ｎ　−一＼キシルアン
モニウムブロマイド、テトラ−　１１−オクチルアノモ
ニウムクロリド，テトラ−Ｕ−エチルヘキシルアンモニ
ウムクロリド、テトライノプロピルアンモニウムブロマ
イドなどか挙げられる。

−　般式　しＸ〕 （　式中．　Ｒ４７はアルキル基，ベンジル基またはフ
ェニル基であり、２１は水酸基またはハロゲン原子であ
る）で表わされる化合物、例えばＮ−ｇ−ベンジル−／
，ｇ−ジアザビシクロ〔左，ｘｉ，ｏ〕タウンセン−７
−クロリド、Ｎ−ｒ−７”チルー／，ｆ−ジアザビシク
ロ［ｓ，ｔｒｔ，ｏ］ラウンセン−７−ブロマイド、Ｎ
−ｇ−メチル−ｔ，ｇ−ジアザビシクロ［ｔ４，ｏ］ラ
ウンセン−７−イオダイド、Ｎ−ざーセチルーｌ，ｇ−
ジアザビシクロ〔ｓ，ｐ，θ〕ウンデセン−７−クロリ
ド等が挙げられる。

一般式ＣＸＤ （式中、Ｒ４８はアルキル基，ベンジル基または）エニ
ル基であり、ｘ４は水酸基またはハロゲン原子である）
で表わされる化合物１例えばラウリルイソキノリウムブ
ロマイド、ステアリルイソキノ】Ｊウムクロリド、セチ
ルイソキノリウムクロリド、ベヘニル・イソキノリウム
クロＩＪド等が挙げられる。

一般式［ＸＩＤ （式中、Ｒ４９およびＲｈｏはアルキル基、ｎは１〜ｊ
の数、Ｘ５は水酸基またはハロゲン原子である〕で表わ
される化合物１例えばｌ−ヒドロギシエチルーｌ−メチ
ル〜コーステアリルイミダゾリニウムクロリド、／−ヒ
ドロキシエチル−ノーメチルーーーラウリルイミダゾリ
ニウムブロマイド、ｌ−ヒドロギシブチル−７−ブチル
ーコーセチルイミダゾリニウムクロリド等が挙げられる
。

一般式［ＸＩＪ Ｃ式中、Ｈ５＋およびＲ５２はアルキル基、ベンジル基
、ｍおよびｐは／−３の数、ｘ６は水酸基またはハロゲ
ン原子である）で表わされる化合物。

例えばジヒドロキシエチルラウリルベンジルアンモニウ
ムハイドロオキシド、ジヒドロキシエチルジラウリルア
ンモニウムクロリド、ジヒドロキシエチルジステアリル
アンモニウムブロマイド、ジヒドロキシブチルステアリ
ルベンジルアンモニウムクロリド等が挙げられる。

上記したこれら（ＩＶＪ〜（ＸＩＪの触媒は、それぞれ
単独で使用してもよいし、任意の割合で混合して使用し
てもよい。また重合の際使用する触媒の酸は生成ボ＋ｌ
マー（／θθ係反応するとして）１００重量部に対して
ｏ、ｏθ／　−，２０重量部であＱ、好ましくはｏ、ｏ
ｏｒ〜！重量部である。また触媒の添加はジフェノニル
類のアルカリ水溶液および酸クロリドの有機溶斉１１溶
液のいずれでもよい。

な：ｊ、５．重縦合反応に際してハイドロサルファイド
等の酸化防止剤を使用してもよい。

また攪拌槽に付属する攪拌羽根の形状はファウドラー型
、タービン型、平板型、スクリュー形などいすハも使用
出来るがファウドラー型あるいはタービン型を用いるこ
とが好ましい。また必要に応じてジャマ板をもうけるこ
とによりＪ）拌を強化することが好ましいことはいうま
でもないことである。

また東金は１１拌情中、カロ圧で行なってもよい。

通常＝ｓ℃〜ＳＯ℃のｙｌ＋Ｎ度範囲から選ばれる。

重合反応に続いて塩化アルカリ塩を含んだ水相と芳香族
ポリエステルが溶けている有機溶媒相との分離を行なう
。この分離は、静置分液あるいは遠心分＃機などによる
様械的分離などによって行なう。必要に応じて、アルカ
リ水、酸性水、中和水などにより引き続き、ポリマー層
の洗浄も可能である。ポリマーを有機溶媒溶液から単離
するにあたって、その単離方法としては公知のいずれの
方法もとられる。必要ならばポリマーヲ更にメタノール
、エタノール、アセトン、ヘキサン、キシレンなどの有
機溶媒で洗浄する。

本発明で得た芳香族ポリエステルは多くの利点を有して
いる。すなわち射出成形が容易に出来、その成形物引張
り強度５曲げ強度、引張り弾性率１曲げ弾性率などの機
械的性質、面１熱性、熱分解開始温度、電気的性ａ゛、
寸法安２を性に優れ、吸湿、吸水率が低い。

また成形品以外に、フィルムおよびセンイと−しても有
望である。以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。

実施例１ ７アウドラー型撹拌翼、バッフルを装備した反応容器に
水３００ｍ１を入れ、ハイドロサルファイドナトリウム
。、Ｉｇ、水酸化ナトリウム／、６ざＩを溶解させる。

次に反応容器内に窒素を流しながらメチルハイドロキノ
ン２．ｌＩｇｊｊｆ７カ１１え溶解さぜる。

別にイソフタル酸ジクロリドへｑ９９とテレフタル酸ジ
クロリド７．９９ｇとを／　！；　Ｏｍｌの均化メチレ
ンに溶解した溶液を調製する。

上記メチルハイトロキノンアルカリ水溶液にベンジルト
リブチルアンモニウムクロリド０．０３ｆｌをカロえ５
．２０℃に保ちｇ　ｏ　ｏ　ｒｐｍの回転数で投拌しな
がら、酸クロリド塩化メチレン溶液を一度に加える。

そのまま反応を続は一時間後に（Ｗ拌を止めると、水相
ど有機相とが分離する、有機相を犬輸のメタノール中に
あり゛１ポリマーを析出させる。

このボ＋ｌマーを引き続き温水、熱メタノールで洗浄し
、ｌユＯＣで乾燥させる。、得られたポリマーは着色し
ていなかった。このボ１Ｊマーのフェノール／　／、’
／、ユ、、Ａ−テ）ラクロロエタンＣ！；０／左０重世
バーセント）中３０℃で測定したηｉｎｈ　＝コ、ｏｔ
ｉであり、３００”Ｃで押し出したストランドのソニッ
クモジュラス（思８）はｌユ、、７ＧＰａであった。

実施例コ イソフタル酸ジクロリドを２．３９ｇおよびテレフタル
酸ジクロリドをｉ、ｓｑｇ用いた以外実施例／と同様の
方法で反応を行なった。その結果得られた重合物のηｉ
ｎｈは／、９ダｄｌ／ｇでありＥｓは／　／、９　ＧＰ
ａであツタ。

実施例３ イソフタル百２ジクロリド八左７ｇおよびテレフタル酸
ジクロＩＪドをコ、、３９９用いた以外実施例１と同様
の方法で反応を行なった。その結果得られた重合物のη
ｉｎｈはθ、　ｇ　ｇ　４１７ｇ　ｃ″あり、８日はグ
、／ＧＰａであった。

実施例ｑ メチルハイドロキノンを２．２３ｇおよヒ占λ−ビス（
Ｉ／−−ヒドロキシフェニルノプロパンをｏ、ｌｌｔ、
ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法で反応を行なっ
た。その結果得られた重合物のηｉｎｈはｔ、ｑ　Ａ　
ａｌｌ／ｇであツタ。

実施例Ｓ メチルハイドロキノ／をユ、２３ｇおよび＜＜４−ジヒ
ドロキシジフェニルをｏ、３ｑｇｍいた以外実施例１と
同様の方法で反応を行なった。その結果、得しれた重合
物のηｉｎｈは／、ｊｆケｄ−１／ｇであった。

実施例６ ベンジルトリブチルアンモニウムクロリドの代りに下記
の触くυＬを使用して実施例１と同様の方法で検Ｊ′、
］シた３、その結果を表−／に示す。

実施例　触　媒　η１ｎｈ ６．２．−メチルＳ−ラウリル−／、３キ　λ、左６シ
リレンビストリメチルアンモニ ウムクロリド ７　Ｎ−ラウリルビリジニウムクロリ　ノ、０３ド ざ　トリフェニルメチルフオスホニウ　ノ、３／ムアイ
オダイト デ　テトラｎ−プチルアンモニウムフ゛　λ、−−ロマ
イト 実施例　触　媒　ηｉｎｈ ／ＱＮ−ｇ−ベンジルーｉ、ｇジアザビ　コ９／３シク
ロ［ｓ、弘、０〕ウンデセン−フ イウムクロ１）ド ／ｌ　ステアリルキノノーウムクロリド　／、ｇ３；／
、２　／−ヒドロキシエチル−７−メチ　／、りＬルユ
ーステアリルイミダゾリウム クロリド ノ３　ジビドロキシエチルラウリル−ミン　ノ、Ｓｇジ
ルアンモニウムノ＼イドａオキシ ド ｌダ　コーメチルー５−ラウυルーベン　９．３ｇジル
アンモニウムクロリド ｌＳ　Ｆリメチルステアリルアンモニウ　ユｌユムクロ
１１ド 出願人　三菱化成工朶株式会社 代理人　弁理士　長谷用　− （ほか１名）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）一般式（１） Ｃ式中　Ｈｌは炭化水素基、ノ・ロゲン原子、アルコキ
   シ基、フェノキ基を示すフで表わされルコ価フェノール
   類／　００−Ａ　５モル％と、一般式（■ン （式中、Ａは酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カル
   ボニル基、アルキレン基、アルキリデン基、またはなし
   を示し、Ｒ２〜丘９は水素原子、ハロゲン原子、または
   炭化水素基を示す〕で表わされるビスフェノール類θ〜
   ３５モルチとからなるジフェノール類のアルカリ水溶液
   と、テレフタル酸シバライド？θ〜１０モル係トイソフ
   タル酸シバライドｌＯ〜９０モル係とからなる酸シバラ
   イドの有機溶剤溶液とを、触媒の存在下または不存在下
   に、接触させて界面重縮合反応することを特徴とする芳
   香族ポリエステルの製造法。 （２）該ジフェノール類として前記一般式（ＩＪで表わ
   されるコ価フェノール類のみ゛と用いることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の製造法。 （３）該触媒が、Ｆ記一般式Ｃ■）〜（ＸＮ）で表わさ
   れる化合物から選ばれた少くとも１種の化合物であるこ
   とを特徴とする特ｆ＋請求の範囲第１項記載の製造法。 （ｆＬ）　一般式［ＩＶ） Ｃ式中、ＲＩＯ、Ｒ１１、）＋１２．、　Ｒ１３および
   ＲＩ４は水素原子またはアルキル基であり、ＲＩＧ　、
   　Ｒｕ　、　Ｒ１２゜ＲＩ３およびＲ１４のうち少なく
   ともｌケはアルキル基であり、Ｒ１５，Ｒ１６およびＲ
   Ｉ７は炭素数ノコ以下のアルキル基であり、ｘｌは水酸
   基またはハロゲン原子である）で表わされる化合物。 （ｂ）　一般式ＣＶＩ （式中、ｌ（＋８．　Ｒ１９、Ｒ２ＯおよびＲ２＋は水
   素原子マタハ７　ルキル、２７−ｊ　−（’　、％　ｔ
   ）、Ｒ２２、ｎ２３．　Ｒ２４、ｒｔｚｓ　。 Ｈ２ｈおよびＲ２′７はアルキル基であり　Ｙｌは水酸
   基またはノ・ロゲン原子であるノで表わされる化合物。 （Ｃ）　一般式ＣＶＩ］ （式中、Ｒ２Ｂは炭素数３〜ｌ−のアルキル周相は７〜
   ３６であり、Ｚｌは水酸基または）−ロゲン原子である
   ）で表わされる化合物。 ｃｄ）一般式〔■〕 （式中、枦、Ｒ３２、Ｒ３：１．　Ｒ３４およびＲ３５
   は水素原子またはアルキル基でたり５Ｒ３６はアルキル
   基、アリール基またはアラルキル基であり　Ｘ２はハロ
   ゲン原子または水酸基である）で表わされる化合物。 （ｅ）　一般式　〔■〕 （式中、Ｒ３７−：Ｒ３８，Ｒ３９，Ｒ５およびＲ４１
   は水素原子またはアルキル基であり、Ｒ４２はアルキル
   基、アリール基またはアラルキル基であり　Ｙ２は）・
   ロゲン原子または水酸基である）で表わされる化合物 （ｆ）一般式〔■〕 （式中、Ｒ４Ｂ　、　１（４４，１（４５およびＲ４６
   は炭素数／〜、２＆のアルキル基であり、Ｒ４３、Ｒ４
   ４，Ｒ４５およびＲ４６の炭素数の相が９以上であり、
   Ｚ２は水酸基立たは］・ロゲン原子である〕で表わされ
   る化合物 （ｇ）　一般式〔Ｘ〕 （式中、Ｒ４７はアルキル基、ベンジル基またはフェニ
   ル基であり、ｘ３は水酸基または）・ロゲン原子である
   ノで表わされる化合物。 （ｈＪ　一般式■］ （式中、Ｒ４８はアルキル基、ベンジル基またはフェニ
   ル基であり　Ｘ４は水酸基または）＼ロゲン原子である
   ノで表わされる化合物。 （１）一般式［１１１，］ （式中、Ｒ２ＯおよびＲ５０はアルキル基、ｎは／−３
   の数　Ｘ５は水酸基または）・ロゲン原子である）で表
   わされる化合物。 （ｊ）一般式〔ｘ］−［ｌ〕 Ｃ式中、Ｒ５１およびＲ５２はアルキル基、ベンジル基
   、ｍおよびｐは／〜左の数、Ｘ６は水酸基またはハロゲ
   ン原子であるプで表わされる化合物。